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通過對現(xiàn)有幾種瓷磚拋光機的磨拋過程進行分析,建立了拋光運動數學模型,進行軌跡仿真,比較了在不同運動狀態(tài)下磨紋的均勻性和磨削面積的大小,結果表明,行星端面磨拋光機在提高磨削效率和磨紋均勻性方面與其他幾種拋光機相比效果更為理想。
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根據側邊拋磨光纖實驗結果,建立了帶拋磨過渡區(qū)側邊拋磨光纖的三維光學波導模型,用三維有限差分光束傳輸法計算和分析了側邊拋磨光纖的光傳輸特性。帶拋磨過渡區(qū)光纖波導模型的計算結果與實驗吻合較好,此模型較好地反映了在側邊拋磨光纖中的光功率傳輸特性。計算分析表明,側邊拋磨區(qū)的長度對側邊拋磨光纖光傳輸特性有影響,但在拋磨區(qū)長度小于一定數值時,傳輸損耗并不隨拋磨區(qū)長度的增加而單調增加。側邊拋磨光纖中,傳輸光由于拋磨過渡區(qū)的存在,光功率的衰減隨包層剩余厚度的變化關系不是單調的,存在多值現(xiàn)象。側邊拋磨區(qū)覆蓋物折射率對光傳輸特性的影響較大,特別是對光衰減影響很大。側邊拋磨區(qū)覆蓋物寬度和高度的變化也使光功率傳輸損耗呈振蕩變化。