從集成電路制造中各部門的分工來說,光刻是為工藝集成(process intergration)服務的。最直接支持工藝集成的是光刻工藝工程師(lithography process engineer),又被稱為“l(fā)ayer owner”。一個完整的集成電路制造流程有幾十個光刻層,這些光刻層按技術的類似程度分配給光刻工藝工程師,使得他們分別負責一個或者幾個光刻層。
光刻工藝工程師對所負責的光刻層做工藝參數(shù)的設置、優(yōu)化;對工藝穩(wěn)定性做日常監(jiān)測,并及時解決出現(xiàn)的技術問題。2100433B
根據(jù)產(chǎn)品不同,具體工作內(nèi)容不大一樣,但性質(zhì)基本相同。以下雖然是復制別人的文字,但是我覺得可以供你參考。1、在總工程師領導下,負責全公司工藝技術工作和工藝管理工作,認真貫徹國家技術工作方針、政策和公司有...
同是模具行業(yè)從業(yè)者,說說我的看法就你的經(jīng)歷,想轉(zhuǎn)行,有點困難。工藝工程師主要是模具調(diào)試,而且比較依賴于經(jīng)驗,而你缺乏這方面的經(jīng)驗,所以一般的公司可能不太會接受你。要是非要對比這兩個工作孰好孰壞,我覺得...
從理論上來說沒有哪個好,哪個不好的區(qū)別,只要做好了都有發(fā)展。但從技術上來說,設備和工藝會有制約,有些行業(yè)可能搞設備好,設備搞好了,工藝就能跟上去;有些行業(yè)又可能搞工藝好,工藝搞好了,設備能節(jié)約很多成本...
格式:pdf
大?。?span id="2of1kzn" class="single-tag-height">833KB
頁數(shù): 4頁
評分: 4.8
工藝工程師職責 1、在總工程師領導下,負責全公司工藝技術工作和工藝管理工作,認真貫徹國 家技術工作方針、 政策和公司有關規(guī)定。 組織制定工藝技術工作近期和長遠發(fā)展 規(guī)劃,并制定技術組織措施方案。 2、編制產(chǎn)品的工藝文件,制定材料消耗工藝定額;根據(jù)工藝需要,設計工藝裝 備并負責工藝工裝的驗證和改進工作;設計公司、車間工藝平面布置圖。 3、工藝人員要深入生產(chǎn)現(xiàn)場,掌握質(zhì)量情況;指導、督促車間一線生產(chǎn)及時解 決生產(chǎn)中出現(xiàn)的技術問題,搞好工藝技術服務工作。 4、負責新產(chǎn)品圖紙的會簽和新產(chǎn)品批量試制的工藝工裝設計,完善試制報告和 有關工藝資料,參與新產(chǎn)品鑒定工作。 5、承擔工藝技術管理制度的起草和修訂工作,組織相關人員搞好工藝管理,監(jiān) 督執(zhí)行工藝紀律。 6、組織領導新工藝、新技術的試驗研究工作,抓好工藝試驗課題的總結與成果 鑒定,并組織推廣應用。搞好工藝技術資料的立卷、歸檔工作。 7、協(xié)助人力資源部
一、合格的工藝工程師必須非常熟悉產(chǎn)品的設計、制作工藝、包裝、運輸及產(chǎn)品的配套使用功能;在本行業(yè)屬通才,了解所有工序工藝;
二、編制工藝流程,下生產(chǎn)指令單之前對產(chǎn)品制程工藝的核定;
三、規(guī)范與公司產(chǎn)品配套使用的采購產(chǎn)品工藝、使用功能要求,并簽樣板給供應商、品質(zhì)部、采購部;
四、對新產(chǎn)品進行可生產(chǎn)性的評估,打樣評估;
五、做好預先品管,提醒生產(chǎn)過程及檢測時的品質(zhì)注意事項。
前文中指的合格工藝工程師,必須熟悉那么多么?
熟悉這么多的是為采購、生產(chǎn)等提供全套工藝方案的工藝工程師-------那就是主工程師。是系統(tǒng)工藝設計師或工藝構架師,相當工藝總監(jiān)的水平。而按各大的工序又可以分為產(chǎn)品工藝設計師(屬于在產(chǎn)品開發(fā)階段的人才),制程工藝師(屬于生產(chǎn)制造階段),包裝和運輸常劃到一個段(包裝就是為了保障運輸周轉(zhuǎn)安全的)屬于包裝工藝師,支持采購與供應商之間業(yè)務的工藝人才有兩類,外協(xié)類和外購類,外協(xié)類的就是相當于公司主營業(yè)務外的供方核心業(yè)務的工藝師,外購類的多數(shù)不用工藝師,而是與souring聯(lián)手的對新材料,新部件,可替代品在自己產(chǎn)品上驗證的那類工藝師(對產(chǎn)品的原理和性能掌握更多,也要熟悉制程,成本相關的理念,屬于專業(yè)比較NB的那一類), 材料在庫房如何能保證安全倉貯以及公司內(nèi)部流轉(zhuǎn)安全的,也有稱其為物流工藝師的(與包裝運輸那一角色,基本屬于內(nèi)外之分,但側(cè)重略有差別)。
在平面晶體管和集成電路的制造過程中,要進行多次光刻。為此,必須制備一組具有特定幾何圖形的光刻掩模。制版的任務就是根據(jù)晶體管和集成電路參數(shù)所要求的幾何圖形,按照選定的方法,制備出生產(chǎn)上所要求的尺寸和精度的掩模圖案,并以一定的間距和布局,將圖案重復排列于掩模基片上,進而復制批量生產(chǎn)用版,供光刻工藝曝光之用。
光刻圖形缺陷的來源主要有三種:一是材料帶來的,例如,光刻膠過期形成的懸浮顆粒;二是設備產(chǎn)生的,例如,旋涂時勻膠顯影機內(nèi)的顆粒掉在晶圓表面;三是不完善的工藝產(chǎn)生的,例如曝光條件偏離了最佳點,導致圖形質(zhì)量下降,出現(xiàn)圖形丟失(missing pattern)。
為了確保工藝中盡量少地出現(xiàn)缺陷,在光刻中一般分兩個部分來監(jiān)測。一是旋涂后光刻膠薄膜中顆粒的監(jiān)測,即所謂旋涂缺陷(coating defects)。二是曝光后圖形的缺陷檢測。