在半導體器件的應用方面,隨著碳化硅生產(chǎn)成本的降低,碳化硅由于其優(yōu)良的性能而可能取代硅作芯片,打破硅芯片由于材料本身性能的瓶頸,將給電子業(yè)帶來革命性的變革。
碳化硅的主要應用領域有LED固體照明和高頻率器件,未來手機和筆記本電腦的背景光市場將給碳化硅提供巨大的需求增長。
而由于一些特殊方面的應用,國外碳化硅生產(chǎn)企業(yè)對中國進行禁運,而碳化硅晶體巨大的技術(shù)壁壘又導致中國國內(nèi)到目前為止仍沒有企業(yè)能夠生產(chǎn),因此,國內(nèi)下游企業(yè)和研究機構(gòu)都在"等米下鍋"。
全球主要碳化硅晶片制造商美國Cree公司在NASDAQ上市的Cree公司的碳化硅晶片產(chǎn)量為30萬片,占全球出貨量的85%。是全球碳化硅晶片行業(yè)的先行者,為后續(xù)有自主創(chuàng)新能力的企業(yè)開拓了市場和發(fā)展路徑。
.性質(zhì)
碳化硅的硬度很大,具有優(yōu)良的導熱和導電性能,高溫時能抗氧化。
用途
(1)作為磨料,可用來做磨具,如砂輪、油石、磨頭、砂瓦類等。
(2)作為冶金脫氧劑和耐高溫材料。
碳化硅主要有四大應用領域,即: 功能陶瓷、高級耐火材料、磨料及冶金原料。碳化硅粗料已能大量供應, 不能算高新技術(shù)產(chǎn)品,而技術(shù)含量極高 的納米級碳化硅粉體的應用短時間不可能形成規(guī)模經(jīng)濟。
(3)高純度的單晶,可用于制造半導體、制造碳化硅纖維。
產(chǎn)地、輸往國別及品質(zhì)規(guī)格
(1)產(chǎn)地:青海、寧夏、河南、四川、貴州等地。
(2)輸往國別:美國、日本、韓國、及某些歐洲國家。
(3)品質(zhì)規(guī)格:
①磨料級碳化硅技術(shù)條件按GB/T2480-96。各牌號的化學成分由表6-6-47和表6-6-48給出。
②磨料粒度及其組成按GB/T2477-83。磨料粒度組成測定方法按GB/T2481-83。
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最好的棕剛玉硬度是不是比碳化硅硬度會高一些。好的棕剛玉氧化鋁含量能達到96,所以硬度很高,由于它們的生產(chǎn)原材料不同,所以硬度也有差別,棕剛玉的莫氏硬度9.0.,而碳化硅則可以達到9.5,所以棕剛玉不能...
碳化硅 SiC >99% 8000元/噸 以上 SiC <98% 3800-4200元/噸價格近期來不是很穩(wěn)定,買賣都需慎重
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北京佐思信息咨詢有限責任公司 Beijing OKOKOK Information Consulting Co.,Ltd 北京佐思 www.okokok.com.cn 地址:北京市海淀區(qū)長遠天地 C座 3-502 #, 100080 碳化硅專利分析 -單晶,晶片和外延片制造研究報告 ——SiC Patent Analysis single crystal, wafer and epiwafer manufacturing 1772 patent families to support a $80M business in 2012 ? 1772 PATENT FAMILIES TO SUPPORT A $80M BUSINESS IN 2012? Despite a cumulative raw wafers + epi wafers market that won’t exceed
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碳化硅生產(chǎn)新工藝與制備加工配方設計及技術(shù)專利全集 主編:國家專利局編寫組 出版發(fā)行:中國知識出版社 2011年 規(guī)格:全四卷 16 開精裝 +1張 CD光盤 定價: 1180元 優(yōu)惠價: 680元 詳細目錄 1 200410030786.8 鋁電解槽側(cè)墻用氮化硅結(jié)合碳化硅耐火磚及其制 備方法 2 200410023747.5 一種向缸套鉻層內(nèi)部擠入碳化硅的方法 3 200410012271.5 一種制備碳化硅納米纖維的方法 4 200410020538.5 黑色碳化硅冶煉降低單位耗料的工藝 5 200410026085.7 一種碳化硅發(fā)熱元件冷端部的制造方法 6 200410026086.1 酚醛樹脂作為結(jié)合劑的碳化硅陶瓷常溫擠壓成形 方法 7 02822412.4 大面積碳化硅器件及其制造方法 8 03125220.6 摻加助劑熱壓燒結(jié)塊體鈦碳化硅陶瓷材料的方法 9 03138926.0
