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本專利所涉及制造的是一種用于真空壓力測量與控制的儀器儀表。它是檢測真空壓力的理想儀表,由于運用了電容量變化的原理,采用了可變電容結構,成功地制造出了一種結構簡單、成本較低、工作特性穩(wěn)定、過壓能力強、測量精度和靈敏度高、耐蝕性強和長期穩(wěn)定性好的真空壓力測控儀表——電容式薄膜真空計。它已廣泛地運用于核工業(yè)領域內的鈾濃縮、太陽能和電子工業(yè)領域的單晶硅和多晶硅的提煉、航天領域、真空冶煉、電光源制造、生物制藥、石油化工以及實驗室等。