RF-PCVD低溫沉積無(wú)色透明類金剛石保護(hù)膜的工藝研究

為滿足罐頭行業(yè)多樣化的要求,介紹用正交實(shí)試法,研制無(wú)色透明罐頭內(nèi)壁涂料。

采用電子輔助熱燈絲化學(xué)氣相沉積(ea-cvd)方法沉積大面積金剛石膜,在金剛石膜的沉積過(guò)程中,燈絲平面與襯底間距對(duì)金剛石膜沉積的影響會(huì)直接影響著金剛石膜的生長(zhǎng)和質(zhì)量。用raman手段對(duì)金剛石膜的生長(zhǎng)特性進(jìn)行了表征。

為了方便測(cè)量、記錄和交流金剛石膜的透光性,對(duì)用相機(jī)測(cè)定金剛石膜透光性的技術(shù)問(wèn)題進(jìn)行了研究。其原理是由相機(jī)的感光度、光圈、快門速度先得到一張級(jí)差為20%的25級(jí)金剛石膜透光性的速查表。測(cè)量中,得知膜的快門速度后查表,即可知膜的透光性級(jí)數(shù)和透光率。該法表征金剛石膜透光性的方式,可適用于多散點(diǎn)單參數(shù)膜25級(jí)平面坐標(biāo)圖示法和單散點(diǎn)多參數(shù)膜相關(guān)信息元素的多項(xiàng)式法。該方法快速方便、簡(jiǎn)單可靠,無(wú)需大型設(shè)備,保證了金剛石膜的完整性,觧決了整片金剛石膜透光性的測(cè)量、表征和分級(jí)的問(wèn)題。

磷酸酯類阻燃劑系由胺類、磷酸和甲醛縮聚制得,可合成為固態(tài)或液態(tài)阻燃劑,分別用于各種高分子聚合物或木制品等的阻燃。對(duì)磷酸酯類阻燃劑的生產(chǎn)工藝進(jìn)行了研究,并簡(jiǎn)述了其阻燃機(jī)理及應(yīng)用情況。

預(yù)處理對(duì)不銹鋼表面沉積類金剛石薄膜的影響

以葡萄酒為例,分析了用無(wú)色透明玻璃瓶裝果酒應(yīng)當(dāng)注意的細(xì)節(jié),提出在酒盒中添加遮光涂層、使用遮光瓶包、選用安全無(wú)毒的優(yōu)質(zhì)玻璃瓶、瓶標(biāo)與酒色保持一致等技術(shù)措施,并引用文獻(xiàn)說(shuō)明這些措施是可行的。

以葡萄酒為例,分析了用無(wú)色透明玻璃瓶裝果酒應(yīng)當(dāng)注意的細(xì)節(jié),提出在酒盒中添加遮光涂層、使用遮光瓶包、選用安全無(wú)毒的優(yōu)質(zhì)玻璃瓶、瓶標(biāo)與酒色保持一致等技術(shù)措施,并引用文獻(xiàn)說(shuō)明這些措施是可行的。

新近,日本橫濱橡膠公司開(kāi)發(fā)出可以衰減由led光源發(fā)出的藍(lán)光,同時(shí)又是無(wú)色透明且小損害液晶顯示器原有的色彩的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜"yf-r系列"產(chǎn)品。新開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品采用淺藍(lán)色光反射技術(shù)和控制薄膜透光率技術(shù)等小同

吹嘴三維實(shí)體如圖1所示,根據(jù)該制品特點(diǎn)設(shè)計(jì)模具。一、模具結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)要點(diǎn)1.拆模通過(guò)對(duì)吹嘴三維實(shí)體圖的分析,吹嘴全長(zhǎng)245mm,上有十六個(gè)扁長(zhǎng)

1月14日，韓國(guó)環(huán)境部宣布其與韓國(guó)塑料瓶資源回收協(xié)會(huì)一起推動(dòng)生產(chǎn)無(wú)色透明塑料瓶的工作。

