光盤光固化復制工藝中玻璃基片表面改性
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4.8
測定了光固化膜分別與玻璃基片、金屬Ni模的結(jié)合力。采用預涂PMMA 底化層、使用α型硅烷偶聯(lián)劑和SOLGEL法制備襯底三種方法對玻璃基片表面進行改性并作比較,來選擇合理的、經(jīng)濟的工藝路線。運用此工藝復制了CD 唱片,并用SEM 觀察復制信息的微觀形貌
高光潔度玻璃基片的表面散射和體散射測量
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提出了一種利用總積分散射(tis)測量k9玻璃基片表面散射和體散射的實驗方法。首先采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積厚度為幾十nm的金屬ag薄膜,然后將基片的表面和體區(qū)分開考慮,通過tis測得了基片上下表面的均方根粗糙度,進而求得基片的總散射和表面散射,最后計算得到了體散射。分別利用tis和原子力顯微鏡(afm)測量了3個樣品上表面所鍍ag膜的均方根粗糙度,兩種方法所得的均方根粗糙度的數(shù)值相差不明顯,差值分別為0.08,0.11和0.09nm,表明tis和afm的測量結(jié)果相一致。利用該方法測得3塊k9玻璃基片的總散射分別為6.06×10-4,5.84×10-4和6.48×10-4,表面散射介于1.25×10-4~1.56×10-4之間,由此計算得到的體散射分別為3.10×10-4,3.30×10-4和3.61×10-4。
玻璃基片雙面光刻對準工藝流程的研究
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介紹了雙面光刻對準原理及技術(shù)新發(fā)展,表明了不變焦對準的技術(shù)優(yōu)勢。針對玻璃基片設(shè)計了十字加方框的對準圖樣,經(jīng)重新調(diào)焦,利用基片透明屬性透過基片標記觀測掩模標記實現(xiàn)對準,不再采用靜態(tài)存儲的掩模數(shù)字圖像作為精對準基準,規(guī)避了可能由物鏡側(cè)移帶來的對準誤差。最后提供了幾種常用的對準標記圖樣,并為了加工操作的便利引入了輔助搜索線。
玻璃微流控芯片表面改性的微觀機理研究
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4.3
在玻璃微流控芯片通道表面用硅烷化試劑二氯二甲基硅烷進行處理后,二氯二甲基硅烷與玻璃通道表面的硅羥基反應,硅烷基覆蓋在原來的硅羥基上,其結(jié)果為電滲流減小甚至完全消除.進一步采用全勢能線性糕模軌道分子動力學方法,對表面反應的微觀結(jié)構(gòu)進行了理論計算,計算結(jié)果表明硅羥基中的氫原子與二氯二甲基硅烷中的氯原子結(jié)合形成穩(wěn)定的hcl分子結(jié)構(gòu)而脫離,從而使硅烷基覆蓋在表面上.
光固化玻璃離子粘接托槽的護理
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4.5
目的探討光固化玻璃離子正畸粘接劑應用于托槽粘接的護理配合經(jīng)驗。方法固定正畸患者156例,用光固化玻璃離子正畸粘接劑粘接托槽2120顆。結(jié)果經(jīng)過1.5年的臨床觀察,托槽脫落95顆,脫落率為4.5%。結(jié)論護士掌握材料的特點和使用方法,有利于完善護理配合。規(guī)范、嫻熟的護理配合有利于提高粘接托槽的成功率。
芘在玻璃基片表面的單層組裝及其對有機銅鹽的選擇性傳感
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4.6
將多環(huán)芳烴芘經(jīng)含三乙基四胺結(jié)構(gòu)的連接臂化學單層組裝于玻璃基質(zhì)表面,制備了一種熒光薄膜材料.熒光測量結(jié)果表明,醋酸銅、酒石酸銅、檸檬酸銅等有機銅鹽可以顯著猝滅薄膜熒光,而且猝滅過程可逆;硫酸銅、氯化銅、硝酸銅等無機銅鹽對薄膜熒光影響不大;醋酸鋅、醋酸鉛、醋酸鈷、醋酸鎳等其它醋酸鹽對有機銅鹽的檢測影響輕微.熒光壽命測定表明,醋酸銅對上述薄膜熒光的猝滅遵循靜態(tài)猝滅機制.
