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更新時間:2025.05.17
Cu含量對TiN-Cu納米復(fù)合膜結(jié)構(gòu)與性能的影響

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為研究納米復(fù)合膜超硬機理和促進(jìn)其商業(yè)應(yīng)用,利用電弧離子鍍制備了Ti N-Cu納米復(fù)合膜,并對其表面形貌、晶體結(jié)構(gòu)、能譜、XPS譜和硬度進(jìn)行研究.結(jié)果表明:沉積膜僅含有Ti N相和少量的Ti相,Ti N相晶粒尺寸隨薄膜Cu含量的增加而逐漸減小;盡管有的沉積膜中Cu原子數(shù)分?jǐn)?shù)高達(dá)8.99%,但仍沒有發(fā)現(xiàn)金屬Cu相或Cu的化合物相衍射峰;沉積膜中Cu元素以金屬Cu的狀態(tài)存在,Ti主要以Ti N相存在,少量以金屬Ti相存在,但沒有Ti2N相;薄膜生長過程中,Cu、Ti和N共沉積,競爭生長,Cu的加入抑制了Ti N晶粒的長大;沉積膜的硬度隨Cu含量增加而增加,達(dá)到最大值后下降,薄膜硬度隨Cu含量變化與薄膜中Ti N相或Cu相尺寸有關(guān).

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為研究納米復(fù)合膜超硬機理和促進(jìn)其商業(yè)應(yīng)用,利用電弧離子鍍制備了Ti N-Cu納米復(fù)合膜,并對其表面形貌、晶體結(jié)構(gòu)、能譜、XPS譜和硬度進(jìn)行研究.結(jié)果表明:沉積膜僅含有Ti N相和少量的Ti相,Ti N相晶粒尺寸隨薄膜Cu含量的增加而逐漸減小;盡管有的沉積膜中Cu原子數(shù)分?jǐn)?shù)高達(dá)8.99%,但仍沒有發(fā)現(xiàn)金屬Cu相或Cu的化合物相衍射峰;沉積膜中Cu元素以金屬Cu的狀態(tài)存在,Ti主要以Ti N相存在,少量以金屬Ti相存在,但沒有Ti2N相;薄膜生長過程中,Cu、Ti和N共沉積,競爭生長,Cu的加入抑制了Ti N晶粒的長大;沉積膜的硬度隨Cu含量增加而增加,達(dá)到最大值后下降,薄膜硬度隨Cu含量變化與薄膜中Ti N相或Cu相尺寸有關(guān).

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