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介紹了雙面光刻對準原理及技術(shù)新發(fā)展,表明了不變焦對準的技術(shù)優(yōu)勢。針對玻璃基片設計了十字加方框的對準圖樣,經(jīng)重新調(diào)焦,利用基片透明屬性透過基片標記觀測掩模標記實現(xiàn)對準,不再采用靜態(tài)存儲的掩模數(shù)字圖像作為精對準基準,規(guī)避了可能由物鏡側(cè)移帶來的對準誤差。最后提供了幾種常用的對準標記圖樣,并為了加工操作的便利引入了輔助搜索線。
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