V型鋁槽內(nèi)腔微弧氧化的不均勻性

1000kv氧化鋅避雷器是特高壓交流輸電系統(tǒng)中必不可少的設備,其電壓分布不均勻性比較嚴重。采用"場路結合"的思想,系統(tǒng)的闡述了計算、分析和改善1000kv氧化鋅避雷器電壓分布的方法。利用三維有限元方法計算得到避雷器電壓分布特性,并提取雜散電容參數(shù),得到等效電路模型。討論了安裝高度和均壓環(huán)對避雷器電壓分布的影響,并通過優(yōu)化選擇并聯(lián)集中電容方案,使1000kv氧化鋅避雷器電壓分布系數(shù)達到5%以內(nèi)。

　為了給研究微弧氧化起弧的能量臨界條件奠定基礎,以達到制備高產(chǎn)能、低能耗微弧氧化裝備的目的,對微弧氧化起弧前后不同氧化時間的鋁合金6061試樣進行了電性能測試、能譜成分分析和掃描電鏡表面形貌分析,測定了微弧氧化起弧的表面臨界條件,揭示了起弧前試樣表面變化過程和起弧后陶瓷層的生長特點。實驗結果表明:鋁合金起弧的表面臨界條件是試樣的整個表面覆蓋一層電阻為04ω的alxoy膜;起弧前,非晶態(tài)alxoy氧化物以點面方式生長;起弧后,起弧面呈樹枝狀生長,膜層電阻快速增大。

為了研究了起弧電壓、電流密度和氧化時間等參數(shù)對鋁合金陶瓷膜性能的影響。以ly12鋁合金為試驗材料,采用mao240/750微弧氧化設備、tt260測厚儀和amary-1000b掃描電子顯微鏡。結果表明:起弧電壓隨著na2sio3濃度的增加而降低;在相同氧化時間內(nèi),隨著電流密度的增加,陶瓷膜的厚度也顯著地增加,陶瓷膜的致密層的顯微硬度也在逐漸地增加,但不是呈線性增加的;在相同電流密度條件下,隨著時間的增加,膜層厚度和致密層硬度非線性增加,但致密層所占比例卻減小。得出結論:電流密度應該選擇在5~20a/dm2的范圍內(nèi),微弧氧化時間控制在3h以內(nèi)時比較適宜。

以往就純鈦材表面微弧氧化陶瓷層表面積對提供羥基磷灰石生長條件的研究不多,為此,在na2hpo4電解液中,采用微弧氧化法在純鈦材表面制得多孔結構的二氧化鈦陶瓷層。研究了正向電壓、頻率對微弧氧化陶瓷層組織結構的影響。結果表明,隨正向電壓升高,膜厚增加,孔徑增大,表面變得粗糙;隨頻率的增加,膜層表面變得光滑,孔徑減小,膜厚減小;在正向電壓450v、頻率600hz時得到均勻的多孔結構;陶瓷層主要由銳鈦礦型tio2和少量非晶組成,有利于羥基磷灰石生長。

采用正交試驗優(yōu)化了噴砂后鎂合金微弧氧化電解液組分,討論了組分濃度對氧化膜性能的影響,并用sem、eds、xrd等分析了優(yōu)化工藝后氧化膜的微觀形貌、化學成分和相組成。研究表明,較優(yōu)的電解液組分為15g/l的na2sio3·7h2o、6g/l的kf·h2o、9g/l的koh、10ml/l的c3h2(oh)3;氧化膜表面形貌保留了噴砂時的粗糙不平;氧化膜由大量均勻的、微孔內(nèi)徑為0.2～1.5μm的陶瓷層組成,物相則主要由mg、mgo、mg2sio4、mgal2o4及無定型相組成。

采用模擬活塞-缸套運動形式的往復式滑動摩擦磨損試驗機對比研究了鋁合金微弧氧化陶瓷層、電鍍硬鉻鍍層及耐磨磷釩銅鑄鐵的摩擦磨損特性;利用掃描電子顯微鏡觀察分析了磨損表面形貌,進而探討了油潤滑條件下微弧氧化陶瓷層的磨損機制及其影響因素.結果表明:鋁合金微弧氧化陶瓷層在油潤滑條件下的耐磨性能顯著優(yōu)于電鍍硬鉻鍍層和磷釩銅鑄鐵;陶瓷層中的微孔有利于改善其在油潤滑條件下的耐磨性能;不同厚度的微弧氧化陶瓷層在穩(wěn)定磨損階段的磨損質(zhì)量損失變化不大.

