更新日期: 2025-05-06

噶米集成電路制造技術(shù)原理與工藝王蔚習(xí)題解答第4單元

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噶米集成電路制造技術(shù)原理與工藝王蔚習(xí)題解答第4單元 4.5

復(fù)習(xí)題 1. ULSI 中對(duì)光刻技術(shù)的基本要求? 答:一般來(lái)說(shuō),在 ULSI 中對(duì)光刻技術(shù)的基本要求包括五方面:①高分辨率。隨著集成 電路集成度的不斷提高, 加工的線條越來(lái)越精細(xì), 要求光刻的圖形具有高分辨率。 在集成電 路工藝中, 通常把線寬作為光刻水平的標(biāo)志, 一般也可以用加工圖形線寬的能力來(lái)代表集成 電路的工藝水平。 ②高靈敏度的光刻膠。 光刻膠的靈敏度通常是指光刻膠的感光速度。 在集 成電路工藝中為了提高產(chǎn)品的產(chǎn)量, 希望曝光時(shí)間愈短愈好。 為了減小曝光所需的時(shí)間, 需 要使用高靈敏度的光刻膠。 光刻膠的靈敏度與光刻膠的成份以及光刻工藝條件都有關(guān)系, 而 且伴隨著靈敏度的提高往往會(huì)使光刻膠的其它屬性變差。 因此,在確保光刻膠各項(xiàng)屬性均為 優(yōu)異的前提下, 提高光刻膠的靈敏度已經(jīng)成為了重要的研究課題。 ③低缺陷。 在集成電路芯 片的加工過(guò)程中, 如果在器件上產(chǎn)生一個(gè)缺陷, 即使缺陷的尺

“集成電路設(shè)計(jì)與制造技術(shù)研討會(huì)”征文

“集成電路設(shè)計(jì)與制造技術(shù)研討會(huì)”征文

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第十屆中國(guó)科協(xié)年會(huì)將于2008年9月17日-19日在鄭州舉行。中國(guó)電子學(xué)會(huì)承擔(dān)中國(guó)科協(xié)年會(huì)\"集成電路設(shè)計(jì)與制造技術(shù)研討會(huì)\"的工作?,F(xiàn)在重點(diǎn)圍繞\"集成電路設(shè)計(jì)與制造技術(shù)\"等

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“集成電路設(shè)計(jì)與制造技術(shù)研討會(huì)”征文

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第十屆中國(guó)科協(xié)年會(huì)將于2008年9月17日-19日在鄭州舉行。中國(guó)電子學(xué)會(huì)承擔(dān)中國(guó)科協(xié)年會(huì)\"集成電路設(shè)計(jì)與制造技術(shù)研討會(huì)\"的工作?,F(xiàn)在重點(diǎn)圍繞\"集成電路設(shè)計(jì)與制造技術(shù)\"等

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《集成電路工藝原理(芯片制造)》課程試題庫(kù)

《集成電路工藝原理(芯片制造)》課程試題庫(kù)

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《集成電路工藝原理(芯片制造)》課程試題庫(kù) 4.5

《集成電路工藝原理(芯片制造)》課程試題庫(kù)

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86封裝工藝屬于集成電路制造工藝的

86封裝工藝屬于集成電路制造工藝的

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86封裝工藝屬于集成電路制造工藝的 4.4

盡信書(shū)不如無(wú)書(shū)-------#16---504 1、封裝工藝屬于集成電路制造工藝的()工序。 2、按照器件與電路板連接方式,封裝可分為引腳插入型(pth)和()兩大類(lèi)。 3、芯片封裝所使用的材料有許多,其中金屬主要為()材料。 4、()技術(shù)的出現(xiàn)解決了芯片小而封裝大的矛盾。 5、在芯片貼裝工藝中要求:已切割下來(lái)的芯片要貼裝到引腳架的中間焊盤(pán)上,焊盤(pán)的尺寸 要與芯片的大小要()。 6、在倒裝焊接后的芯片下填充,由于毛細(xì)管虹吸作用,填料被吸入并向芯片基板的中心流 動(dòng),一個(gè)12.7mm見(jiàn)方的芯片,()分鐘可完全充滿(mǎn)縫隙,用料大約0.031ml。 7、用溶劑來(lái)去飛邊毛刺通常只適用于()的毛刺。 8、如果厚膜漿料的有效物質(zhì)是一種絕緣材料,則燒結(jié)后的膜是一種介電體,通常可用于制 作()。 9、能級(jí)之間電位差越大,噪聲越()。 10、薄膜電路的頂層材料一般是()。

