光波段柔性基超材料制備及光學性質
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4.4
采用化學電沉積方法,通過控制沉積電壓,電沉積時間等實驗參量,確定出最優(yōu)實驗條件,在冰浴條件下,實驗溫度范圍為0~2℃之間,在氧化銦錫導電薄膜表面沉積二維結構隨機排列的納米銀樹枝,并在銀樹枝表面涂覆一定厚度的絕緣薄膜聚乙烯醇后,與另外一層銀樹枝組裝制作成銀樹枝/聚乙烯醇/銀樹枝復合結構.實驗表明,參比樣品在可見光波段400~750nm處沒有透射峰的出現,而銀樹枝/聚乙烯醇/銀樹枝復合結構在此波段有多個透射通帶峰,且在相應波長表現出了聚焦效應.
光學材料 其他
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tu5642005021526混合反射材料表面亮度、光澤度、反射系數實驗研究=ex-perimentresearchonthesurfaceluminance,theglossandthereflectancecoefficientofmixedreflectionmaterial[刊,中]/楊春宇(重慶大學建筑城規(guī)學院.重慶(400045)),張青文…//照明工程學報.-2004,15(4).-6-10通過對建筑常用飾面材料的表面亮度、光澤度、反射系數的實驗室測量,研究了混合反射材料表面反射光的特色,為夜景照明的節(jié)能及科學設計方法提供了研究基礎。
發(fā)光學與發(fā)光材料..
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發(fā)光學與發(fā)光材料 論文 論文題目: 白光led用熒光粉的研究進展 院系應用物理與材料學院 專業(yè)應用物理 學號11060112 學生姓名郭梓浩 指導教師張梅博士 完成日期2014年5月10日 摘要出于節(jié)約能源的需求,以led為代表的半導體照明器件在 近年來得到了飛速的發(fā)展,并且己經發(fā)展成為下一代通用照明應用的 有力候選者。白光led被稱作第四代照明光源,有著龐大的市場。綜 述了目前國內外白光led用熒光粉的幾種制備方法,總結了它們的優(yōu) 缺點,概述了白光led用熒光粉的激發(fā)光譜和發(fā)射光譜的特性,并指 出了白光led用熒光粉發(fā)展中需要解決的問題。 關鍵詞白光led熒光粉激發(fā)光譜發(fā)射光譜 theresearchprogressofwhiteledwithphosphors abstractdemandfo
白光LED熒光粉遠場涂覆光學性質
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研究了白光led遠場隔離封裝中隔離距離對發(fā)光效率及相關色溫(cct)的影響。實驗結果表明,低電流輸入條件下,白光led的發(fā)光效率隨芯片表面到熒光粉層距離變化是非線性的,當芯片表面到熒光粉層距離為0.88mm時具有最佳發(fā)光效率74lm/w,白光led相關色溫隨著距離的增加呈線性下降。這為白光led的一次光學設計提供了實驗依據。
光學材料拋光亞表面損傷檢測及材料去除機理
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拋光后光學元件仍然存在亞表面損傷,它降低光學元件的抗激光損傷能力和光學性能,為去除拋光亞表面損傷以提升光學元件使用性能,需要對其進行準確檢測和表征。首先,采用恒定化學蝕刻速率法和二次離子質譜法分別檢測水解層深度和拋光雜質的嵌入深度。然后,使用原子力顯微鏡檢測亞表面塑性劃痕的幾何尺寸。通過分析表面粗糙度沿深度的演變規(guī)律,研究淺表面流動層、水解層和亞表面塑性劃痕間的依存關系。最后,建立拋光亞表面損傷模型,并在此基礎上探討拋光材料去除機理。研究表明:水解層內包括淺表面流動層、塑性劃痕和拋光過程嵌入的拋光雜質;石英玻璃水解層深度介于76和105nm之間;拋光過程是水解反應、機械去除和塑性流動共同作用的結果。
光學論文光學玻璃
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4.4
光學玻璃 摘要:隨著光子學技術的發(fā)展,光學玻璃的研究領域更加寬闊,光學玻璃的研究成為 各國一項重的項目,光學玻璃也越來越多普及到生活各個領域,本文著重介紹光學玻璃的一 些特性、應用、研究、及其發(fā)展前景。 關鍵詞:光學玻璃技術特性發(fā)展 引言:玻璃技術經歷了5000多年的發(fā)展歷史。直到近代,為了適應軍用光學儀器的發(fā) 展,schott公司的創(chuàng)始人ottoschott于1884年發(fā)展了現代光學玻璃熔煉技術,制造出 世界上第一塊高質量光學玻璃。目前,隨著光學、信息技術、能源、航空航天技術、生物技 術以及生命科學等學科的迅速發(fā)展,光學玻璃由傳統(tǒng)意義上的光學儀器用成像介質——透 鏡(主要是應用幾何光學原理進行成像)逐漸向新的應用領域迅速發(fā)展。尤其是伴隨著光子 學技術的發(fā)展,光子繼電子之后成為信息的主要載體。 一、光學玻璃概念: 光學
光學玻璃理化性質表
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idx glass (硝種) code (代碼)ndvdnf_ncnevenfd_ncdnad 1fc5487-7041.4874970.440.0069211.4891470.240.0069641.48283 2fcd1497-8161.49781.610.006091.4984581.20.0061391.493 3fcd10457-9031.456590.270.0050571.4577189.840.0050951.45317 4pcd4618-6341.61863.390.0097481.6203263.110.0098291.61163 5bsc7517-6421.516864.20.008051.5187
