小米電視大師77 OLED

小米電視大師 77 OLED 售價 19999 元，首發(fā)價 16999 元。 2100433B

小米第二代大師電視采用 2021 年度高端 V21 屏幕，全新的發(fā)光材料將對比度提升到 1500000：1，搭載全新的杜比視界 IQ 技術(shù)根據(jù)環(huán)境光，智能實時調(diào)節(jié)屏幕亮度和色溫。

小米第二代大師電視搭載 Pro 級原色屏，覆蓋四大專業(yè)廣色域。

小米第二代大師電視配備雙 HDMI 2.1 接口，120Hz 高刷新率，并支持杜比視界游戲顯示，G-SYNC 專業(yè)游戲認(rèn)證。

音質(zhì)方面，小米攜手哈曼卡頓共同打造大師音質(zhì)，70W 澎湃功率，3.1 劇院環(huán)繞音響，獨立中置聲道。

外觀方面，小米第二代大師電視配備 8.2mm 超薄屏幕，玻璃主機后蓋，磁吸式理線盒，隱藏雜亂走線。

小米第二代大師電視配備 NFC 金屬遙控器，手機一碰瞬間投屏，UWB 一指連配對 MIX 4，輕松控制電視，全新搭載 4K MIUI。

2021年6月24日，小米電視官宣，小米電視6將搭載百瓦音響，支持4.2.2空間環(huán)繞聲場。

2021年6月28日，小米電視6發(fā)布。

2021年8月16日，小米電視6 OLED開售。

1、oled的制備工藝 在中國大陸，oled顯示器件的制備還處于實驗室階段，但已到達(dá)了中試的邊緣，因此我們將主要討論實驗室的oled制備工藝。 　不管是實驗室、中試，還是量產(chǎn)，oled器件的制備過程基本一致，主要區(qū)別在于器件的真空蒸鍍設(shè)備上。實驗室一般選用手動的真空蒸鍍設(shè)備進(jìn)行單片樣品蒸鍍，以便于制作種類不同的實驗樣品；中試線一般采用半自動的真空蒸鍍設(shè)備進(jìn)行連續(xù)的多片樣品蒸鍍，以便于小批量產(chǎn)品的切換；量產(chǎn)線一般采用全自動的真空蒸鍍設(shè)備進(jìn)行流水樣品蒸鍍(或采用線蒸鍍技術(shù)與工藝)，以便于提高良品率、降低產(chǎn)品成本。據(jù)悉，也有的機構(gòu)正在研究嘗試在量產(chǎn)線上用旋涂技術(shù)工藝進(jìn)行生產(chǎn)oled產(chǎn)品。 　oled顯示器件的制備工藝包括：ito玻璃清洗→光刻→再清洗→前處理→真空蒸鍍有機層→真空蒸鍍背電極→真空蒸鍍保護(hù)層→封裝→切割→測試→模塊組裝→產(chǎn)品檢驗及老化實驗等十幾道工序，其幾個關(guān)鍵工序的工藝如下。 　(1)ito玻璃的洗凈及表面處理 　ito作為陽極其表面狀態(tài)直接影響空穴的注入和與有機薄膜層間的界面電子狀態(tài)及有機材料的成膜性。如果ito表面不清潔，其表面自由能變小，從而導(dǎo)致蒸鍍在上面的空穴傳輸材料發(fā)生凝聚、成膜不均勻。 　ito表面的處理過程為：洗潔精清洗→乙醇清洗→丙酮清洗→純水清洗，均用超聲波清洗機進(jìn)行清洗，每次洗滌采用清洗5分鐘，停止5分鐘，分別重復(fù)3次的方法。然后再用紅外烘箱烘干待用。對洗凈后的ito玻璃還需進(jìn)行表面活化處理，以增加ito表面層的含氧量，提高ito表面的功函數(shù)。 　