納米拋光液

建立了一種基于流體動力學(xué)的化學(xué)機(jī)械拋光模型,利用流體動力學(xué)方法推導(dǎo)了拋光液流場的雷諾方程,并通過計算機(jī)求解偏微分方程,對拋光過程中晶片和拋光墊之間的拋光液液體薄膜厚度以及液體薄膜壓力分布進(jìn)行了仿真計算。分析了液膜厚度、晶片傾斜角和液膜負(fù)荷力、液膜壓力力矩的關(guān)系,討論了拋光載荷、拋光轉(zhuǎn)速對最小液膜厚度、晶片傾斜角以及液膜壓力分布的影響。結(jié)果表明,不同拋光速度和拋光載荷下,拋光液膜厚度、液膜壓力和晶片傾斜角呈現(xiàn)不同的分布規(guī)律。比較仿真和實驗中拋光輸入?yún)?shù)對晶片下液膜厚度的影響曲線發(fā)現(xiàn),仿真結(jié)果與實驗結(jié)果的變化趨勢一致,證明建立的拋光液液膜厚度及液膜壓力分布模型的有效性。

專利號:200610123726.x拋光磚防污處理主要采用以下兩種技術(shù)方法:其一,在拋光磚表面涂一層有機(jī)硅防污蠟,封閉微細(xì)毛孔。由于石蠟在拋光磚上的附著力差,在防污劑凝固后,體積縮小或膜變薄,對于一些滲透力較強(qiáng),或帶有親油基團(tuán)的污漬來說,防污效果不明顯。

本文分別利用溶膠-凝膠法和水性納米粒子的表面改性技術(shù)配制了三種新型的納米雜化防護(hù)液,研究了防護(hù)液干燥成膜的疏水性、鉛筆硬度、透明性以及其對拋光磚的滲透粘接情況。經(jīng)納米雜化防護(hù)液處理后的瓷質(zhì)拋光磚均具有良好的持久防污性和耐磨性能。

淄博拓新達(dá)新技術(shù)開發(fā)有限公司 淄博拓新達(dá)新技術(shù)開發(fā)有限公司 420不銹鋼電解拋光液配方 配方基本敘述： 一款針對304不銹鋼的電化學(xué)拋光液配方，通過適當(dāng)調(diào)試，便可達(dá)到 高光亮效果，電解液可達(dá)到兩年左右的換槽期。 配方 原料名稱質(zhì)量百分 比 原料要求配制方法工藝參數(shù) 磷酸51—55% 磷酸比重1.70 （含量85%）1、磷酸——硫酸，混合攪拌溶解 均勻 2、在上述混酸中，加入“txd110 光亮劑”攪拌溶解均勻 3、技術(shù)探討： 一五二六九三七零三六一 電解液工作溫度：55—80℃ 整流后電壓:7—9v 電流密度：8—15a/dm2 硫酸42—46% 硫酸1.84 （含量98%） 三羥甲基戊 醇聚氧乙烯 聚氧丙烯醚 3%三羥甲基戊醇 聚氧乙烯聚氧 丙烯醚型號： 說明 ●以上配方對201、202、304、304l、316、316l、321、4

淄博拓新達(dá)新技術(shù)開發(fā)有限公司 淄博拓新達(dá)新技術(shù)開發(fā)有限公司 316不銹鋼電解拋光液配方 316專用描述： 一款針對304不銹鋼的電化學(xué)拋光液配方，通過適當(dāng)調(diào)試，便可達(dá)到 高光亮效果，電解液可達(dá)到兩年左右的換槽期。 配方 原料名稱質(zhì)量百分 比 原料要求配制方法工藝參數(shù) 磷酸51—55% 磷酸比重1.70 （含量85%）1、磷酸——硫酸，混合攪拌 溶解均勻 2、在上述混酸中，加入 “txd110光亮劑”攪拌溶解 均勻 3、技術(shù)探討： 一五二六九三七零三六一 電解液工作溫度：55—80℃ 整流后電壓:7—9v 電流密度：8—15a/dm2 硫酸42—46% 硫酸1.84 （含量98%） 三羥甲基戊 醇聚氧乙烯 聚氧丙烯醚 3%三羥甲基戊醇 聚氧乙烯聚氧 丙烯醚型號： 說明 ●以上配方對201、202、304、304l、316、316l、321

