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針對(duì)傳統(tǒng)制備導(dǎo)電薄膜工藝復(fù)雜、成本高,且在激光直寫(xiě)導(dǎo)電膜中存在所加入的輔料造成雜質(zhì)污染以及膜的厚度和粗糙度難以降低等問(wèn)題,本文采用玻璃襯底激光制備Zn/Al混合粉末生成導(dǎo)電薄膜,實(shí)現(xiàn)了無(wú)粘結(jié)劑和輔料的薄膜生成,研究了工藝參數(shù)調(diào)節(jié)對(duì)膜的生成質(zhì)量的影響。結(jié)果表明,過(guò)低或過(guò)高的激光掃描速度都會(huì)使表面粗糙度增加,掃描速度過(guò)慢時(shí)薄膜表面被嚴(yán)重破壞,過(guò)快時(shí)導(dǎo)致附著不完全區(qū)域的出現(xiàn);薄膜厚度隨掃描速度變化,在表面附著的顆粒隨掃描速度降低發(fā)生融合現(xiàn)象,膜厚將增大。優(yōu)化參數(shù)后得到了粗糙度低于20nm、膜厚低于500nm的導(dǎo)電薄膜。
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