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用硅青銅(QSi3-1)電極,分別在硅油和氬氣中對(duì)Ti17鈦合金進(jìn)行了電火花表面強(qiáng)化。利用掃描電鏡、X射線衍射儀、輝光放電光譜儀、顯微硬度計(jì)和MM200磨損試驗(yàn)機(jī)等對(duì)強(qiáng)化層的成分、組織、硬度和耐磨性進(jìn)行了研究。結(jié)果表明,用QSi3-1電極在氬氣和硅油中于30V、1500μF的電參數(shù)下,分別可獲得顯微硬度高達(dá)HV550和HV494、厚度約10μm和5μm的強(qiáng)化層;前者所得強(qiáng)化層以Ci3Cu、Cu為主,同時(shí)還有少量的TiSi2和Ti;后者所得強(qiáng)化層由Ti3Cu和Cu相及少量TiO、Ti2N、Ti3SiC2相組成;在試樣轉(zhuǎn)速為200r/min,干圓環(huán)摩擦磨損條件下、在氬氣和硅油中強(qiáng)化試樣的磨損量?jī)H為鈦合金基體的1/56和1/24。鈦合金基體主要以氧化磨損和粘著磨損為主;表面改性層磨損的原因則與強(qiáng)化層脫落造成磨粒磨損有關(guān)。