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為改善X射線晶體密度法測得的阿伏伽德羅常數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)不確定度,研制了一種基于光譜橢偏術(shù)和二維Si球掃描機構(gòu)的Si球表面氧化層厚度自動掃描測量系統(tǒng),用于測量直徑約93.6 mm、質(zhì)量約1 kg的單晶Si球表面氧化層平均厚度。用本文系統(tǒng)對標(biāo)準(zhǔn)Si球表面進行400點掃描測量實驗,得到氧化層厚度分布,且測得其平均厚度為6.00(22)nm。測量結(jié)果可將由氧化層導(dǎo)致的阿伏伽德羅常數(shù)測量相對不確定度降低至2.5×10-8。