濕法玻璃粉體表面改性的研究
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4.5
通過分級選取不同粒徑的玻璃粉體,研究濕法對玻璃粉體表面改性的最佳條件,通過ir與tg-dsc分析,表明含20%水的乙醇溶液作為分散劑在70℃下進行實驗得到的粉體表面改性效果較好,失重轉(zhuǎn)變點出現(xiàn)在303℃(280~500目)與323℃(小于500目),較純酒精243℃(280~500目)更高,終止點的溫度也較高,其有機出峰也更為明顯。同時研究表明粉體粒徑粗細與表面改性結(jié)果成反比,隨著粒徑變小改性效果也更好,改性后的玻璃粉體在有機物質(zhì)中分散比未改性玻璃粉體更為均勻,將改性后玻璃粉調(diào)配成漿料后的流動性下降,改性后的漿料流動時間均超過10min。
玻璃微珠表面改性及其應用的研究
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4.5
綜述了玻璃微珠表面改性的方法,如化學反應改性、表面包覆改性、高能表面改性和化學鍍法。并論述了玻璃微珠在復合材料中的應用。
藍寶石基片的超光滑表面拋光技術(shù)
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4.4
文中介紹了藍寶石基片的主要拋光方法,包括浮法拋光、機械化學拋光、化學機械拋光和水合拋光等,對它們的工作原理、特點作了分析和總結(jié)。
第六代液晶顯示器玻璃基片
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4.8
**資訊http://www.***.***
大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(二)
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4.6
近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡單的歸納和介紹。
大孔徑無裂紋多孔玻璃基片的制備
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4.7
以7.4na2o-29.4b2o3-63.2sio2-1tio2(wt%)為玻璃組成,通過熱處理、酸溶液浸析的方法制備了平均孔徑為91.4nm、比表面積為13.786m2/g、孔容為0.3150cm3/g的無裂紋多孔玻璃基片(20×20×1.5mm),采用壓汞儀等測試分析了酸浸析濃度、酸浸析時間及酸浸析緩沖劑對多孔玻璃孔結(jié)構(gòu)和基片碎裂的影響,并利用場發(fā)射掃描電鏡觀察多孔玻璃的顯微結(jié)構(gòu),發(fā)現(xiàn)以0.5mhcl/24h及飽和na2b4o7為酸浸析緩沖劑,可有效防止多孔玻璃碎裂,提高成品率,可為大孔徑的片狀多孔玻璃的發(fā)展和應用起到推動作用。
大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡介(一)
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4.3
近年來,各種工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的玻璃基片大平面磁控濺射生產(chǎn)線發(fā)展迅速,令人關(guān)注。本文針對這一領(lǐng)域,就主要膜系開發(fā)、設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝、存在的問題及最新發(fā)展做了簡單的歸納和介紹。
光固化法生產(chǎn)玻璃鋼波形瓦
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4.5
玻璃鋼波形瓦在我國已得到廣泛的應用。而目前我國生產(chǎn)玻璃鋼瓦所用的基體基本上都是不飽和聚酯樹脂。環(huán)氧雙丙烯酸酯及環(huán)氧雙甲基丙烯酸酯是近年來得到迅速發(fā)展的一類新型不飽和聚酯,其分子結(jié)構(gòu)中具有環(huán)氧樹脂的骨架,兩端含有化學性能活潑的丙烯酸酯,兼有環(huán)氧樹脂和不飽和聚酯的特點,可以象普通不飽和聚酯一樣在引發(fā)劑存在下和交聯(lián)劑作用,可以常溫或加熱固化,還可感光聚合,得到化學性能和機械性能良好的產(chǎn)品,因而得到多方
玻璃基片表面納米結(jié)構(gòu)氧化鋯聚集體組裝的SEM研究及其機理初探
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4.5
以納米粒子為基組裝的有序結(jié)構(gòu)體系,既具有納米小顆粒本身的性質(zhì),同時通過納米粒子之間、納米粒子與基體界面的耦合,有望產(chǎn)生新的效應。本文利用含有雙親分子的反膠團微乳體系,人為處理基底提供活性點模擬生物礦化過程,構(gòu)筑聚集體-基質(zhì)復合材料,完成玻璃基片表面不同形貌氧化鋯的組裝,并對機理進行了初步的探討。
無機型人造石表面紫外光固化涂膜研究
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4.8
