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對屋頂栽培基質(zhì)淋溶前后的養(yǎng)分進行了比較,結(jié)果表明:栽培基質(zhì)淋溶前后的速效磷,速效鉀,銨態(tài)氮沒有差異;硝態(tài)氮的差異還需要進一步研究;栽培基質(zhì)淋溶前后的有機質(zhì)含量差異較大。因此在屋頂種植植物,因栽培基質(zhì)的淋溶造成的養(yǎng)分流失對環(huán)境影響不大。
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研究了常春藤 (Hederahelix)適宜生長的光照范圍問題。根據(jù)光的分布 ,選擇房間內(nèi)具有代表性的光區(qū)進行栽培試驗。在 1 8~ 2 8℃ ,RH31 %~ 70 %條件下。經(jīng)栽培 80d后 ,用LI 640 0測定其不同光強下的光合特性 ,計算光補償點、光飽和點、最大凈光合速率。同時測定不同試驗區(qū)的葉面積、葉片數(shù)的生長量。結(jié)果表明 :常春藤在 1 8~ 2 8℃及RH31 %~ 70 %室內(nèi)條件下 ,光照為大于 3.1至小于 834.3μmol·m 2 ·s 1 ( 1 5 5~ 41 71 5lx)可以生長。
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