更新日期: 2025-04-07

大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一)

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一) 4.3

近年來(lái),各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對(duì)這一領(lǐng)域,就主要膜系開(kāi)發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問(wèn)題及最新發(fā)展做了簡(jiǎn)單的歸納和介紹。

大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二) 大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二) 大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二)

大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二)

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近年來(lái),各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對(duì)這一領(lǐng)域,就主要膜系開(kāi)發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問(wèn)題及最新發(fā)展做了簡(jiǎn)單的歸納和介紹。

大面積熱反射真空鍍膜玻璃 大面積熱反射真空鍍膜玻璃 大面積熱反射真空鍍膜玻璃

大面積熱反射真空鍍膜玻璃

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據(jù)《電子材料》1993年第4輯報(bào)道,上海同濟(jì)大學(xué)和常州真空鍍膜廠共同研制成功大面積熱反射鍍膜玻璃,并已通過(guò)鑒定投入大批量生產(chǎn)。該產(chǎn)品是80年代國(guó)外剛發(fā)展起來(lái)的一種新型玻璃材料。使用這種玻璃時(shí)室外

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建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃 建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃 建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃

建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃

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建筑物上用的真空鍍膜熱反射玻璃 4.8

選擇具有良好反射紅外線性能的涂膜,則需具有高電荷載體濃度和移動(dòng)性。所謂真空鍍膜就是要求結(jié)構(gòu)均勻并缺陷少,且容易流動(dòng)的電子而形成的鍍膜。所用的金屬主要有金、銀、銅等。其透射率在40%以下,共形成的

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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介熱門文檔

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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空

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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、

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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測(cè)量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測(cè)技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)。

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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測(cè)量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測(cè)技術(shù)。

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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測(cè)量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測(cè)技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)。

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介精華文檔

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由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測(cè)量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測(cè)技術(shù)。

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幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識(shí) 幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識(shí) 幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識(shí)

幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識(shí)

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幕墻玻璃真空鍍膜工藝淺識(shí) 4.7

本文根據(jù)磁控濺射真空鍍膜生產(chǎn)線上的實(shí)踐,對(duì)在有色基片和白色基片上鍍制復(fù)合膜系,制備高檔次的幕墻玻璃,介紹一些淺顯的看法

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淺談?wù)婵斟兡げAУ纳a(chǎn)、產(chǎn)污及其應(yīng)用 淺談?wù)婵斟兡げAУ纳a(chǎn)、產(chǎn)污及其應(yīng)用 淺談?wù)婵斟兡げAУ纳a(chǎn)、產(chǎn)污及其應(yīng)用

淺談?wù)婵斟兡げAУ纳a(chǎn)、產(chǎn)污及其應(yīng)用

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淺談?wù)婵斟兡げAУ纳a(chǎn)、產(chǎn)污及其應(yīng)用 4.5

真空鍍膜玻璃作為環(huán)保節(jié)能新型材料有保溫、節(jié)能、降噪、防輻射等作用,隨著建筑、汽車、裝飾裝修、家具、信息產(chǎn)業(yè)技術(shù)等行業(yè)的發(fā)展和人們對(duì)生活空間環(huán)境要求的提高,安全玻璃、節(jié)能真空玻璃等功能性加工產(chǎn)品得到廣泛應(yīng)用。生產(chǎn)真空鍍膜玻璃對(duì)推動(dòng)整個(gè)國(guó)民經(jīng)濟(jì)的發(fā)展起著積極作用。

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大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介最新文檔

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高耐溫真空鍍膜底漆的研制 高耐溫真空鍍膜底漆的研制 高耐溫真空鍍膜底漆的研制

高耐溫真空鍍膜底漆的研制

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高耐溫真空鍍膜底漆的研制 4.5

選用含有大量不飽和雙鍵、耐溫性優(yōu)異、流平性好的聚1,2-丁二烯為主要成膜物質(zhì),通過(guò)引入長(zhǎng)碳鏈?zhǔn)逄冀Y(jié)構(gòu)提高涂膜的流平性能和豐滿度;引入氨酯鍵一方面調(diào)整相對(duì)分子質(zhì)量,提高涂膜的分子間力,從而提高涂膜在烘烤固化過(guò)程中的抗流掛性能;另一方面提高涂膜與底材的附著力。