以kh-550為打底液對無機型人造石表面進行預處理,然后以紫外光固化涂料罩光。討論了低聚物和活性稀釋單體的組成、消泡劑種類和kh-550的用量對人造石表面紫外光固化涂膜性能的影響。結(jié)果表明,以質(zhì)量分數(shù)為3%的kh-550對人造石表面進行預處理后,按低聚物55%,活性稀釋單體40%,光引發(fā)劑和助劑分別為4%和1%的質(zhì)量分數(shù)配制光固化涂料,當?shù)途畚镏协h(huán)氧丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯的質(zhì)量比為8∶3,活性稀釋單體中苯乙烯、1,6–己二醇二丙烯酸酯與三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的質(zhì)量比為1∶2∶1時,所配制的紫外光固化涂料固化后,可在人造石表面獲得硬度3h、附著力為1級、光澤度93°且耐酸性好的涂膜,改善了無機型人造石的表面性能。
表面改性技術(shù)
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4.4
表面改性技術(shù)
激光表面改性油管與接箍磨損配合研究
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4.8
油田機采井抽油桿接箍與油管在工作狀態(tài)下構(gòu)成滑動摩擦副,同時還承受介質(zhì)腐蝕和交變載荷,產(chǎn)生磨損、腐蝕和疲勞斷裂失效。為了解決有桿泵井的管桿偏磨問題,采用5kw橫流co2激光器對油管內(nèi)壁和接箍表面進行強化處理,并進行摩擦磨損試驗。結(jié)合激光強化層的組織分析,對比研究不同油管接箍構(gòu)成的摩擦副的摩擦磨損性能。結(jié)果表明:激光相變硬化油管與激光熔覆ni35接箍的配合效果比較理想;在摩擦磨損過程中,管桿間磨損以磨粒磨損為主。
5.25英雨玻璃基片化學增強工藝研究
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4.6
玻璃基片是制作光盤的重要元件。本文介紹了玻璃光盤基片的離子交換增強原理和方法,給出了鈉鈣硅玻璃離子交換增強處理結(jié)果和直徑130mm增強玻璃光盤基片的技術(shù)性能。
光固化安全夾層玻璃生產(chǎn)工藝控制
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4.3
以丙烯酸酯光固化夾層玻璃膠為例,較詳細地討論了光固化安全夾層玻璃主要工藝過程及易出現(xiàn)的問題和相應的解決辦法
光固化復合樹脂凝膠玻璃化后固化收縮量評價
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4.4
目的評價光固化復合樹脂在凝膠點后特別是玻璃化后的固化收縮量,以期為深入研究光固化復合樹脂的固化收縮特性提供新的評價方法。方法利用本實驗室自主研制開發(fā)的一種基于激光測距技術(shù)的固化收縮測量儀,獲得5種光固化復合樹脂自光照開始后300s內(nèi)的固化收縮量一時間曲線和固化收縮速率.時間曲線,并通過收縮速率-時間曲線計算凝膠點和轉(zhuǎn)變點v以及凝膠點后及玻璃化后的固化收縮量。結(jié)果5種光固化復合樹脂的凝膠點為0.77—1.59s,差異有統(tǒng)計學意義(p〈0.01);轉(zhuǎn)變點v為1.99~6.33s,差異有統(tǒng)計學意義(p〈0.01);凝膠點后收縮量為33.35~53.18μm,差異有統(tǒng)計學意義(p〈0.01);玻璃化后收縮量為16.43—30.58μm,差異有統(tǒng)計學意義(p〈0.01);總收縮量為39.25~64.84μm,差異有統(tǒng)計學意義(p〈0.01)。5種光固化復合樹脂凝膠點后收縮量及玻璃化后收縮量的順序與總收縮量的順序有所不同。結(jié)論通過動態(tài)測量光固化復合樹脂固化收縮量,可推測凝膠點和轉(zhuǎn)變點v,從而獲得更具有實用意義的復合樹脂固化收縮特性評價參考值。
直流磁控濺射法在玻璃基片上制備TiN薄膜
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4.4
采用直流反應磁控濺射法在玻璃片上制備了tin薄膜,研究不同制備工藝條件與薄膜性能之間的關(guān)系。用紫外-可見光分光光度計測試了不同沉積時間和n2流量條件下tin薄膜透光率;用x射線衍射儀分析了不同n2流量和濺射功率條件下tin薄膜結(jié)構(gòu);用掃描電鏡(sem)觀察了tin薄膜的表面腐蝕形貌,用恒電位儀對tin薄膜的耐腐蝕性進行了分析。結(jié)果表明:當沉積時間為2min,n2流量為15ml/min時,在可見光區(qū)有較高的透光率,在近紅外區(qū)的透光率很低;當n2流量為15ml/min,濺射功率為4kw時,tin薄膜的結(jié)晶最致密;當濺射功率為4kw時,tin薄膜具有較好的耐腐蝕性。
基因芯片制作中玻璃介質(zhì)表面處理對DNA固定率的影響
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4.6
用顯微鏡載玻片作為基因芯片制作中dna固定介質(zhì)材料,對玻片表面分別進行醛基化、異硫氰酸基化、氨基化等不同修飾處理,分析其對dna固定率的影響,并比較了國產(chǎn)與進口玻片處理間的差異.結(jié)果表明,異硫氰酸基化處理玻片dna固定率高于醛基化、氨基化處理,接近進口的氨基化玻片,但不同處理間及國產(chǎn)與進口玻片間差異不顯著
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職位:建筑院總建筑師
擅長專業(yè):土建 安裝 裝飾 市政 園林