森源化工專業(yè)生產(chǎn)不銹鋼電解拋光液不銹鋼鈍化液不銹鋼電解拋光設(shè)備銅材拋光液 森源化工專業(yè)生產(chǎn)不銹鋼電解拋光液不銹鋼鈍化液不銹鋼電解拋光設(shè)備銅材拋光液 不銹鋼電解拋光液操作工藝流程 森源牌環(huán)保不銹鋼電解拋光液已通過sgs認(rèn)證，不含鉻酸，符合環(huán)保要求。適合所有不銹鋼和不銹鐵的拋光，通用性強(qiáng)（不銹鋼材料可拋出鏡面效果）。槽液24小時連續(xù) 工作可以保用一年以上。成本低，比普通型電解拋光液省一半的用電量。無不良?xì)馕丁?除油脫脂→浸泡洗→電解拋光→浸泡洗→脫膜→浸泡洗→中和→浸泡洗→過純水→烘干包裝 工序說明: 1．清洗除油后漂水。 森源化工專業(yè)生產(chǎn)不銹鋼電解拋光液不銹鋼鈍化液不銹鋼電解拋光設(shè)備銅材拋光液 森源化工專業(yè)生產(chǎn)不銹鋼電解拋光液不銹鋼鈍化液不銹鋼電解拋光設(shè)備銅材拋光液 2．將電解拋光液加熱至55-75度（可用石英棒或鈦制加熱

淄博拓新達(dá)新技術(shù)開發(fā)有限公司 淄博拓新達(dá)新技術(shù)開發(fā)有限公司 201不銹鋼電解拋光液配方 201專用性： 一款針對201不銹鋼的電化學(xué)拋光液配方，通過適當(dāng)調(diào)試，便可 達(dá)到高光亮效果，電解液可達(dá)到兩年左右的換槽期。 配方 原料名稱質(zhì)量百分 比 原料要求配制方法工藝參數(shù) 磷酸51—55% 磷酸比重1.70 （含量85%）1、磷酸——硫酸，混合攪拌溶 解均勻 2、在上述混酸中，加入“txd110 光亮劑”攪拌溶解均勻 3、技術(shù)探討： 一五二六九三七零三六一 電解液工作溫度：55—80℃ 整流后電壓:7—9v 電流密度：8—15a/dm2 硫酸42—46% 硫酸1.84 （含量98%） 三羥甲基戊 醇聚氧乙烯 聚氧丙烯醚 3%三羥甲基戊醇 聚氧乙烯聚氧 丙烯醚型號： 說明 ●以上配方對201、202、304、304l、316、316l、32

淄博拓新達(dá)新技術(shù)開發(fā)有限公司 淄博拓新達(dá)新技術(shù)開發(fā)有限公司 304不銹鋼電解拋光液配方 304適配性： 一款針對304不銹鋼的電化學(xué)拋光液配方，通過適當(dāng)調(diào)試，便可達(dá)到 高光亮效果，電解液可達(dá)到兩年左右的換槽期。 配方 原料名稱質(zhì)量百分 比 原料要求配制方法工藝參數(shù) 磷酸51—55% 磷酸比重1.70 （含量85%）1、磷酸——硫酸，混合攪 拌溶解均勻 2、在上述混酸中，加入 “txd110光亮劑”攪拌溶 解均勻 3、技術(shù)探討： 一五二六九三七零三六一 電解液工作溫度：55—80℃ 整流后電壓:7—9v 電流密度：8—15a/dm2 硫酸42—46% 硫酸1.84 （含量98%） 三羥甲基戊 醇聚氧乙烯 聚氧丙烯醚 3%三羥甲基戊醇 聚氧乙烯聚氧 丙烯醚型號： 說明 ●以上配方對201、202、304、304l、316、316l、321

