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采用隱形浮雕陶瓷裝飾技術制備具有浮雕幻影的釉面磚。在不對現(xiàn)有釉面磚配方及生產工藝參數(shù)做出重大改變的基礎上,探討了特殊花釉配方組成、印油配方組成和印油與特殊花釉釉料配比等工藝因素對釉面磚裝飾效果的影響,通過相關工藝參數(shù)優(yōu)化,達到浮雕幻影的特殊裝飾效果。
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在有限景深的光學系統(tǒng)中 ,由于發(fā)光平面具有縱深方向的分布而不能清晰地成像于一個像面上 ;X光激發(fā)的發(fā)光玻璃成像系統(tǒng)具有這種性質 針對不同發(fā)光平面的發(fā)光強度呈現(xiàn)指數(shù)衰減規(guī)律的發(fā)光玻璃的成像問題 ,用幾何光學原理模擬了成像清晰度的變化規(guī)律 ,為這類成像系統(tǒng)的調節(jié)提供了依據(jù) ,并獲得了與理論推導的成像清晰度的變化規(guī)律相符的實驗結果