化學(xué)氣相沉積(cvd)制備的金剛石膜表面粗糙且厚薄不均勻,在許多情況下不能直接使用,必須對(duì)其進(jìn)行拋光。本文研究了不同型號(hào)的金剛石微粉對(duì)cvd金剛石厚膜研磨的影響,通過(guò)對(duì)研磨結(jié)果的比較分析,優(yōu)化出一種高質(zhì)量高效率的拋光方法,即先采用w40和w28金剛石微粉,分別研磨2h,然后用w0.5金剛石微粉研磨4h。經(jīng)掃描電子顯微鏡(sem)和原子力顯微鏡(afm)測(cè)試分析表明:金剛石膜的平均去除率為12.2μm/h,粗糙度ra由4.60μm降至3.06nm,說(shuō)明該拋光方法能實(shí)現(xiàn)金剛石膜高質(zhì)量、高效率的拋光。

雷地科技集團(tuán)“國(guó)家863新材料產(chǎn)業(yè)化基地”目前在深圳奠基。該項(xiàng)目投資近2億元，占地約100畝，項(xiàng)目將分三期建設(shè)。該項(xiàng)目完成后，將成為亞洲最大的金剛石膜材料科研、生產(chǎn)基地。該基地將擁有2萬(wàn)平方米的科研大廈，內(nèi)設(shè)863新材料研發(fā)中心、航天材料研發(fā)中心、博士后工作站等。一期工程將在明年初投產(chǎn)后，

利用脈沖真空電弧離子鍍技術(shù)在3cr13不銹鋼基底上制備類金剛石(dlc)薄膜,采用x射線光電子能譜技術(shù)分析dlc薄膜中sp3鍵及sp2鍵含量和組分.采用顯微硬度計(jì)測(cè)試了薄膜的顯微硬度,利用掃描電鏡測(cè)試了膜的表面形貌.劃痕儀測(cè)試了薄膜與不銹鋼基底的結(jié)合強(qiáng)度.結(jié)果表明:所鍍制的類金剛石薄膜品質(zhì)優(yōu)良,類金剛石中sp3鍵含量較高,sp3/sp2=1.63,具有良好的表面形貌,在不銹鋼上沉積dlc膜后明顯提高了不銹鋼的硬度,ti過(guò)渡層的引入明顯的改善了膜與不銹鋼之間的結(jié)合強(qiáng)度.

利用脈沖真空電弧離子鍍技術(shù)在3cr13不銹鋼基底上制備類金剛石（dlc）薄膜，采用x射線光電子能譜技術(shù)分析dlc薄膜中sp^3鍵及sp^2鍵含量和組分．采用顯微硬度計(jì)測(cè)試了薄膜的顯微硬度，利用掃描電鏡測(cè)試了膜的表面形貌．劃痕儀測(cè)試了薄膜與不銹鋼基底的結(jié)合強(qiáng)度．結(jié)果表明：所鍍制的類金剛石薄膜品質(zhì)優(yōu)良，類金剛石中sp^3鍵含量較高，sp^3／sp^2-1．63，具有良好的表面形貌，在不銹鋼上沉積dlc膜后明顯提高了不銹鋼的硬度，ti過(guò)渡層的引入明顯的改善了膜與不銹鋼之間的結(jié)合強(qiáng)度．

　收稿日期:2001-05-30 　作者簡(jiǎn)介:薛軍(1942-),男(漢族),江蘇無(wú)錫人,中國(guó)地質(zhì)大學(xué)(北京)副研究員,科學(xué)鉆探國(guó)家專業(yè)實(shí)驗(yàn)室專職研究人員,鉆探工程專業(yè),碩 士,從事巖石破碎學(xué)的教學(xué)及鉆頭、鉆具的研究工作,北京市海淀區(qū)學(xué)院路29號(hào),(010)82323273;于松波(1971-),女(漢族),吉林松源人,吉 林油田責(zé)任有限公司測(cè)井公司技術(shù)員,從事測(cè)井技術(shù)及計(jì)算等工作。 關(guān)于薄壁金剛石鉆頭金剛石濃度的設(shè)計(jì)問(wèn)題 薛　軍1,于松波2 (11中國(guó)地質(zhì)大學(xué)〈北京〉,北京100083;21吉林油田責(zé)任有限公司測(cè)井公司,吉林松遼132000) 摘　要:簡(jiǎn)要指出了薄壁金剛石鉆頭金剛石濃度合理設(shè)計(jì)的重要意義,提出了理論設(shè)計(jì)需要解決的幾個(gè)重要問(wèn)題 和解決辦法,認(rèn)為通過(guò)生產(chǎn)或?qū)嶒?yàn)的檢驗(yàn)與修正