也可以用比例為水:雙氧水:氨水=5:1:1混合的過氧化氫溶液處理ito表面，使ito表面過剩的錫含量減少而氧的比例增加，以提高ito表面的功函數(shù)來增加空穴注入的幾率，可使oled器件亮度提高一個數(shù)量級。 　ito玻璃在使用前還應(yīng)經(jīng)過“紫外線－臭氧”或“等離子”表面處理，主要目的是去除ito表面殘留的有機物、促使ito表面氧化、增加ito表面的功函數(shù)、提高ito表面的平整度。未經(jīng)處理的ito表面功函數(shù)約為4.6ev，經(jīng)過紫外線－臭氧或等離子表面處理后的ito表面的功函數(shù)為5.0ev以上，發(fā)光效率及工作壽命都會得到提高。對ito玻璃表面進(jìn)行處理一定要在干燥的真空環(huán)境中進(jìn)行，處理過的ito玻璃不能在空氣中放置太久，否則ito表面就會失去活性。 　(2)ito的光刻處理工藝 　(3)有機薄膜的真空蒸鍍工藝 　oled器件需要在高真空腔室中蒸鍍多層有機薄膜，薄膜的質(zhì)量關(guān)系到器件質(zhì)量和壽命。在高真空腔室中設(shè)有多個放置有機材料的蒸發(fā)舟，加熱蒸發(fā)舟蒸鍍有機材料，并利用石英晶體振蕩器來控制膜厚。ito玻璃基板放置在可加熱的旋轉(zhuǎn)樣品托架上，其下面放置的金屬掩膜板控制蒸鍍圖案。 　在我們的真空蒸鍍設(shè)備上進(jìn)行蒸鍍實驗，實驗結(jié)果表明，有機材料的蒸發(fā)溫度一般在170℃～400℃之間、ito樣品基底溫度在100℃～150℃、蒸發(fā)速度在1晶振點～10晶振點/秒(即約0.1nm～1nm/s)、蒸發(fā)腔的真空度在5×10-4pa～3×10-4pa時蒸鍍的效果較佳。 　但是，有機材料的蒸鍍還存在材料有效使用率低(〈10%)、摻雜物的濃度難以精確控制、蒸鍍速率不穩(wěn)定、真空腔容易污染等等不足之處，從而導(dǎo)致樣片基板的鍍膜均勻度達(dá)不到器件要求。 　(4)金屬電極的真空蒸鍍工藝 　金屬電極仍要在真空腔中進(jìn)行蒸鍍。金屬電極通常使用低功函數(shù)的活潑金屬，因此在有機材料薄膜蒸鍍完成后進(jìn)行蒸鍍。常用的金屬電極有mg/ag、mg:ag/ag、li/al、lif/al等。用于金屬電極蒸鍍的舟通常采用鉬、鉭和鎢等材料制作，以便用于不同的金屬電極蒸鍍(主要是防止舟金屬與蒸鍍金屬起化學(xué)反應(yīng))。 　金屬電極材料的蒸發(fā)一般用加熱電流來表示，在我們的真空蒸鍍設(shè)備上進(jìn)行蒸鍍實驗，實驗結(jié)果表明，金屬電極材料的蒸發(fā)加熱電流一般在70a～100a之間(個別金屬要超過100a)、ito樣品基底溫度在80℃左右、蒸發(fā)速度在5晶振點～50晶振點/秒(即約0.5nm～5nm/s)、蒸發(fā)腔的真空度在7×10-4pa～5×10-4pa時蒸鍍的效果較佳。 　(5)器件封裝工藝 　oled器件的有機薄膜及金屬薄膜遇水和空氣后會立即氧化，使器件性能迅速下降，因此在封裝前決不能與空氣和水接觸。因此，oled的封裝工藝一定要在無水無氧的、通有惰性氣體(如氬氣)的手套箱中進(jìn)行。封裝材料包括粘合劑和覆蓋材料。粘合劑使用紫外固化環(huán)氧固化劑，覆蓋材料則采用玻璃封蓋，在封蓋內(nèi)加裝干燥劑來吸附殘留的水分。