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研究了金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)參數(shù)對其光電特性的影響,并通過工藝實驗結(jié)果測試,驗證了分析計算成果。實驗采用清洗、涂膠、光刻、顯影、鍍膜、去膠、電鍍工藝流程,并用激光直寫曝光代替掩模投影曝光。在MgF2 基底上制作出線寬7μm,周期400μm的金屬網(wǎng)柵,在3~5μm波段上透過率大于 75%(基底透過率為83%)、電磁屏蔽效率大于8 dB。結(jié)果表明:采用等效電路模型分析雷達波垂直入射時金屬網(wǎng)柵屏蔽效率;用等效膜理論分析斜入射對屏蔽效率的影響是有效和簡便的,通過遮攔比分析中心零級能量變化來說明金屬網(wǎng)柵對紅外透過的影響;金屬網(wǎng)柵的光電特性的矛盾可以通過減小網(wǎng)柵線寬與周期的比值來解決,網(wǎng)柵周期與屏蔽波段密切相關(guān),因此減小線寬對于滿足其光電性能要求更為重要。
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為了研究不同形狀網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)對形成的MEFP破片的影響,利用LS-DYNA動力有限元程序,采用Lagrangian方法,分別對十字形網(wǎng)柵切割式MEFP戰(zhàn)斗部、星形線形網(wǎng)柵切割式MEFP戰(zhàn)斗部、中心圓環(huán)形網(wǎng)柵切割式MEFP戰(zhàn)斗部、井字形網(wǎng)柵切割式MEFP戰(zhàn)斗部成型過程進行了數(shù)值模擬研究,并對影響各自破片成型及發(fā)散角的因素進行了分析研究。通過對不同方案網(wǎng)柵切割式MEFP速度及散布面積對比分析,結(jié)果表明:采用井字形網(wǎng)柵產(chǎn)生的破片集聚性優(yōu)于十字形、星形線形和中心圓環(huán)形結(jié)構(gòu)方案。
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