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瓷質拋光磚打蠟后要獲得非常光亮的表面以及優(yōu)良的防污效果,就必須在打蠟過程中使拋光磚表面各點處的拋磨次數盡可能一致。但在實際的打蠟過程中,很容易產生拋磨不均勻現(xiàn)象。本文以一種新型拋光磚打蠟機的拋磨裝置為研究對象,建立拋磨運動的數學模型,利用Matlab軟件進行拋磨運動仿真,分析不同拋磨運動參數對拋磨均勻性特性的影響,對打蠟機運動參數的確定和打蠟質量的研究具有參考價值。