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200 系常用不銹鋼簡析 1、200 系常用不銹鋼化學成分: 200 系不銹鋼目前在市場中廣泛應用,主要有 LA 、LH、L1、L4、ASTM201 、ASTM202 、D7 以及 D11 等。這些鋼種的具體成分如下, 根據(jù)相關的化學成分計算出來的 Md30( ℃ )和層錯能 SFE 在表格中體現(xiàn): 鋼種 C Si Mn P S Ni Cr Cu N MD30 SFE 備注 LA 0.077 0.49 9.94 0.035 0.001 0.67 14.56 1.1 0.144 113.074 44.059 聯(lián)眾 LH 0.088 0.51 9.95 0.041 0.002 0.35 14.45 1.37 0.154 106.064 45.258 聯(lián)眾 L1 0.073 0.61 9.3 0.046 0.002 1.12 14.41 1.43 0.148 96.589 45.285 聯(lián)眾 L
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1 304 不銹鋼拋光方法: 1.1 機械拋光 機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的 拋光方法 ,一般使用油石 條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主, 特殊零件如回轉體表面, 可使用轉臺等輔助工具, 表面質量 要 求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被 加工表面上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度,是各種拋光方法中 最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。 1.2 化學拋光 化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法 的主要優(yōu)點是不需復雜設備,可以拋光形狀復雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高?;瘜W拋光 的核心問題是拋光液的配制?;瘜W拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù) 10 μ m 。 1.3 電解拋光 電解拋光基本原理與化學拋光相同,
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