新型復合雙層光學增透膜的制備與性能
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4.7
采用液面下降法在載玻片上制備了tio2-sio2/st-mma共聚物復合雙層光學增透膜。考察了成膜材料組成對內外膜層折射率的影響規(guī)律,研究了紫外光輻照處理對內層無機膜厚度和折射率的影響,用紫外-可見分光光度計測試了增透膜的透過率。實驗結果表明各膜層折射率隨其組成比的變化而線性變化,內層膜和外層膜的折射率可分別在1.45~2.0和1.49~1.60之間連續(xù)可調。制備的雙層光學增透膜在420nm~600nm光譜范圍的透過率有很大提高,最高透過率達到99.5%,最高透過波長的位置可通過膜層厚度調整。
成都光明——中國重要的光學材料研究基地
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4.4
成都光明——中國重要的光學材料研究基地
光學測量中光波大氣折射的精密修正
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4.6
準確獲取光學測量中目標的角度是實現高精度的靶場光學測量的關鍵之一,而大氣折射是影響最終計算目標角度的重要因素,需采用適當的方法計算得到目標的準確角度值。本文以分層處理為出發(fā)點,對影響大氣折射率的主要因素氣壓、氣溫、濕度分別采用氣壓分層模型,氣溫分層模型,濕度分層模型,以大氣折射率模型和接近靶場實際的大氣實測數據為基礎,根據斯涅耳折射定律和大氣光路方程,建立了一種基于分層處理的光波大氣折射精密修正方法。利用實際的星體觀測實驗數據對文中方法和常用的其它方法進行了比較,將處理得到的數據與星體真值進行比較;另外利用實際的靶場測量數據進行了對比處理,兩種實驗結果都能夠說明本文中的分層處理方法可以實現更高精度的修正,可以最終提高光測設備的測量精度。
有色光學TAC膜的制備研究
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4.8
有色光學tac膜是偏光太陽鏡鏡片的重要組成部分,由于其具有透明性強、光學各向性能優(yōu)良、較強的機械性能等優(yōu)點,被廣泛應用于偏光眼鏡片市場,并成為其不可替代的重要原材料。原有有色光學tac膜的制備工藝是沿用無色tac膜生產工藝,混合器內制備有色棉膠,有色棉膠經過濾流延成型在不銹鋼帶上,本文通過對棉膠制備工藝進行改進,使有色光學tac膜的生產靈活性大大提高,減少了更換片種的棉膠及輔材浪費,同時,使生產效率大幅提高,產品質量更加穩(wěn)定,密度更加均勻。
SCFF光學收發(fā)器:光學收發(fā)器
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4.6
fci推出scff光學收發(fā)器。與現有的sfp+標準相比,這款收發(fā)器可節(jié)省大量的內板基板面,并且不會損害性能或線板密度。開發(fā)的這款收發(fā)器具有小巧外形(scff),通過機械方式從行業(yè)標準的sfp+結構改進而成。
光學試卷及答案.
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4.7
期終試卷(一) 班級學號姓名成績 一.選擇題(每小題2.5分,共25分每小題只有一個正確答案) 1.下列說法正確的是 a.薄的凸透鏡對入射光線一定是會聚的; b.薄的凹透鏡對入射光線一定是發(fā)散的 c.入射光的發(fā)散或會聚程度對厚凸、凹透鏡的光焦度有影響 d.厚凸、凹透鏡對入射光線可能是會聚的,也可能是發(fā)散的 2.光從一種介質進入另一種介質時,不發(fā)生變化的是 a.頻率;b.波長c.速度;d.傳播方向 3.在菲涅爾雙面鏡干涉實驗中,減少條紋間距的方法有 a.增大入射光的波長;b.增大接收屏與鏡的距離 c.增大兩平面鏡的夾角;d.減小光源與雙面鏡交線的距離 4.白光正入射到空氣中的一個厚度為3800埃的肥皂水膜上,水膜正面呈現什么顏色 (肥皂水的折射率為1.337) a.紅色b.紫紅色c.綠色d.青色 5.光柵光
光纖光學練習題
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4.5
一、選擇題(下列各題四個備選答案中只有一個正確答案,請將其代號寫在題干前面的括號內。每小題1.5分, 共30分) 1有關光纖中傳輸的模式,下列哪一個命題是錯誤的? a、對于結構參數給定的光纖,其中傳輸的模式是唯一確定的; b、te01、tm01和he21模具有相同的截止頻率; c、一個模式都有自己對應的截止頻率; d、he11模是唯一不能截止的模式。 2光纖中能夠支持的模式由光纖波導本身決定,但光纖中能夠激勵出的模式與很多因素有關,問光纖中實際能 夠激勵出的模式與下列哪些因素無關: a、入射光源的光功率;b、入射介質的折射率; c、光的入射角;d、入射點的位置。 3主模式號為14的模群中所含的精確模式總數為: a、14;b、26;c、28;d、7 4通常將光纖通信劃分為三個傳輸窗口,其主要原因是: a、光纖的彎曲損耗;b、oh — 吸收損耗;
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職位:安證資料員
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