拋光是金剛石應(yīng)用的傳統(tǒng)領(lǐng)域,即便在今天,拋光包括超精磨仍是儀表和機(jī)械制造工藝過程中的一個最重要環(huán)節(jié)?？墒?常用的磨料顆粒尺寸均大于0.1μm(100nm),已不能滿足高級光學(xué)玻璃、晶體、寶石和金相表面的超高精度的表面加工。納米金剛石兼具有金剛石和納米顆粒的雙重特性。納米金剛石的易團(tuán)聚性是嚴(yán)重影響其未能大量應(yīng)用的重要原因。分散與分級技術(shù)是其能否實實在在服務(wù)于現(xiàn)代工業(yè)和科學(xué)技術(shù)的關(guān)鍵。初步研究結(jié)果表明,納米金剛石應(yīng)該是一種理想的超精拋光材料。本文對其發(fā)展現(xiàn)狀,團(tuán)聚與分散及其初步應(yīng)用的效果等做了簡要的闡述。

以納米三氧化二鋁和納米二氧化錫等作為復(fù)合納米磨料,以酚醛樹脂為粘結(jié)劑在160℃和8mpa的條件下預(yù)壓,然后在硬化爐里硬化制備花崗石拋光磨具。磨削對比試驗表明:納米磨料花崗石拋光磨具的磨削性能、耐磨性能、耐水性能均優(yōu)于普通磨料花崗石拋光磨具,前者的拋光光潔度達(dá)98度

通過考察納米防污劑涂覆過程中不同階段拋光磚表面顯微結(jié)構(gòu)的特點,深入討論了納米防污劑的作用機(jī)制及影響防污效果的主要因素;確定只有經(jīng)納米防污劑a液、b液組合應(yīng)用,且b液有效成分完全固化后,才能實現(xiàn)對拋光表面氣孔和缺陷的完美、持久修復(fù),達(dá)到有效提高瓷質(zhì)拋光磚防污、抗污性能的目的。

湖北省安陸市天明糧食機(jī)械有限公司生產(chǎn)的mp-mg18.5×2b型大米雙輥拋光機(jī),是在吸收國外同類產(chǎn)品

為優(yōu)化免洗小米拋光工藝,在單因素試驗基礎(chǔ)上,選擇上光劑的濃度、溫度和添加量為自變量,洗米水的濁度為響應(yīng)值,根據(jù)中心組合試驗設(shè)計原理采用3因素3水平響應(yīng)面分析法,模擬得到二次多項式回歸方程預(yù)測模型,并確定免洗小米拋光的最佳工藝條件為:濃度30%、溫度30℃、添加量1%,濁度為54.8ntu。

河南省?？h裕華重工機(jī)械制造有限公司生產(chǎn)銷售的ymhln-110型玉米脫皮拋光機(jī),采用特大超長新型脫皮拋光室和旋轉(zhuǎn)八角篩,可與大型成套設(shè)備配

基于cds良好的光學(xué)性質(zhì)和單壁碳納米管(swcnt)優(yōu)異的電子學(xué)性質(zhì),制備了納米cds/swcnt復(fù)合材料和納米cds/聚乙烯亞胺(pei)功能化swcnt復(fù)合材料,并利用日光燈光源模擬太陽光研究了它們的光電性質(zhì).結(jié)果表明,納米cds/swcnt復(fù)合材料呈現(xiàn)顯著的負(fù)光電導(dǎo)現(xiàn)象,而納米cds/pei-swcnt復(fù)合材料呈現(xiàn)強(qiáng)烈的正光電導(dǎo)現(xiàn)象.用電子轉(zhuǎn)移理論對這一結(jié)果進(jìn)行了解釋.兩樣品在大角度彎折的情況下,光電性質(zhì)均基本沒有變化.因此,納米cds/碳納米管復(fù)合材料在光電領(lǐng)域,尤其是新興的柔性光電子學(xué)領(lǐng)域有著良好的應(yīng)用前景.

