我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
沈陽清洗超純水設(shè)備工藝流程
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝) 5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
沈陽清洗超純水設(shè)備主要應(yīng)用在電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗;電子管生產(chǎn);電子管陰極涂敷碳酸鹽配液;顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn);玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;液晶顯示器的生產(chǎn);屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等。
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水。清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
電子清洗超純水設(shè)備制取超純水工藝
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝) 5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
電子清洗超純水設(shè)備主要應(yīng)用在電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗;電子管生產(chǎn);電子管陰極涂敷碳酸鹽配液;顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn);玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;液晶顯示器的生產(chǎn);屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等.
清洗半成品、成品、集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對沈陽清洗超純水設(shè)備工藝及沈陽清洗超純水設(shè)備的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
沈陽清洗超純水設(shè)備工藝流程
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝) 5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
沈陽清洗超純水設(shè)備主要應(yīng)用在電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗;電子管生產(chǎn);電子管陰極涂敷碳酸鹽配液;顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn);玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;液晶顯示器的生產(chǎn);屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等。
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水。清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
電子清洗超純水設(shè)備制取超純水工藝
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝) 5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
電子清洗超純水設(shè)備主要應(yīng)用在電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗;電子管生產(chǎn);電子管陰極涂敷碳酸鹽配液;顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn);玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;液晶顯示器的生產(chǎn);屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等.2100433B
科立潔公司的純水設(shè)備,是我國優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品。其特點(diǎn)為: ①采用進(jìn)口優(yōu)質(zhì)名牌產(chǎn)品以保證系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定?! 、谠O(shè)備、管材、閥門的材質(zhì)選擇應(yīng)確保水的純度。超純水箱采用PVDF內(nèi)襯、并設(shè)氮?dú)獗Wo(hù),管材閥門選用時(shí)首先...
連續(xù)電除鹽(EDI)技術(shù)是一項(xiàng)日臻成熟的制取高純水的技術(shù)。十年來在國內(nèi)已經(jīng)逐步取代傳統(tǒng)的離子交換技術(shù),在電力、電子、太陽能、化工、醫(yī)藥等水處理,純化水系統(tǒng)中大規(guī)模使用。據(jù)統(tǒng)計(jì)2011年中國EDI產(chǎn)品的...
超純水設(shè)備和純水設(shè)備對應(yīng)的是水質(zhì)要求,因此,不同等級的水質(zhì)要求,就需要不同工藝的設(shè)備。超純水設(shè)備是在純水設(shè)備基礎(chǔ)上的增強(qiáng)版,多了二級反滲透,EDI,拋光混床,TOC等。深圳純水一號水處理為您解答。
