大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(一)
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近年來,各種工業(yè)生產規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產線發(fā)展迅速,令人關注。本文針對這一領域,就主要膜系開發(fā)、設備結構、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡單的歸納和介紹。
建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃
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選擇具有良好反射紅外線性能的涂膜,則需具有高電荷載體濃度和移動性。所謂真空鍍膜就是要求結構均勻并缺陷少,且容易流動的電子而形成的鍍膜。所用的金屬主要有金、銀、銅等。其透射率在40%以下,共形成的
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