應(yīng)用經(jīng)良好分散的納米金剛石對硬盤微晶玻璃基板進(jìn)行拋光,獲得了亞納米級表面(0.618nm)。分析了納米金剛石拋光的行為,展望了納米金剛石在超精密拋光領(lǐng)域的應(yīng)用。

論述了瓷質(zhì)拋光磚表面被新型納米防污劑處理前后的顯微結(jié)構(gòu),新型納米防污劑的表面修復(fù)作用和防污機(jī)理。納米防污劑有效填充了拋光磚表面的開口氣孔,顯著提高了拋光磚的防污特性。經(jīng)新型納米防污劑處理的拋光磚具有優(yōu)異、持久的防污性能。

隨著半導(dǎo)體工業(yè)的飛速發(fā)展，化學(xué)機(jī)械拋光（cmp）漸成為集成電路制造中的一項關(guān)鍵工藝，其中拋光液是化學(xué)機(jī)械拋光過程中重要的消耗品，長期以來國內(nèi)主要硅材料廠及半導(dǎo)體元件廠依賴進(jìn)口產(chǎn)品，不僅價格昂貴，而且受制于人。中科院上海微系統(tǒng)所納米技術(shù)研究室cmp小組開展了“納米拋光液產(chǎn)業(yè)化關(guān)鍵技術(shù)”研究，

拋光磚防污處理主要采用以下兩種技術(shù)方法：其一，在拋光磚表面涂一層有機(jī)硅防污蠟，封閉微細(xì)毛孔。由于石蠟在拋光磚上的附著力差，在防污劑凝固后，體積縮小或膜變薄，對于一些滲透力較強(qiáng)，或帶有親油基團(tuán)的污漬來說，防污效果不明顯。

傳統(tǒng)不銹鋼拋光工藝配方多含有鉻酸、氫氟酸等毒害較大的物質(zhì),針對傳統(tǒng)不銹鋼化學(xué)拋光劑的缺點,研制出了一種高性能環(huán)保不銹鋼化學(xué)拋光劑配方。通過試驗,得出了該配方的最佳工藝參數(shù),并對影響拋光效果的因素進(jìn)行了分析。經(jīng)實踐證明,經(jīng)該工藝拋光后的樣件表面可達(dá)到電拋光的光亮效果。

隨著社會經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展，人們的生活水平得到不斷的提升，促進(jìn)了電子工業(yè)生產(chǎn)的快速發(fā)展，使不銹鋼產(chǎn)品的生產(chǎn)和使用受到人們越來越多的關(guān)注，提高了不銹鋼產(chǎn)品質(zhì)量要求。在不銹鋼產(chǎn)品使用過程中，對其表面進(jìn)行拋光是一項必備可少的工作。因此，加強(qiáng)對不銹鋼拋光研究被提上了日程。本文主要結(jié)合不銹鋼化學(xué)拋光液的內(nèi)涵以及傳統(tǒng)不銹鋼化學(xué)拋光液類型，通過實驗研究出一種新型的高性能的環(huán)保不銹鋼化學(xué)拋光液，為之后類似的研究工作提供了可靠的理論依據(jù)，進(jìn)一步完善了不銹鋼化學(xué)拋光技術(shù)。

由湖北省安陸市天明糧食機(jī)械有限公司生產(chǎn)的mpmg18．5×2b型大米雙輥拋光機(jī)，是吸收國外同類產(chǎn)品優(yōu)點的基礎(chǔ)上，結(jié)合國內(nèi)碾米加工廠的實際情況精心設(shè)計的新一代大米精加工設(shè)備。