18年高檔鋸片研發(fā)生產(chǎn)、銷售、修磨廠家 豐金銳刀具18年高檔鋸片研發(fā)生產(chǎn)、銷售、修磨廠家 金剛石鋸片的制造工藝 金剛石鋸片，一種普遍用于斷橋鋁、亞克力和石材切割的多刃工具。在整個(gè)金屬切 削史上，金剛石鋸片的出現(xiàn)，有力彌補(bǔ)了硬質(zhì)合金鋸片與碳素鋼鋸片諸多的不足。 出色的切削性能是金剛石鋸片與生俱來(lái)的優(yōu)勢(shì)，同時(shí)由于鋸片的鋸齒采用了硬度更 大，更耐高溫的金剛石鋸齒，這也就使得金剛石鋸片的壽命很長(zhǎng)。 那么制造金剛石鋸片的常見(jiàn)方法有哪些？ 方法一：冷壓燒結(jié)法 采用冷壓燒結(jié)法制造的金剛石鋸片，限于制造的技術(shù)水平，金剛石鋸片的直徑一般 會(huì)在400毫米以下。同時(shí)，冷壓燒結(jié)法具有生產(chǎn)成本低的優(yōu)勢(shì)，尤其是是一些濕式 鋸片，在制造的過(guò)程中，一般都會(huì)用到冷壓焊接法。 而采用該種制造工藝的金剛石鋸片，在切割花崗巖、混硬土、瀝青等較難鋸切型材 時(shí)，往往能夠確保鋸片穩(wěn)定地運(yùn)行。 方法二：熱壓焊接法 對(duì)于生產(chǎn)金剛石鋸片

筑神-建筑下載:http://www.***.*** 天然金剛石 本標(biāo)準(zhǔn)適用于沒(méi)有經(jīng)過(guò)人為加工的天然金剛石單晶或其碎塊。 一、分類 1　天然金剛石按有途作為： (1)工藝品用金剛石。 (2)拉絲模用金剛石。 (3)刀具用金剛石。 (4)硬度計(jì)壓頭用金剛石。 (5)地質(zhì)鉆頭和石油鉆頭金剛石。 (6)砂輪刀用金剛石。 (7)玻璃刀用金剛石。 (8)金剛石及修整器用金剛石。 (9)磨料用金剛石。 二、技術(shù)要求 2　天然金剛石的技術(shù)指標(biāo)，按不同用途分別規(guī)定如下： (1)工藝品用金剛石 --------------------------------------------------------------------- ------------ 級(jí) 別 晶體特征 規(guī)格

采用等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(pecvd)法,在316l不銹鋼基體表面以不同的沉積氣壓和射頻功率制備出類金剛石(dlc)薄膜。拉曼光譜分析結(jié)果表明:所沉積的dlc膜具有典型的類金剛石膜結(jié)構(gòu),薄膜中sp3鍵含量隨工藝參數(shù)的不同而不同,射頻功率100w時(shí),sp3鍵含量隨沉積氣壓增高而降低。接觸角測(cè)試結(jié)果表明:dlc膜沉積后,316l不銹鋼表面與生理鹽水和去離子水的接觸角均變大,潤(rùn)濕性降低。

