紫外光清洗基本原理

紫外光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達到"原子清潔度"。UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量，當這些光子作用到被清洗物體表面時，由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用?？諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下，物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。

清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關系。

紫外光清洗技術的應用主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法最為合適。

主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和 帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。

可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。 2100433B

紫外光源長波紫外光源

主要有長波紫外線燈、紫外線高壓汞燈、紫外線氙燈和紫外線金屬鹵化物燈，紫外線led發(fā)光二極管《海特奈德》。長波紫外光源廣泛應用于重氮復印、靜電復印、印刷制版，機械工業(yè)中的熒光探傷，化學工業(yè)中的光合成、光固化、光氧化，農(nóng)業(yè)上的捕魚誘蟲，公安方面的檢查、鑒別，以及某些皮膚病的治療等方面。此外，在裝飾照明、廣告照明、舞臺效果方面，長波紫外光源也日益受到重視。

紫外光源中波紫外光源

主要指紫外線熒光燈。它具有紅斑效應和保健作用，適用于醫(yī)療保健。這種燈的玻管用能截止短波紫外線的鈉鈣玻璃制作，與普通照明熒光燈的區(qū)別僅在于輻射波長的范圍不同。中波紫外線金屬鹵化物燈也可用于醫(yī)療保健。

紫外光源短波紫外光源

主要指冷陰極低壓汞燈和熱陰極低壓汞燈。冷陰極低壓汞燈結構形式多樣,有直管形、U形、盤形等，用于熒光分析、醫(yī)療和光化學反應等方面。這種燈紫外輻射強度高，但需用漏磁變壓器起動，使用不方便。熱陰極低壓汞燈即消毒滅菌燈,于1936年問世,是世界上最早使用的紫外光源。它的玻殼由能透過 254nm紫外線的玻璃（石英或高硼玻璃）制成，一般為直管形。熱陰極低壓汞燈是生產(chǎn)和應用量最大的紫外光源，在各醫(yī)院得到廣泛使用。

紫外光源真空紫外光源

主要用作光電子能譜儀的激發(fā)源、臭氧發(fā)生源和真空紫外波長標準。