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多晶硅工藝流程簡述 （改良西門子法及氫化） 氫氣制備與凈化工序 在電解槽內經電解脫鹽水制得氫氣。電解制得的氫氣經過冷 卻、分離液體后，進入除氧器，在催化劑的作用下，氫氣中的微量氧 氣與氫氣反應生成水而被除去。 除氧后的氫氣通過一組吸附干燥器而 被干燥。凈化干燥后的氫氣送入氫氣貯罐，然后送往氯化氫合成、三 氯氫硅氫還原、四氯化硅氫化工序。 電解制得的氧氣經冷卻、分離液體后，送入氧氣貯罐。出氧氣 貯罐的氧氣送去裝瓶。 氣液分離器排放廢吸附劑、 氫氣脫氧器有廢脫氧催化劑排放、 干 燥器有廢吸附劑排放，均供貨商回收再利用。 氯化氫合成工序 從氫氣制備與凈化工序來的氫氣和從合成氣干法分離工序返 回的循環(huán)氫氣分別進入本工序氫氣緩沖罐并在罐內混合。 出氫氣緩沖 罐的氫氣引入氯化氫合成爐底部的燃燒槍。 從液氯汽化工序來的氯氣 經氯氣緩沖罐， 也引入氯化氫合成爐的底部的燃燒槍。 氫氣與氯氣的 混合氣體在燃燒
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多晶硅生產中廢氣的處理方法主要有水洗法、焚燒法和堿液淋洗法.水洗法是多晶硅廠最傳統的廢氣處理方法,是通過大量的噴淋水吸收廢氣中氯化氫和氯硅烷,該方法資源浪費量巨大,同時存在重大的安全隱患,現在已基本不使用.焚燒法是將廢氣進行高溫燃燒和水解,得到二氧化硅和鹽酸,該方法因前期投資過大、設備要求過高、工藝復雜、運行成本高等原因,其應用受到限制.堿液淋洗法因其工藝簡單、投資和運行成本較低、處理效果好等優(yōu)點,成為目前多晶硅廠最常用的廢氣處理方法.
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