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塑料真空鍍膜底漆 塑料真空鍍膜底漆 塑料真空鍍膜底漆

塑料真空鍍膜底漆

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塑料真空鍍膜底漆 4.6

敘述了塑料真空鍍膜用底漆的主要作用、基本性能以及熱固化型和紫外光固化型真空鍍膜底漆的發(fā)展概況。

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K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究 K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究 K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究

K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究

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K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究 4.3

采用離子束濺射法,分別在經(jīng)過(guò)不同前期清洗方法處理過(guò)的k9及石英玻璃光學(xué)基片上,選擇不同的鍍膜參量,鍍制了多種厚度的au膜。對(duì)鍍制的au膜在真空紫外波段較寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)的反射率進(jìn)行了連續(xù)測(cè)量。測(cè)試結(jié)果表明:輔助離子源的使用方式、au膜厚度對(duì)反射鏡的反射率有重大影響?;牧?、鍍前基片表面清洗工藝等對(duì)反射率也有一定影響。采用鍍前離子轟擊,可顯著提高au膜反射率及膜與基底的粘合力;獲得最高反射率時(shí)的最佳膜厚與基片材料、鍍膜工藝密切相關(guān)。對(duì)經(jīng)過(guò)離子清洗的石英基片,膜厚在30nm左右反射率最高;比較而言,石英基片可獲得更高的反射率;輔助離子源的使用還顯著影響獲得最高反射率時(shí)對(duì)應(yīng)的最佳膜厚值,且對(duì)k9基片的影響更顯著。

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深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片 深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片 深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片

深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片

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深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片 4.4

深南玻將生產(chǎn)世界一流的PDP用玻璃基片

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(整理)鍍膜玻璃簡(jiǎn)介.

(整理)鍍膜玻璃簡(jiǎn)介.

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(整理)鍍膜玻璃簡(jiǎn)介. 4.7

精品文檔 精品文檔 鍍膜玻璃 鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改 變玻璃的光學(xué)性能,滿足某種特定要求。 鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性,可分為以下幾類:熱反射玻璃、低輻射玻璃 (low-e)、導(dǎo)電膜玻璃等。熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、 鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜,使產(chǎn)品呈豐富的色彩,對(duì)于可見(jiàn)光有 適當(dāng)?shù)耐干渎剩瑢?duì)紅外線有較高的反射率,對(duì)紫外線有較高吸收率,因此,也稱 為陽(yáng)光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墻;低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層 銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系,產(chǎn)品對(duì)可見(jiàn)光有較高的透射率,對(duì) 紅外線有很高的反射率,具有良好的隔熱性能,主要用于建筑和汽車、船舶等交 通工具,由于膜層強(qiáng)度較差,一般都制成中空玻璃使用;導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表 面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電薄膜,可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以

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《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》出版發(fā)行 4.7

由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(cvd)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ito導(dǎo)電玻璃

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全國(guó)最大的真空鍍膜玻璃項(xiàng)目落戶靖邊 全國(guó)最大的真空鍍膜玻璃項(xiàng)目落戶靖邊 全國(guó)最大的真空鍍膜玻璃項(xiàng)目落戶靖邊

全國(guó)最大的真空鍍膜玻璃項(xiàng)目落戶靖邊

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全國(guó)最大的真空鍍膜玻璃項(xiàng)目落戶靖邊 4.7