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噶米集成電路制造技術(shù)原理與工藝熱門(mén)文檔

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集成電路制造工藝_百度文庫(kù)(精)

集成電路制造工藝_百度文庫(kù)(精)

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集成電路制造工藝_百度文庫(kù)(精) 4.3

從電路設(shè)計(jì)到芯片完成離不開(kāi)集成電路的制備工藝,本章主要介紹硅襯底上的 cmos集成電路制造的工藝過(guò)程。有些cmos集成電路涉及到高壓mos器件 (例如平板顯示驅(qū)動(dòng)芯片、智能功率cmos集成電路等),因此高低壓電路的兼 容性就顯得十分重要,在本章最后將重點(diǎn)說(shuō)明高低壓兼 容的cmos工藝流程。 1.1基本的制備工藝過(guò)程 cmos集成電路的制備工藝是一個(gè)非常復(fù)雜而又精密的過(guò)程,它由若干單項(xiàng) 制備工藝組合而成。下面將分別簡(jiǎn)要介紹這些單項(xiàng)制備工藝。 1.1.1襯底材料的制備 任何集成電路的制造都離不開(kāi)襯底材料——單晶硅。制備單晶硅有兩種方法: 懸浮區(qū)熔法和直拉法,這兩種方法制成的單晶硅具有不同的性質(zhì)和不同的集成電路 用途。 1懸浮區(qū)熔法 懸浮區(qū)熔法是在20世紀(jì)50年代提出并很快被應(yīng)用到晶體制備技術(shù)中。在懸浮 區(qū)熔法中,使圓柱形硅棒固定于垂直方向,用高頻感應(yīng)線圈在氬氣氣

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SICA高端集成電路芯片設(shè)計(jì)、制造技術(shù)高級(jí)研修班 SICA高端集成電路芯片設(shè)計(jì)、制造技術(shù)高級(jí)研修班 SICA高端集成電路芯片設(shè)計(jì)、制造技術(shù)高級(jí)研修班

SICA高端集成電路芯片設(shè)計(jì)、制造技術(shù)高級(jí)研修班

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SICA高端集成電路芯片設(shè)計(jì)、制造技術(shù)高級(jí)研修班 4.6

在上海市人保局、上海市經(jīng)信委的持續(xù)支持下,上海市集成電路行業(yè)協(xié)會(huì)已成功舉辦九次\"集成電路產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展高級(jí)研修班\

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集成電路工藝原理與實(shí)踐課程體系改革與探索

集成電路工藝原理與實(shí)踐課程體系改革與探索

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集成電路工藝原理與實(shí)踐課程體系改革與探索 4.4

根據(jù)現(xiàn)有的教學(xué)平臺(tái)、微電子技術(shù)人才的培養(yǎng)要求,整合優(yōu)勢(shì)資源,構(gòu)建集半導(dǎo)體工藝原理、器件模擬與仿真和半導(dǎo)體工藝實(shí)踐為一體的集成電路工藝原理與實(shí)踐課程體系。在不斷整合、修正和完善課程體系教學(xué)內(nèi)容、制定合理規(guī)范考核機(jī)制的基礎(chǔ)上,有效地提升任課教師的理論、實(shí)踐教學(xué)能力,為培養(yǎng)具有提出問(wèn)題、分析問(wèn)題和解決問(wèn)題能力及創(chuàng)新思維的微電子技術(shù)專(zhuān)業(yè)人才打下堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

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“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索

“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索

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“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索 4.6

圍繞應(yīng)用型、創(chuàng)新型集成電路相關(guān)人才的培養(yǎng)目標(biāo),本文詳細(xì)闡述了\"集成電路原理與應(yīng)用\"課程實(shí)踐教學(xué)所存在的主要問(wèn)題,并結(jié)合自身實(shí)踐,介紹了該課程教學(xué)內(nèi)容和教學(xué)方法的改革措施.實(shí)踐證明,通過(guò)按照全定制模擬集成電路設(shè)計(jì)流程進(jìn)行強(qiáng)化訓(xùn)練和實(shí)驗(yàn)考核等措施,能夠有效地提高學(xué)生的實(shí)踐能力、創(chuàng)新能力和綜合能力.

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“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索??

