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針對(duì)現(xiàn)有微光檢測(cè)系統(tǒng)體積大、避光效果差等不足,對(duì)微光探測(cè)裝置進(jìn)行全新設(shè)計(jì)。采用反應(yīng)杯與光探測(cè)頭自成暗室,減少暗室進(jìn)出機(jī)構(gòu),提高避光效果;采用斬波法扣除本底計(jì)數(shù),從而消除背景光引起的測(cè)量誤差。性能測(cè)試結(jié)果顯示:該微光探測(cè)裝置的光子本底計(jì)數(shù)小于等于200光子/s,測(cè)光上限平均值達(dá)到1.1×107光子/s,變異系數(shù)(CV)小于等于3%,達(dá)到目前現(xiàn)有的微光檢測(cè)系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)要求,可用于化學(xué)發(fā)光免疫分析儀等需要進(jìn)行微光信號(hào)檢測(cè)的精密儀器開(kāi)發(fā),對(duì)基于微光探測(cè)技術(shù)的儀器行業(yè)的發(fā)展具有重要意義。
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須彌山北周洞窟是我國(guó)石窟藝術(shù)史上一個(gè)重要的時(shí)代,其洞窟建筑形式大致可分為中心柱窟、方形禪窟及僧房窟三種類型,造像風(fēng)格與北魏相比有了明顯的變化,雕刻手法純熟,形式變化多樣,表現(xiàn)手法趨于寫(xiě)實(shí)。須彌山北周洞窟的形成與地方官吏的大力支持有著很大的關(guān)系,同時(shí)也受到來(lái)自麥積山、鞏縣石窟的影響,并融合了北齊石窟的特點(diǎn),直接反映了北周時(shí)期都城長(zhǎng)安新型造像的特點(diǎn)。
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