近日,全國(guó)最大的真空鍍膜玻璃建設(shè)項(xiàng)目落戶靖邊縣中小企業(yè)創(chuàng)業(yè)園。該項(xiàng)目占地約67萬(wàn)m^2,計(jì)劃分兩期實(shí)施,總投資20.3億元。建成后,每年可生產(chǎn)2000萬(wàn)m。的真空鍍膜玻璃,產(chǎn)值可達(dá)92億元,實(shí)現(xiàn)稅收9.3億元,是世界首條可以高效連續(xù)生產(chǎn)的產(chǎn)業(yè)化真空玻璃生產(chǎn)線。該項(xiàng)目充分利用靖邊天然氣資源充足的優(yōu)勢(shì),結(jié)合美國(guó)vecast公司世界領(lǐng)先的專有技術(shù),高效率地生產(chǎn)納米陶瓷真空鍍膜玻璃。該產(chǎn)品是環(huán)保節(jié)能的新型材料,產(chǎn)業(yè)鏈長(zhǎng)、可衍生多種高效節(jié)能環(huán)保材料,可廣泛應(yīng)用在建筑、汽車、火車、輪船、冰箱電器及航空、航天等領(lǐng)域。該項(xiàng)目落戶在靖邊落地建設(shè)對(duì)調(diào)整地方產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)變經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)方式有著重要意義。

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5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究 5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究 5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究

5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究

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5.25英雨玻璃基片化學(xué)增強(qiáng)工藝研究 4.6

玻璃基片是制作光盤的重要元件。本文介紹了玻璃光盤基片的離子交換增強(qiáng)原理和方法,給出了鈉鈣硅玻璃離子交換增強(qiáng)處理結(jié)果和直徑130mm增強(qiáng)玻璃光盤基片的技術(shù)性能。

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直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜

直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜

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直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜 4.4

采用直流反應(yīng)磁控濺射法在玻璃片上制備了tin薄膜,研究不同制備工藝條件與薄膜性能之間的關(guān)系。用紫外-可見(jiàn)光分光光度計(jì)測(cè)試了不同沉積時(shí)間和n2流量條件下tin薄膜透光率;用x射線衍射儀分析了不同n2流量和濺射功率條件下tin薄膜結(jié)構(gòu);用掃描電鏡(sem)觀察了tin薄膜的表面腐蝕形貌,用恒電位儀對(duì)tin薄膜的耐腐蝕性進(jìn)行了分析。結(jié)果表明:當(dāng)沉積時(shí)間為2min,n2流量為15ml/min時(shí),在可見(jiàn)光區(qū)有較高的透光率,在近紅外區(qū)的透光率很低;當(dāng)n2流量為15ml/min,濺射功率為4kw時(shí),tin薄膜的結(jié)晶最致密;當(dāng)濺射功率為4kw時(shí),tin薄膜具有較好的耐腐蝕性。

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大孔徑無(wú)裂紋多孔玻璃基片的制備 大孔徑無(wú)裂紋多孔玻璃基片的制備 大孔徑無(wú)裂紋多孔玻璃基片的制備

大孔徑無(wú)裂紋多孔玻璃基片的制備

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大孔徑無(wú)裂紋多孔玻璃基片的制備 4.7

以7.4na2o-29.4b2o3-63.2sio2-1tio2(wt%)為玻璃組成,通過(guò)熱處理、酸溶液浸析的方法制備了平均孔徑為91.4nm、比表面積為13.786m2/g、孔容為0.3150cm3/g的無(wú)裂紋多孔玻璃基片(20×20×1.5mm),采用壓汞儀等測(cè)試分析了酸浸析濃度、酸浸析時(shí)間及酸浸析緩沖劑對(duì)多孔玻璃孔結(jié)構(gòu)和基片碎裂的影響,并利用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察多孔玻璃的顯微結(jié)構(gòu),發(fā)現(xiàn)以0.5mhcl/24h及飽和na2b4o7為酸浸析緩沖劑,可有效防止多孔玻璃碎裂,提高成品率,可為大孔徑的片狀多孔玻璃的發(fā)展和應(yīng)用起到推動(dòng)作用。

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付胡強(qiáng)

職位:建筑智能化設(shè)計(jì)工程師

擅長(zhǎng)專業(yè):土建 安裝 裝飾 市政 園林

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