利用直流反應(yīng)磁控濺射在柔性襯底(聚乙烯對(duì)苯二酸脂,pet)上低溫沉積了對(duì)可見(jiàn)光透明的低電阻率的zn_xcd_(1-x)o薄膜,并研究了zn含量x對(duì)zn_xcd_(1-x)o薄膜的結(jié)晶性能、電學(xué)性能及光學(xué)性能的影響.xrd分析結(jié)果表明,當(dāng)x0.65時(shí),薄膜為高度取向的zno結(jié)構(gòu).hall效應(yīng)測(cè)試顯示,當(dāng)x≤0.5時(shí),薄膜的載流子濃度很高,電阻率為10~(-3)ω·cm的數(shù)量級(jí);遷移率隨x增加先增大,在x=0.5處達(dá)到極大值,然后隨x的增加而降低.紫外可見(jiàn)透射譜表明,摻zn后的zn_xcd_(1-x)o薄膜在整個(gè)可見(jiàn)光波段內(nèi)的透過(guò)率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于純cdo薄膜的透過(guò)率.綜合分析結(jié)果表明,x=0.5是低溫制備的低阻、高透光性能薄膜的最佳zn含量.

醫(yī)用316l不銹鋼植入物植入體內(nèi)后,體內(nèi)環(huán)境可導(dǎo)致其產(chǎn)生腐蝕和ni離子的析出。利用雙放電腔微波等離子體源全方位離子注入設(shè)備,采用等離子體源離子注入(plasmasourceionimplantation,psii)和等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(plasmaenhancedchemicalvapordeposition,pecvd)復(fù)合工藝在醫(yī)用316l不銹鋼表面沉積類金剛石薄膜,進(jìn)行表面改性,以提高其在模擬體液環(huán)境中的腐蝕阻抗。掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡觀察發(fā)現(xiàn),薄膜由納米粒子構(gòu)成,膜層連續(xù)光滑。電化學(xué)腐蝕測(cè)試表明:采用psii+pecvd復(fù)合工藝制備的類金剛石薄膜與316l不銹鋼改性體系在(37±1)℃的troyde’s模擬體液中的自腐蝕電位約為120mv,體系的擊穿電位超過(guò)1.9v,與基體316l不銹鋼相比,其熱力學(xué)穩(wěn)定性與抗腐蝕性能得到增強(qiáng),改性效果優(yōu)于單獨(dú)的pecvd工藝。

對(duì)直流電弧等離子體噴射化學(xué)氣相沉積技術(shù),在φ76.2mm的si襯底上沉積得到的金剛石膜,通過(guò)sem和激光raman表征其質(zhì)量均勻性。為緩解金剛石膜/si復(fù)合片的內(nèi)應(yīng)力,采用臺(tái)階式冷卻的方式,對(duì)樣品在1050℃進(jìn)行真空退火處理,使樣品內(nèi)的壓應(yīng)力從3.09gpa減小到1.16gpa。對(duì)樣品生長(zhǎng)面進(jìn)行機(jī)械拋光,采用表面輪廓儀檢測(cè)其表面粗糙度均勻性。結(jié)果表明:在76.2mm的金剛石膜/si復(fù)合片上獲得的表面粗糙度小于5nm。

在eacvd(electron-assistedhotfilamentchemicalvapordeposition)金剛石膜沉積系統(tǒng)上制備出了摻硼金剛石厚膜電極,采用循環(huán)伏安法研究了摻硼金剛石厚膜電極和iro2/ta2o5鈦涂層電極電化學(xué)性能的差別,結(jié)果表明摻硼金剛石厚膜電極具有比iro2/ta2o5鈦涂層電極更寬的電勢(shì)窗口(約3.4v)和更低的背景電流(接近于零)。用所制備的摻硼金剛石厚膜電極和iro2/ta2o5鈦涂層電極對(duì)比處理高濃度難降解污水,通過(guò)測(cè)定污水處理過(guò)程中化學(xué)需氧量(chemicaloxygendemand,cod)的變化、觀察污水處理過(guò)程中顏色的變化、處理前后兩電極的sem照片研究了摻硼金剛石厚膜電極在污水處理中的應(yīng)用,試驗(yàn)表明摻硼金剛石厚膜電極比iro2/ta2o5鈦涂層電極處理污水效率更高、處理高濃度難降解污染物的能力更強(qiáng),電極更加穩(wěn)定、耐腐蝕性更好,是一種很有應(yīng)用前景的電極。