采用微弧氧化技術首次在az91d鎂合金表面原位制備含zro2-y2o3的復合陶瓷膜。利用esem、spm、xrd和高溫氧化等手段研究了微弧氧化膜的形貌、相組成及高溫氧化性能。結果表明,微弧氧化膜表面呈多孔結構,微孔平均直徑小于2μm,截面是由疏松層和致密層組成的雙層結構;微弧氧化膜中的主要存在相有c-zro2、t-zro2、y2o3、al2o3、mgo、mgf2和mgal2o4;在不同的加熱溫度和氧化時間下,微弧氧化膜的耐高溫氧化性能較之鎂合金基體均有顯著提高。

在磷酸鹽溶液中加入nh4vo3,通過微弧氧化工藝在6061鋁合金上制得了黑色陶瓷膜,研究了nh4vo3含量、溶液溫度對膜層的耐磨性、表面粗糙度、附著力、黑度、厚度的影響。結果表明:隨著nh4vo3含量的增加,黑度增加、膜層沉積物附著力降低、粗糙度先減小后增大,膜層耐磨性、厚度先增大后減小;隨著溫度增加,粗糙度、黑度減小,膜層沉積物附著力增大,膜厚先增大后減小。當nh4vo3濃度為5-8g/l,溫度為40℃時,膜層表現(xiàn)出較好的綜合性能。

為了改進微弧氧化能耗高、處理效率低的問題,以6061變形鋁合金為試驗材料,2%磷酸鹽溶液為導電介質(zhì),在25℃下,利用mao200/750微弧氧化設備對微弧氧化的電流密度和起弧時間、起弧電壓和試樣面積、起弧電壓與占空比以及起弧時間與占空比等之間的關系進行了研究。結果表明:本工藝條件下,鋁合金微弧氧化的臨界電流密度為0·2a/dm2;起弧電壓隨試樣面積的增加而呈正比增加;起弧時間隨著占空比的減小而縮短;占空比越小,起弧電壓越高。

采用室內(nèi)海水浸泡試驗、銅離子浸泡試驗、電偶試驗等方法研究了微弧氧化層和封孔處理對6061鋁合金耐海水腐蝕性能的影響。結果顯示,微弧氧化后鋁合金在海水中的腐蝕形貌為點蝕,封孔處理可明顯降低點蝕的發(fā)生。與銅合金偶合對微弧氧化鋁合金的腐蝕加速較大,在實際使用中應盡量避免兩種材料的電接觸。

為了在參數(shù)化數(shù)值模型中更好地引入城市下墊面不均勻建筑群對大氣動力特性的影響,從建筑幾何結構的形態(tài)學角度出發(fā),建立了描述城市建筑群不均勻性的形態(tài)學參數(shù)化方法,形成一組可以較為系統(tǒng)地表達建筑不均勻性的參數(shù),包括迎風面積指數(shù)(λf)、平面面積指數(shù)(λp)、形狀指數(shù)(sbc)和綜合非直線系數(shù)(r).利用風洞實驗方法研究建筑群各形態(tài)學參數(shù)對拖曳力的影響,其中整個區(qū)域所受的拖曳力采用懸浮實驗平臺直接測量.結果表明:周圍環(huán)境地貌粗糙度的改變對拖曳力系數(shù)影響不明顯;迎風面積指數(shù)是風向變化引起拖曳力系數(shù)變化的主要作用因素.實驗工況之間對比表明,在迎風面積指數(shù)、平面面積指數(shù)、形狀指數(shù)分別增大或綜合非直線系數(shù)減小的單因素變化情況下拖曳力系數(shù)會出現(xiàn)不同程度地增大.

矩形均布荷載地基沉降的不均勻性研究——地基沉降計算是一個廣泛研究的課題，但在實際工程中引起事故的往往是沉降的不均勻性。文章依據(jù)土的線彈性模型．研究了地基沉降的不均勻性，選取的是有廣泛代表性的矩形均布荷載地基。研究表明無論是基底地面沉降還是基礎...

本文對不均勻性工業(yè)用氣設備的合理化設計做了簡要的探討。

為了研究鋁合金激光填絲焊接頭組織及焊縫成分分布情況,分別對zlll4a鋁合金及工業(yè)純鋁1a90進行了激光填絲焊接,并利用光學顯微鏡、掃描電鏡、能譜等實驗方法分析了焊接接頭的組織特點,并討論了成分分布規(guī)律。結果表明,鋁合金激光填絲焊接接頭成形良好,焊縫組織細小,熱影響區(qū)窄,焊縫成分有明顯不均勻性,在焊縫上部和底部靠近熔合區(qū)的位置熔質(zhì)濃度較高,而焊縫中心位置熔質(zhì)濃度低。