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化工行業(yè)超純水設(shè)備使用規(guī)范 一、化工超純水設(shè)備概述 化工超純水設(shè)備顧名思義主要用于化工行業(yè),設(shè)備組成主 要有石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器、反滲透主機(jī)、 后處理裝置等。超純水設(shè)備采用先進(jìn)的反滲透膜,可以有效的 去除掉水中雜質(zhì)。 二、化工超純水設(shè)備工作原理 1、主要部分流入樹脂 /膜內(nèi)部,而另一部分沿模板外側(cè)流 動,以洗去透出膜外的離子。 2、樹脂截留水中的溶存離子。 3、被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運(yùn)動, 陽離子向負(fù)極方向運(yùn)動。 4、陽離子透過陽離子膜,排出樹脂 /膜之外。 5、陰離子透過陰離子膜,排出樹脂 /膜之外。 6、濃縮了的離子從廢水流路中排出。 7、無離子水從樹脂 /膜內(nèi)流出。 三、化工超純水設(shè)備工藝流程 1、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟 水器→精密過濾器→一級反滲透設(shè)備→中間水箱→中間水泵→ 離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→
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1 word. 超純水設(shè)備制水工藝及詳細(xì)技術(shù)方案 超純水設(shè)備 適用范圍:本系統(tǒng)適用于樹膠業(yè)清洗和生產(chǎn)用純 水。 工程類別:水處理系統(tǒng)銷售、安裝、服務(wù)。 系統(tǒng)總進(jìn)水量: 5m3/hr 系統(tǒng)產(chǎn)水量: 2m3/hr@25℃ 系統(tǒng)回收率: 55~70% 產(chǎn)水水質(zhì):電導(dǎo)率≤ 0.2μs/cm@25℃ 運(yùn)行方式:自動運(yùn)行 (并具備手動操作功能 )。 原水水源:自來水 原水設(shè)計(jì)溫度: 25℃ 制水工藝:RO反滲透 +EDI連續(xù)電除鹽〔或 IX 樹脂離子交換〕 主要配置: 預(yù)處理系統(tǒng):原水箱、原水箱液位控制器、 原水進(jìn)水電磁閥、 原水泵、 PAM計(jì)量泵、多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器、阻垢劑計(jì) 量泵、管路、閥門。 1 word. RO反滲透系統(tǒng):高壓泵、反滲透膜、反滲透膜殼、膜架、 控制系統(tǒng)、進(jìn)水電磁閥、沖洗電磁閥、調(diào)壓閥、高壓開關(guān)、低壓 開關(guān)、精密過濾器。 儲存系統(tǒng):液位控制器、中間水箱。 ED
超聲波清洗用水 要求極高,如果水中含有任何雜質(zhì)都會影響設(shè)備的正常使用。水處理行業(yè)為了幫助用戶解決這一問題,針對設(shè)備用水要求研制了一款專用型超聲波清洗用超純水設(shè)備,運(yùn)用先進(jìn)的技術(shù)解決清洗設(shè)備用水問題。
超聲波清洗用純水采用兩級反滲透處理工藝解析
自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透→PH調(diào)節(jié)→混合器→二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
超聲波清洗用超純水采用高效反滲透加EDI處理工藝解析
自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng)→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)
超聲波清洗用超純水設(shè)備特點(diǎn)
該設(shè)備采用膜分離技術(shù)與EDI模塊相結(jié)合,屬于純物理處理流程,不會產(chǎn)生二次污染。這也是這種技術(shù)被廣泛推廣的最主要原因之一。它的產(chǎn)水純度較高,適用于各類對用水要求極高的行業(yè)。該技術(shù)的研制象征這水處理行業(yè)的飛速發(fā)展,將水處理技術(shù)推向了全新的高度。為了延長設(shè)備的使用壽命,建議用戶對其進(jìn)行定期清洗和維護(hù),尤其是設(shè)備中的膜元件和EDI模塊,它們是設(shè)備中最主要的部件,如果出現(xiàn)任何問題都會直接影響最終產(chǎn)水的質(zhì)量。超純水制取技術(shù)將隨著用戶要求的提高而繼續(xù)完善和提升。
超聲波清洗用純水采用兩級反滲透處理工藝解析
自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透→PH調(diào)節(jié)→混合器→二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
超聲波清洗用超純水采用高效反滲透加EDI處理工藝解析
自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng)→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)
超聲波清洗用超純水設(shè)備特點(diǎn)
該設(shè)備采用膜分離技術(shù)與EDI模塊相結(jié)合,屬于純物理處理流程,不會產(chǎn)生二次污染。這也是這種技術(shù)被廣泛推廣的最主要原因之一。它的產(chǎn)水純度較高,適用于各類對用水要求極高的行業(yè)。該技術(shù)的研制象征這水處理行業(yè)的飛速發(fā)展,將水處理技術(shù)推向了全新的高度。為了延長設(shè)備的使用壽命,建議用戶對其進(jìn)行定期清洗和維護(hù),尤其是設(shè)備中的膜元件和EDI模塊,它們是設(shè)備中最主要的部件,如果出現(xiàn)任何問題都會直接影響最終產(chǎn)水的質(zhì)量。超純水制取技術(shù)將隨著用戶要求的提高而繼續(xù)完善和提升。2100433B
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。