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“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索?? 4.5

本文主要結(jié)合集成電路原理應(yīng)用要點(diǎn),開(kāi)展應(yīng)用型人才培養(yǎng)原則,并且探究課堂教學(xué)中存在的不足之處,結(jié)合實(shí)踐發(fā)展要求,介紹必要的改革方式以及改革措施,通過(guò)優(yōu)化課程教學(xué)內(nèi)容、創(chuàng)新教學(xué)方法、加設(shè)前沿性知識(shí)內(nèi)容,最終提升學(xué)生對(duì)專(zhuān)業(yè)的認(rèn)知和理解能力。

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噶米集成電路制造技術(shù)原理與工藝精華文檔

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納米工藝下集成電路物理集成設(shè)計(jì)人才的培養(yǎng)探索

納米工藝下集成電路物理集成設(shè)計(jì)人才的培養(yǎng)探索

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納米工藝下集成電路物理集成設(shè)計(jì)人才的培養(yǎng)探索 4.7

本文介紹16nmfinfet工藝下集成電路的物理集成流程,分析了先進(jìn)工藝下物理集成工程師所面臨的問(wèn)題和挑戰(zhàn)。為了更好地適應(yīng)新的要求,對(duì)我國(guó)高校ic人才培養(yǎng)的相關(guān)環(huán)節(jié)提出了探索性的建議。

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“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索 “集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索 “集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索

“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索

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“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索 4.5

圍繞應(yīng)用型、創(chuàng)新型集成電路相關(guān)人才的培養(yǎng)目標(biāo),本文詳細(xì)闡述了"集成電路原理與應(yīng)用"課程實(shí)踐教學(xué)所存在的主要問(wèn)題,并結(jié)合自身實(shí)踐,介紹了該課程教學(xué)內(nèi)容和教學(xué)方法的改革措施.實(shí)踐證明,通過(guò)按照全定制模擬集成電路設(shè)計(jì)流程進(jìn)行強(qiáng)化訓(xùn)練和實(shí)驗(yàn)考核等措施,能夠有效地提高學(xué)生的實(shí)踐能力、創(chuàng)新能力和綜合能力.

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“集成電路原理與應(yīng)用”課程實(shí)踐教學(xué)改革探索 4.6

圍繞應(yīng)用型、創(chuàng)新型集成電路相關(guān)人才的培養(yǎng)目標(biāo),本文詳細(xì)闡述了"集成電路原理與應(yīng)用"課程實(shí)踐教學(xué)所存在的主要問(wèn)題,并結(jié)合自身實(shí)踐,介紹了該課程教學(xué)內(nèi)容和教學(xué)方法的改革措施.實(shí)踐證明,通過(guò)按照全定制模擬集成電路設(shè)計(jì)流程進(jìn)行強(qiáng)化訓(xùn)練和實(shí)驗(yàn)考核等措施,能夠有效地提高學(xué)生的實(shí)踐能力、創(chuàng)新能力和綜合能力.

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集成電路論文

集成電路論文

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集成電路論文 4.5

集成電路論文第1頁(yè) 智能配電網(wǎng)中電力變壓器的應(yīng)用研究 摘要 為應(yīng)對(duì)電力系統(tǒng)在新世紀(jì)面臨的分布式電源并網(wǎng)、電網(wǎng)利用系數(shù)低,高可靠性,高 電能質(zhì)量要求以及數(shù)字化技術(shù)應(yīng)用等諸多挑戰(zhàn),智能電網(wǎng)成為未來(lái)電網(wǎng)的主要發(fā)展方向。 智能電網(wǎng)的建設(shè)離不開(kāi)高級(jí)電力電子裝置,因此電力電子變壓器的研究對(duì)于建設(shè)綠色電 網(wǎng),智能電網(wǎng)具有重要的意義。論文首先對(duì)智能電網(wǎng)的概念及功能特點(diǎn)進(jìn)行了介紹,其 次,論文分析了電力電子變壓器的基本原理和拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),最后,論文就ac/ac和ac /dc/ac這兩種典型的電力電子變壓器在智能配電網(wǎng)上的應(yīng)用進(jìn)行了研究。首先提出 了應(yīng)用在配電網(wǎng)的基于ac/ac型電力電子變壓器的自動(dòng)電壓穩(wěn)壓器。其次,論文分析 了應(yīng)用在智能配電網(wǎng)中的基于ac/dc/ac型電力電子變壓器的電能質(zhì)量控制方案,構(gòu) 建了系統(tǒng)的數(shù)學(xué)模型,詳細(xì)分析了電力電子變壓器輸入級(jí)、中間隔離級(jí)和輸出級(jí)的控制 策略。

