中文名 | 超高純鋁鈦銅鉭金屬濺射靶材制備技術及應用 | 項目編號 | F-309-2-08 |
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獲得獎項 | 國家技術發(fā)明獎二等獎 [1]? |
2020年度國家技術發(fā)明獎二等獎項目。
主要完成人:
姚力軍(寧波江豐電子材料股份有限公司)
劉慶(重慶大學)
王學澤(寧波江豐電子材料股份有限公司)
周友平(寧波江豐電子材料股份有限公司)
袁海軍(寧波江豐電子材料股份有限公司)
邊逸軍(寧波江豐電子材料股份有限公司)
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異...
完全可以做平板電容的電極和介質,濺射鍍膜是很可控的薄膜,多以可以做高檔電容
濺射靶材主要應用于電子及信息產業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。 分類 根據形狀可分為長靶,...
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金屬鈦的制備新工藝 摘要:本文主要介紹了關于鈦的應用現狀,并對高純鈦的主要生產方法——克勞 爾法、Hunter法、鈣熱還原法、熔鹽電解法進行了綜述,指出了只有幾種方法結 合才能獲得純度要求非常高的純鈦。研究新的制備方法,克服傳統(tǒng)制備工藝的復 雜性,提高生產效率,降低生產成本,是高純鈦制備研究的發(fā)展方向。 關鍵詞:Kroll ; Hunter ; 鈣熱還原法; 熔鹽電解法 Abstract: In this paper, titanium production processes of thermo-reduction including Kroll process, Hunter process ,Calcium thermal reduction process,Molten-salt Electrolysis . Study on the new production method
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純度達到99.90%的高品質原鋁被稱為“三九鋁”,因其品質比普通原鋁“更勝一籌”,主要用于工業(yè)化生產更高純度鋁。2017年,“高品質Al99.90產品開發(fā)”成為酒鋼重大科技專項,東興鋁業(yè)研究所以技術攻關帶動原鋁品質“節(jié)節(jié)攀升”,部分電解槽成功生產出高品質Al99.90原鋁產品?!叭配X”的誕生,標志著酒鋼電解鋁生產技術達到國內領先水平。
鉬是一種金屬元素,主要用于鋼鐵工業(yè),其中的大部分是以工業(yè)氧化鉬壓塊后直接用于煉鋼或鑄鐵,少部分熔煉成鉬鐵,鉬箔片后再用于煉鋼。
它可增強合金的強度、硬度、可焊性及韌性,還可增強其耐高溫強度及耐腐蝕性能。
四豐靶材專家指出,鉬濺射靶材可在各類基材上形成薄膜這種射膜廣泛用作電子部件和電子產品如目前廣泛應用的TFT-LCD(Thin Filmtransitor- Liquidcrystaldis- plays薄膜半導體管-液品顯示器)、等離子顯示屏、無機光發(fā)射二極管顯示器、場發(fā)射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMOS[互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等。
鉬濺射靶材的應用
在電子行業(yè)中鉬濺射靶材主要用于平面顯示器、薄膜太陽能電池的電極和配線材料以及半導體的阻擋層材料。這些是基于鉬的高熔點、高電導率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環(huán)保性能。
鉬具有比阻抗和膜應力僅為鉻的1/2的優(yōu)勢而且不存在環(huán)境污染問題因此成為了平面顯示器濺射靶材的首選材料之一。此外鋁使用在LCD的元器件中可使液晶顯示器在亮度、對比度、色彩以及壽命方面的性能大大提升。
平面顯示器行業(yè)中濺射靶材的主要市場應用之一是TLCD領域。市場研究表明未來幾年是LCD發(fā)展的高峰期年增長率達30%左右。隨著CD的發(fā)展LCD濺射靶材的消費量也快速增長年增長率約為20%。2006年全球鉬濺射靶材的需求量約700t,2007年則為900左右。
除平面顯示器行業(yè)外隨著新能源行業(yè)的發(fā)展鉬濺射靶在薄膜太陽能光伏電池上的應用也日益增加。鉬濺射靶材主要通過濺鍍形成CIGS(銅錮鎵西薄膜電池電極層。圖2是CGS太陽能電池的結構示意圖,其中Mo處于太陽能電池的最底層作為太陽能電池的背接觸其對CGS薄膜皛體的成核、生長、形貌有著非常重要的作用。
【總結】關于“鉬濺射靶材的應用”就為您講解到這里,對國內的銀生產加工企業(yè)來說當務之急是抓住市場機遇提升工裝水平和科研技術水平制備出高質量的鉬濺射靶材產品。若您對上述內容還有疑問,或是相關了解產品相關及價格,歡迎點擊【在線詢價】服務,客服會在第一時間回復您。
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鉭所具有的特性,使它的應用領域十分廣闊。在制取各種無機酸的設備中,鉭可用來替代不銹鋼,壽命可比不銹鋼提高幾十倍。此外,在化工、電子、電氣等工業(yè)中,鉭可以取代過去需要由貴重金屬鉑承擔的任務,使所需費用大大降低。 鉭被制造成了電容裝備到軍用設備中。美國的軍事工業(yè)異常發(fā)達,是世界最大軍火出口商。世界上鉭金屬的產量一半被用在鉭電容的生產上,美國國防部后勤署則是鉭金屬最大的擁有者,曾一度買斷了世界上三分之一的鉭粉。
主要吸收線及其主要參數:
λ/nm | f | W | F | S* | CL | G |
271.5 | 0.055 | 0.2 | N-A | 30 | 1.0 | |
260.9(D) | 0.2 | N-A | 23 | 2.1 | ||
265.7 | 0.2 | N-A | 2.5 | |||
293.4 | 0.2 | N-A | 2.5 | |||
255.9 | 0.2 | N-A | 2.5 | |||
264.8 | 0.2 | N-A | x | |||
265.3 | 0.2 | N-A | 2.7 | |||
269.8 | 0.2 | N-A | 2.7 | |||
275.8 | 0.2 | N-A | 3.1 | |||
277.6 | 0.2 | N-A | 58 |
λ:波長
f:振子強度
W:單色器光譜通帶
N-A(氧化亞氮-乙炔焰)
S*:元素的特征濃度(1%吸收靈敏度)
CL:元素的檢測極限
R·S:同一元素主要吸收線間的相對靈敏度
F:火焰類型
基本介紹
項目編號Plan Name in Chinese 20110426-T-610
中文項目名稱Plan Name in Chinese 電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材
英文項目名稱Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
制\修訂Plan Name in English 制定
被修訂標準號Replaced Standard
采用國際標準Adopted International Standard 無
采用國際標準號Adopted International Standard No
采用程度Application Degree
采標名稱Adopted International Standard Name
標準類別Plan Name in English 產品
國際標準分類號(ICS)
計劃完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年
完成時間Achievement Time
所處階段Plan Phase 起草階段
國家標準號Standard No.
備注Remark 國標委綜合[2011]57號
起草單位Drafting Committee 有研億金新材料股份有限公司
主管部門Governor 中國有色金屬工業(yè)協(xié)會
歸口單位Technical Committees 243 全國有色金屬標準化技術委員會