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2002年第 1期 水處理信息報導(dǎo) 超純水中的裝置。其特點還有在超純水生產(chǎn) 裝置上裝有 UV照射裝置 ,將臭氧溶人來 自 超純水生產(chǎn)裝置的超純水中的溶解裝置。填 充有氧化還原催化劑的反應(yīng)段排列在 uv照 射裝置和臭氧溶解裝置之間。該設(shè)備可用于 去除超純水中所含的能促進(jìn)臭氧分解的痕量 物質(zhì) .生成之溶有臭氧的超 純水臭 氧濃度降 低很少 ,甚至在長期供水期間,這樣它適合于 獲得具有高臭氧殘留率的溶有臭氧的超純 水。該溶有臭氧的超純水可用于半導(dǎo)體硅軟 件、液晶顯示玻璃基質(zhì)等。 水 處理 用活r眭炭及其制造 NakazonO, Mitsuyuki等 (Matsushita Electric f ndustria[ 0)+,I td ,l__I1)an) 日本 公 開特 許 公報 】P2000308823 2000,11,7 4頁 (E1文 ) 將有機(jī) 物碳化 、活
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124 化 學(xué) 世 界 式(6)與式(3)的計算結(jié)果相比,平均誤 差為 0.95為,最大誤差小于 2.0衢,在全部計 算范圍內(nèi)與式(3)的計算結(jié)果比較接近,誤差 可以滿足工程計算的要求。但簡化公式 (6) 的形式比較簡 單,使用時比較方便。應(yīng)該指 出,當(dāng)H=0.60和H=O.70時,因為在史密斯 圖上也是虛線,所以回歸式(6)時,沒有考慮 H大 j二0.6的情況,在此范圍內(nèi)式(6)的計算 結(jié)果將偏大,與式 (3)相 比誤差將超過 lo · 綜上所述,’化簡公式(6)可以代替史密斯 圖和公式 (3)來計算氣體負(fù)荷因子 c ,而且形 式簡單,使用方便,結(jié)果準(zhǔn)確,可以滿足工程 l 9 9 D堆 計算的要求。相信會給各種板式塔的設(shè) 計和 計算帶來方便。 致謝:本文承天津大學(xué)麥本熙教授的番 指導(dǎo) 和熱情幫助,在此表示衷心的感謝。 參 考 文 獻(xiàn) [I]Soud
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