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集成電路測(cè)試

集成電路測(cè)試

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集成電路測(cè)試 4.6

第一章 集成電路的測(cè)試 1.集成電路測(cè)試的定義 集成電路測(cè)試是對(duì)集成電路或模塊進(jìn)行檢測(cè),通過(guò)測(cè)量對(duì)于集成電路的輸出回應(yīng)和預(yù)期 輸出比較,以確定或評(píng)估集成電路元器件功能和性能的過(guò)程,是驗(yàn)證設(shè)計(jì)、監(jiān)控生產(chǎn)、保證 質(zhì)量、分析失效以及指導(dǎo)應(yīng)用的重要手段。 .2.集成電路測(cè)試的基本原理 輸入x輸出回應(yīng)y 被測(cè)電路dut(deviceundertest)可作為一個(gè)已知功能的實(shí)體,測(cè)試依據(jù)原始輸入x 和網(wǎng)絡(luò)功能集f(x),確定原始輸出回應(yīng)y,并分析y是否表達(dá)了電路網(wǎng)絡(luò)的實(shí)際輸出。因 此,測(cè)試的基本任務(wù)是生成測(cè)試輸入,而測(cè)試系統(tǒng)的基本任務(wù)則是將測(cè)試輸人應(yīng)用于被測(cè)器 件,并分析其輸出的正確性。測(cè)試過(guò)程中,測(cè)試系統(tǒng)首先生成輸入定時(shí)波形信號(hào)施加到被測(cè) 器件的原始輸入管腳,第二步是從被測(cè)器件的原始輸出管腳采樣輸出回應(yīng),最后經(jīng)過(guò)分析處 理得到測(cè)試結(jié)果。 3.集成電路故障與測(cè)

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噶米集成電路制造技術(shù)原理與工藝最新文檔

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基于納米工藝的數(shù)字集成電路電源版圖設(shè)計(jì)

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基于納米工藝的數(shù)字集成電路電源版圖設(shè)計(jì) 4.7

在納米工藝的數(shù)字集成電路電源版圖設(shè)計(jì)中,根據(jù)芯片布局合理進(jìn)行電源布局、電源個(gè)數(shù)以及電源布線等方面設(shè)計(jì),確保每一個(gè)電壓域都有完整的電源網(wǎng)絡(luò)。在電源分析時(shí)從電壓降、功耗及電遷移評(píng)估分析,使設(shè)計(jì)好的電源網(wǎng)絡(luò)符合電源預(yù)算規(guī)劃。在可靠性設(shè)計(jì)時(shí)采取布線優(yōu)化、添加去耦電容、優(yōu)化封裝設(shè)計(jì)等方法,提高電源抗干擾能力,從而降低電壓降、提高電源的完整性和可靠性。

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集成電路可制造性設(shè)計(jì)中器件參數(shù)的提取 集成電路可制造性設(shè)計(jì)中器件參數(shù)的提取 集成電路可制造性設(shè)計(jì)中器件參數(shù)的提取

集成電路可制造性設(shè)計(jì)中器件參數(shù)的提取

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集成電路可制造性設(shè)計(jì)中器件參數(shù)的提取 4.5

分別采用流體力學(xué)模型和漂移擴(kuò)散模型對(duì)不同溝道長(zhǎng)度的nmosfet進(jìn)行襯底電流的提取,并以nmosfet溝道長(zhǎng)度和ldd注入峰值綜合對(duì)器件特性的影響為研究?jī)?nèi)容,介紹了集成電路可制造性設(shè)計(jì)中器件參數(shù)的優(yōu)化與提取。

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厚膜混合集成電路孔金屬化制造工藝探討 厚膜混合集成電路孔金屬化制造工藝探討 厚膜混合集成電路孔金屬化制造工藝探討

厚膜混合集成電路孔金屬化制造工藝探討

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厚膜混合集成電路孔金屬化制造工藝探討 4.6

隨著電子產(chǎn)品技術(shù)含量的不斷升級(jí),對(duì)于厚膜混合集成電路的制造工藝提出了更高的要求,從而產(chǎn)生了孔金屬化的制造工藝。文章主要闡述了孔金屬化的原理和制造工藝,并結(jié)合多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),對(duì)影響孔金屬化制造的因素進(jìn)行探討和總結(jié)。

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集成電路可制造性工程與設(shè)計(jì)方法學(xué) 集成電路可制造性工程與設(shè)計(jì)方法學(xué) 集成電路可制造性工程與設(shè)計(jì)方法學(xué)

集成電路可制造性工程與設(shè)計(jì)方法學(xué)

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集成電路可制造性工程與設(shè)計(jì)方法學(xué) 4.6