從2英寸、3英寸、4英寸到如今的6英寸碳化硅單晶襯底,陳小龍團隊花了10多年時間,在國內(nèi)率先實現(xiàn)了碳化硅單晶襯底自主研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。
不久前,中國科學院物理研究所研究員陳小龍研究組與北京天科合達藍光半導體有限公司(以下簡稱天科合達)合作,解決了6英寸擴徑技術(shù)和晶片加工技術(shù),成功研制出了6英寸碳化硅單晶襯底。
從2英寸、3英寸、4英寸到如今的6英寸碳化硅單晶襯底,陳小龍團隊花了10多年時間,在國內(nèi)率先實現(xiàn)了碳化硅單晶襯底自主研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。
第三代半導體材料
研究人員表示,上世紀五六十年代,硅和鍺構(gòu)成了第一代半導體材料,主要應用于低壓、低頻、中功率晶體管以及光電探測器中。相比于鍺半導體器件,硅材料制造的半導體器件耐高溫和抗輻射性能較好。
到了上世紀60年代后期,95%以上的半導體、99%的集成電路都是用硅半導體材料制造的。直到現(xiàn)在,我們使用的半導體產(chǎn)品大多是基于硅材料的。
進入上世紀90年代后,砷化鎵、磷化銦代表了第二代半導體材料,可用于制作高速、高頻、大功率以及發(fā)光電子器件。因信息高速公路和互聯(lián)網(wǎng)的興起,第二代半導體材料被廣泛應用于衛(wèi)星通訊、移動通訊、光通信和GPS導航等領域。
與前兩代半導體材料相比,第三代半導體材料通常又被稱為寬禁帶半導體材料或高溫半導體材料。其中,碳化硅和氮化鎵在第三代半導體材料中是發(fā)展成熟的代表。
據(jù)了解到,碳化硅單晶是一種寬禁帶半導體材料,具有禁帶寬度大,臨界擊穿場強大,熱導率高,飽和漂移速度高等諸多特點,被廣泛應用于制作高溫、高頻及大功率電子器件。
關于氮化鎵,曾有報道稱,一片2英寸的氮化鎵晶片,可以生產(chǎn)出1萬盞亮度為節(jié)能燈10倍、發(fā)光效率為節(jié)能燈3~4倍、壽命為節(jié)能燈10倍的高亮度LED照明燈;也可以制造出5000個平均售價在100美元左右的藍光激光器;還可以被應用在電力電子器件上,使系統(tǒng)能耗降低30%以上。
由于碳化硅和氮化鎵的晶格失配小,碳化硅單晶是氮化鎵基LED、肖特基二極管、金氧半場效晶體管等器件的理想襯底材料。物理所先進材料與結(jié)構(gòu)分析實驗室陳小龍研究組(功能晶體研究與應用中心)長期從事碳化硅單晶生長研究工作。
大尺寸晶片的突圍
雖然用于氮化鎵生長最理想的襯底是氮化鎵單晶材料,該材料不僅可以大大提高外延膜的晶體質(zhì)量,降低位錯密度,還能提高器件工作壽命、工作電流密度和發(fā)光效率。但是,制備氮化鎵體單晶材料非常困難,到目前為止尚未有行之有效的辦法。
為此,科研人員在其他襯底(如碳化硅)上生長氮化鎵厚膜,然后通過剝離技術(shù)實現(xiàn)襯底和氮化鎵厚膜的分離,分離后的氮化鎵厚膜可作為外延用的襯底。盡管以氮化鎵厚膜為襯底的外延,相比在碳化硅材料上外延的氮化鎵薄膜,位元錯密度要明顯低,但價格昂貴。
于是,陳小龍團隊選擇了碳化硅單晶襯底研究。他指出,碳化硅單晶襯底有許多突出的優(yōu)點,如化學穩(wěn)定性好、導電性能好、導熱性能好、不吸收可見光等,但也有不足,如價格太高。
碳化硅又稱金鋼砂或耐火砂。碳化硅是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時需要加食鹽)等原料在電阻爐內(nèi)經(jīng)高溫冶煉而成。碳化硅單晶系第三代高溫寬帶隙半導體材料。
早年,全球市場上碳化硅晶片價格十分昂貴,一片2英寸碳化硅晶片的國際市場價格曾高達500美元(2006年),但仍供不應求。高昂的原材料成本占碳化硅半導體器件價格的10%以上,“碳化硅晶片價格已成為第三代半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的瓶頸。”陳小龍說。