山區(qū)不均勻巖土地基的處理 摘要：山區(qū)建筑物的地基基礎的不均勻沉降問題必須認真對待，從選點開始， 直到工程地質(zhì)勘察，設計和施工都應建立在摸清地質(zhì)結構條件的前提下，按照客 觀規(guī)律因勢利導地去開展工作。 關鍵詞：巖土地基不均勻巖土地基處理結構措施 前言：為確保地基基礎工程質(zhì)量和進度應認真查明和處理各種地下障礙 物。在查明了地下物之后，處理方案要謹慎選擇，且要有建設（監(jiān)理）單位，設 計單位、施工單位大家共同重視、共同努力，方能得到圓滿解決。 一、山區(qū)地基的特點 山區(qū)建筑地基，由于地質(zhì)條件復雜，與平原地區(qū)相比，具有如下特點： 1、地面高差懸殊很大。大量的平整場地工作往往使同一建筑物的部分基礎 置于挖方區(qū)，而另一部分基礎置于填方區(qū)；一部分基礎置于河道上，而另一部分 基礎置于硬上層上，如果處理不當，很容易使地基產(chǎn)生不均勻沉降。 2、基巖起伏變化較大。由于基巖起伏，上覆土層的厚度不同，常常使

以adc12鋁合金為基材,采用mao240/750微弧氧化設備制備了黑色微弧氧化陶瓷膜,采用膠帶粘扯法和金相殘余應力撕裂法檢測陶瓷膜結合力,研究了溫度、占空比和電壓等能量參數(shù)對陶瓷膜結合力的影響。結果表明,溫度越高,陶瓷膜與基體之間的結合情況越好,溫度對結合力的影響是通過電介質(zhì)的電離程度來實現(xiàn)的;結合力隨著占空比和電壓的升高而增強,電壓過高,將產(chǎn)生燒蝕現(xiàn)象;陶瓷膜的結合力與致密層的厚度有關,致密層厚度越大,附著情況越好;滿足工程應用的能量參數(shù)值分別為溫度45℃、占空比18%和電壓600v左右。

1前言鎂合金被譽為"21世紀最具發(fā)展?jié)摿Φ木G色工程材料"。但易被腐蝕而限制了鎂合金的開發(fā)與應用。適當?shù)谋砻嫣幚?如電鍍、化學鍍、金屬涂層、陽極氧化、化學轉(zhuǎn)化膜處理、激光處理和離子注入等能夠極大地改善鎂合金的耐腐蝕性能等,擴大了鎂合金的使用范圍[1,2]。其中微弧氧化是在適當?shù)碾娊赓|(zhì)

通過2a14鋁合金微弧氧化工藝研究,得出電流密度的增大以及微孤氧化時間的增長,微弧氧化陶瓷膜層的厚度隨之增加,硬度也隨之增大.2a14鋁合金微弧氧化的最優(yōu)工藝參數(shù)為:電流密度9a/dm2～11a/dm2,時間1.5h,占空比50％,頻率200hz.

本文采用五種添加量(5、10、15、20、25g/l)的硅酸鈉溶液為基礎電解液,以純鈦為基體材料進行微弧氧化處理,通過對得到的微弧氧化陶瓷膜進行膜層厚度、顯微硬度、表面形貌、相結構、耐蝕性等性能的檢測與分析,得出不同硅酸鈉添加量對微弧氧化膜層的影響規(guī)律.

研究5052鋁合金微弧氧化膜在70℃/7%nacl溶液中浸泡不同時間的開路電位和電化學阻抗譜變化,分析微弧氧化膜層的防腐機理。研究表明,高溫腐蝕溶液可快速通過微弧氧化膜缺陷滲透到基體鋁合金表面,從而引發(fā)基體金屬腐蝕;但腐蝕產(chǎn)物在膜層缺陷內(nèi)的沉積可阻塞腐蝕溶液向缺陷內(nèi)部滲透,又使微弧氧化膜具有一定的自修復能力,膜層電阻經(jīng)過初始階段的急劇下降后,基本保持不變;對微弧氧化膜進行封閉處理可有效提升膜層的自修復能力。

電解鋁行業(yè)屬于高耗能產(chǎn)業(yè),為響應國家節(jié)能減排的號召,未來節(jié)能減排將成為電解鋁行業(yè)的工作重點.電解鋁生產(chǎn)工藝中有很多工藝參數(shù)都會影響電解鋁生產(chǎn)的效率和能耗,其中電解鋁槽的內(nèi)外溫度就是其中一項關鍵工藝參數(shù).過去受限于電解槽內(nèi)的高溫以及高腐蝕的環(huán)境以及儀器儀表技術的限制,一直沒有一種合適的測量方法.隨著儀器儀表技術的發(fā)展以及新型材料的應用,使得工業(yè)在線測量電解鋁槽內(nèi)外溫度成為可能.

"t型鋁槽作為一種常用的工業(yè)材料，其標注方法是工程設計和制造過程中必不可少的一環(huán)。正確的標注可以確保t型鋁槽的制造精度和使用效果，因此，理解并掌握t型鋁槽的標注方法至關重要。"