集成電路(ic)可制造性工程與設(shè)計(jì)是近年來(lái)發(fā)展很快的研究領(lǐng)域,它集ic設(shè)計(jì)、制造、封裝和測(cè)試過(guò)程為一體,在統(tǒng)一框架(即產(chǎn)品制造成本和成品率驅(qū)動(dòng))下,對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行規(guī)劃和設(shè)計(jì)。應(yīng)用該技術(shù)可以大大縮短ic產(chǎn)品研制周期、降低制造成本、提高成品率和可靠性,本文將綜述該領(lǐng)域的研究進(jìn)展,并闡述進(jìn)一步的研究方向。

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集成電路發(fā)展規(guī)劃

集成電路發(fā)展規(guī)劃

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集成電路發(fā)展規(guī)劃 4.7

集成電路產(chǎn)業(yè)“十二五”發(fā)展規(guī)劃 i 目錄 前言................................................................................................................................1 一、“十一五”回顧....................................................................................................1 (一)產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大.....................................................................................2 (二)創(chuàng)新能力顯著提升..................

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雙極型集成電路

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雙極型集成電路 4.5

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密腳間距QFP集成電路引線成形工藝研究 密腳間距QFP集成電路引線成形工藝研究 密腳間距QFP集成電路引線成形工藝研究

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密腳間距QFP集成電路引線成形工藝研究 4.5

集成電路引線成形原本是集成電路封裝的后道工序,成形質(zhì)量將直接影響電子裝聯(lián)產(chǎn)品的可靠性,其關(guān)鍵工藝點(diǎn)在于成形的肩寬、站高、焊接長(zhǎng)度和共面度等關(guān)鍵工藝參數(shù)的選擇以及成形工藝裝備的合理配置與優(yōu)化。論述了目前表面貼裝密腳間距qfp封裝器件在應(yīng)用中遇到的引線成形問(wèn)題,介紹了該類(lèi)器件成形中的相關(guān)技術(shù)要求及目前國(guó)內(nèi)外器件成形的現(xiàn)狀,提出了引線手工成形的解決方案。

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Si2和SEMI宣布聯(lián)手改良集成電路可制造性設(shè)計(jì)

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Si2和SEMI宣布聯(lián)手改良集成電路可制造性設(shè)計(jì) 4.6

加州圣何塞——siliconintegrationinitiative(si2)和semi日前宣布一項(xiàng)合作協(xié)議,旨在應(yīng)對(duì)日益復(fù)雜的集成電路可制造性設(shè)計(jì)以及不斷增長(zhǎng)的成本問(wèn)題。

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我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的機(jī)遇與挑戰(zhàn) 我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的機(jī)遇與挑戰(zhàn) 我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的機(jī)遇與挑戰(zhàn)

我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的機(jī)遇與挑戰(zhàn)

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我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的機(jī)遇與挑戰(zhàn) 4.4

2016年10月9日下午,中共中央政治局就實(shí)施網(wǎng)絡(luò)強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略進(jìn)行第三十六次集體學(xué)習(xí)。中共中央總書(shū)記習(xí)近平在主持學(xué)習(xí)時(shí)強(qiáng)調(diào),要緊緊牽住核心技術(shù)自主創(chuàng)新這個(gè)"牛鼻子",抓緊突破網(wǎng)絡(luò)發(fā)展的前沿技術(shù)和具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵核心技術(shù),加快推進(jìn)國(guó)產(chǎn)自主可控替代計(jì)劃,構(gòu)建安全可控的信息技術(shù)體系。習(xí)近平總書(shū)記在網(wǎng)絡(luò)安全和信息化工作座談會(huì)上指出,核心技術(shù)是國(guó)之重器,最關(guān)鍵最核心的技術(shù)要立足自主創(chuàng)新、自立自強(qiáng)。

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超大規(guī)模集成電路的可制造性設(shè)計(jì) 超大規(guī)模集成電路的可制造性設(shè)計(jì) 超大規(guī)模集成電路的可制造性設(shè)計(jì)

超大規(guī)模集成電路的可制造性設(shè)計(jì)

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超大規(guī)模集成電路的可制造性設(shè)計(jì) 4.5

以synopsys推出的tcad軟件tsuprem-ⅳ和medici為藍(lán)本,結(jié)合100nm柵長(zhǎng)pmosfet的可制造性聯(lián)機(jī)仿真與優(yōu)化實(shí)例,闡述了超大規(guī)模集成電路dfm階段所進(jìn)行的工藝級(jí)、器件物理特性級(jí)優(yōu)化及工藝參數(shù)的提取。

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噶米集成電路制造技術(shù)原理與工藝相關(guān)

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職位:室內(nèi)設(shè)計(jì)師助理

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