為了降低器件成本,下游產(chǎn)業(yè)對碳化硅單晶襯底提出了大尺寸的要求。因而,采用先進的碳化硅晶體生長技術(shù),實現(xiàn)規(guī)?;a(chǎn),降低碳化硅晶片生產(chǎn)成本,將促進第三代半導體產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,拓展市場需求。
天科合達成立于2006年,依托于陳小龍研究團隊中在碳化硅領域的研究成果。自成立以來,天科合達研發(fā)出碳化硅晶體生長爐和碳化硅晶體生長、加工技術(shù)及專業(yè)設備,建立了完整的碳化硅晶片生產(chǎn)線。
這些年來,天科合達致力于提高碳化硅晶體的質(zhì)量,以及大尺寸碳化硅晶體的研發(fā),將先進的碳化硅晶體生長和加工技術(shù)產(chǎn)業(yè)化,大規(guī)模生產(chǎn)和銷售具有自主知識產(chǎn)權(quán)的碳化硅晶片。
10年自主創(chuàng)新之路
美國科銳公司作為碳化硅襯底提供商,曾長期壟斷國際市場。2011年,科銳公司發(fā)布了6英寸碳化硅晶體,同年,天科合達才開始量產(chǎn)4英寸碳化硅晶體。
2013年,陳小龍團隊開始進行6英寸碳化硅晶體的研發(fā)工作,用了近一年的時間,團隊研發(fā)的國產(chǎn)6英寸碳化硅單晶襯底問世。測試證明,國產(chǎn)6英寸碳化硅晶體的結(jié)晶質(zhì)量很好,該成果標志著物理所碳化硅單晶生長研發(fā)工作已達到國際先進水平,可以為高性能碳化硅基電子器件的國產(chǎn)化提供材料基礎。
“雖然起步有點晚,但通過10多年的自主研發(fā),我們與國外的技術(shù)差距在逐步縮小。”陳小龍說。作為國內(nèi)碳化硅晶片生產(chǎn)制造的先行者,天科合達打破了國外壟斷,填補了國內(nèi)空白,生產(chǎn)的碳化硅晶片不僅技術(shù)成熟,還低于國際同類產(chǎn)品價格。
截至2014年3月,天科合達形成了一條年產(chǎn)7萬片碳化硅晶片的生產(chǎn)線,促進了我國第三代半導體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)穩(wěn)定發(fā)展,取得了較好的經(jīng)濟效益和社會效益。
陳小龍指出,當前碳化硅主要應用于三大領域:高亮度LED、電力電子以及先進雷達,以后還可能走進家用市場,這意味著陳小龍團隊的自主創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化之路還將延續(xù)。
天富熱電控股子公司北京天科合達藍光半導體有限公司一直致力于碳化硅晶片的研發(fā)工作,經(jīng)過長期努力,該項目研究取得了較大的突破。
目前,天科合達共安裝碳化硅晶體生長爐33臺,晶片加工設備一批,初步具備了批量生產(chǎn)2英寸6H/4H導電型碳化硅晶片的能力,目前正在積極開拓市場,向全球研發(fā)機構(gòu)提供較高性價比的產(chǎn)品,以此打開銷售局面。截止目前,天科合達碳化硅晶片產(chǎn)品還未有大批量的商業(yè)訂單銷售。此外,天科合達已開發(fā)出非摻雜半絕緣碳化硅晶體生長技術(shù),目前正致力于此類產(chǎn)品生長技術(shù)的優(yōu)化工作。我們給予"繼續(xù)持有"評級。
2009-臨003新疆天富熱電股份有限公司碳化硅晶片項目進展公告公司控股子公司北京天科合達藍光半導體有限公司一直致力于碳化硅晶片的研發(fā)工作,經(jīng)過長期努力,該項目研究取得了較大的突破。
目前,天科合達共安裝碳化硅晶體生長爐33臺(其中北京研發(fā)中心9臺,新疆生產(chǎn)基地24臺),晶片加工設備一批,初步具備了批量生產(chǎn)2英寸6H/4H導電型碳化硅晶片的能力,目前正在積極開拓市場,向全球研發(fā)機構(gòu)提供較高性價比的產(chǎn)品,以此打開銷售局面。截止目前,天科合達碳化硅晶片產(chǎn)品還未有大批量的商業(yè)訂單銷售。此外,天科合達已開發(fā)出非摻雜半絕緣碳化硅晶體生長技術(shù),目前正致力于此類產(chǎn)品生長技術(shù)的優(yōu)化工作
行業(yè)前景分析:
參考資料: