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更新時(shí)間:2024.12.28
銅排內(nèi)孔氧化噴砂處理工藝

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利用現(xiàn)有的噴砂機(jī)并設(shè)計(jì)了專用噴槍嘴對(duì)毛細(xì)管內(nèi)壁進(jìn)行噴砂處理,從而解決了大型發(fā)電廠百萬(wàn)級(jí)銅排內(nèi)壁的氧化問(wèn)題。介紹了噴砂工藝及其相關(guān)的設(shè)備。

噴砂鎂合金微弧氧化電解液組分的優(yōu)化

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采用正交試驗(yàn)優(yōu)化了噴砂后鎂合金微弧氧化電解液組分,討論了組分濃度對(duì)氧化膜性能的影響,并用SEM、EDS、XRD等分析了優(yōu)化工藝后氧化膜的微觀形貌、化學(xué)成分和相組成。研究表明,較優(yōu)的電解液組分為15g/L的Na2SiO3·7H2O、6g/L的KF·H2O、9g/L的KOH、10mL/L的C3H2(OH)3;氧化膜表面形貌保留了噴砂時(shí)的粗糙不平;氧化膜由大量均勻的、微孔內(nèi)徑為0.2~1.5μm的陶瓷層組成,物相則主要由Mg、MgO、Mg2SiO4、MgAl2O4及無(wú)定型相組成。

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