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更新時(shí)間：2025.03.15
真空鍍鋁工藝

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書山有路勤為徑；學(xué)海無涯苦作舟 真空鍍鋁工藝 真空鍍鋁是在真空狀態(tài)下，將鋁金屬加熱熔融至蒸發(fā)，鋁原子凝結(jié)在 高分子材料表面，形成極薄的鋁層。真空鍍鋁要求基材表面光滑、平整、 厚度均勻；挺度和摩擦系數(shù)適當(dāng)；表面張力大于 38Dｙn/Cm2；熱性能好， 經(jīng)得起蒸發(fā)源的熱輻射和冷凝熱的作用；基材含水量低于 0.1%。常用的鍍 鋁基材有聚酯（ PET）、聚丙烯（PP）、聚酰胺（PA）、聚乙烯（PE）、聚氯 乙烯（ PVC）等薄膜，工藝要求；真空度不得低于 103PA，以免出現(xiàn)褐色條 紋或鋁層厚度不均現(xiàn)象；控制好系統(tǒng)張力，開啟冷卻系統(tǒng)，避免薄膜受熱 出現(xiàn)拉伸變形；精確控制卷取速度（ 280～320m/min）、送鋁速度 （0.4～0．7m/min·2mm鋁絲）及蒸發(fā)舟加熱電流，以獲得產(chǎn)品要求的鋁 層厚度（ 100～300A°）；可預(yù)先在薄膜上涂布一定干量的底膠，并充分干 燥，再經(jīng)真空鍍鋁，可提高鋁層

《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》出版發(fā)行

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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書：《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?！墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容：薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積（CVD）、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、

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