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為了解決真空中的沿面閃絡現(xiàn)象制約真空絕緣系統(tǒng)的整體性能的問題,提出將一種具有優(yōu)良的可加工性能及表面耐電性能的微晶玻璃(又稱可加工陶瓷)引入真空絕緣領域,研究了氫氟酸的體積分數(shù)φ(HF)不同時處理可加工陶瓷樣品前后其電學特性的變化。利用X射線衍射(XRD)技術,定性分析了φ(HF)不同時處理樣品后表面的玻璃相的體積分數(shù)φ(GP);采用光電結合的方法,測量了φ(HF)不同時處理樣品在真空高壓脈沖下的沿面閃絡特性。φ(HF)不同時處理可加工陶瓷后,其表面φ(GP)和真空表面耐電性能均改變;φ(HF)越高,則樣品表面的φ(GP)越低,真空耐電特性越好。通過氫氟酸處理可以腐蝕掉樣品表面的玻璃相,從而改變了脫陷電子的"爬電高度",進而影響了可加工陶瓷的真空表面耐電性能。