斷層活動(dòng)總會(huì)在產(chǎn)出地段的有關(guān)地層、構(gòu)造、巖石或地貌等方面反映出來(lái),形成了所謂的斷層標(biāo)志,這些標(biāo)志是識(shí)別斷層的主要依據(jù)。
斷層崖 由于斷層兩盤(pán)的相對(duì)滑動(dòng),斷層的上升盤(pán)常常形成陡崖,這種陡崖稱(chēng)為斷層崖。盆地與山脈間列的盆嶺地貌是斷層造成一系列陡崖的典型實(shí)例。
斷層三角面 斷層崖受到與崖面垂直方向水流的侵蝕切割,乃形成沿?cái)鄬幼呦蚍植嫉囊幌盗腥切味秆?,即斷層三角面?h3 class="title-text">環(huán)狀斷層地貌標(biāo)志
錯(cuò)斷的山脊 往往是斷層兩盤(pán)相對(duì)平移的結(jié)果。
橫切山嶺走向的平原與山嶺的接觸帶 往往是規(guī)模較大的斷裂。
串珠狀湖泊洼地 往往是大斷層存在的標(biāo)志。這些湖泊洼地主要是由斷層引起的斷陷形成的。
泉水的帶狀分布 往往也是斷層存在的標(biāo)志。
念青唐古拉南麓從黑河到當(dāng)雄一帶散布著一串高溫溫泉,是現(xiàn)代活動(dòng)斷層直接控制的結(jié)果。
水系特點(diǎn) 斷層的存在常常影響水系的發(fā)育,引起河流的急劇轉(zhuǎn)向,甚至錯(cuò)斷河谷。
如果線(xiàn)狀或面狀地質(zhì)體在平面上或剖面上突然中斷、錯(cuò)開(kāi),不再連續(xù),說(shuō)明有斷層存在。右下圖示斷層造成的構(gòu)造線(xiàn)不連續(xù)現(xiàn)象。為了確定斷層的存在和測(cè)定錯(cuò)開(kāi)的距離,在野外應(yīng)盡可能查明錯(cuò)斷的對(duì)應(yīng)部分。
構(gòu)造強(qiáng)化是斷層可能存在的重要依據(jù)。構(gòu)造強(qiáng)化現(xiàn)象包括有:巖層產(chǎn)狀的急變和變陡;突然出現(xiàn)狹窄的節(jié)理化、劈理化帶;小褶皺劇增以及擠壓破碎和各種擦痕等現(xiàn)象?!?gòu)造透鏡體是斷層作用引起構(gòu)造強(qiáng)化的一種現(xiàn)象。斷層帶內(nèi)或斷層面兩側(cè)巖石碎裂成大小不一的透鏡狀角礫塊體,長(zhǎng)徑一般為數(shù)十厘米至二、三米。構(gòu)造透鏡體有時(shí)單個(gè)出現(xiàn),有時(shí)成群產(chǎn)出。構(gòu)造透鏡體一般是擠壓作用產(chǎn)出的兩組共軛剪節(jié)理把巖石切割成菱形塊體后,其楞角又被磨去形成的。包含透鏡體長(zhǎng)軸和中軸的平面,或與斷層面平行,或與斷層面成小角度相交。 在斷層帶中或斷層兩側(cè),有時(shí)見(jiàn)到一系列復(fù)雜緊閉的等斜小褶皺組成的揉褶帶。揉褶帶一般產(chǎn)于較弱薄層中,小褶皺軸面有時(shí)向一方傾斜,有時(shí)陡立,但總的產(chǎn)狀常常與斷層面斜交,所交銳角一般指示對(duì)盤(pán)運(yùn)動(dòng)方向。
斷層巖的發(fā)育和較廣泛產(chǎn)出也是斷層存在的良好判據(jù)。
地層的重復(fù)和缺失是識(shí)別斷層的主要依據(jù)。
大斷層尤其是切割很深的大斷裂常常是巖漿和熱液運(yùn)移的通道和儲(chǔ)聚場(chǎng)所,因此,如果巖體、礦化帶或硅化等熱液蝕變帶沿一條線(xiàn)或帶斷續(xù)分布,常常指示有大斷層或斷裂帶存在。一些放射狀或環(huán)狀巖墻也指示放射狀斷裂或環(huán)狀斷裂的存在。
如果一個(gè)地區(qū)的沉積巖相和厚度沿一條線(xiàn)發(fā)生急劇變化,可能是斷層活動(dòng)的結(jié)果。斷層引起巖相和厚度的急變有兩種情況:一種情況是控制沉積盆地和沉積作用的同沉積斷層的活動(dòng),引起沉積環(huán)境沿著斷層發(fā)生明顯變化,巖相和厚度因而發(fā)生顯著差異;另一種情況是,斷層的遠(yuǎn)距離推移,使相隔甚遠(yuǎn)的巖相帶直接接觸。 查明和確定斷層是研究斷層的基礎(chǔ)和前提。在地質(zhì)調(diào)查中,應(yīng)注意觀(guān)察、發(fā)現(xiàn)和收集指示斷層存在的各種標(biāo)志和跡象,同時(shí)結(jié)合其他地質(zhì)條件和背景加以綜合分析。2100433B
1)絕大多數(shù)強(qiáng)震震中分布于活動(dòng)斷層帶內(nèi)。
2)世界上破壞性地震所產(chǎn)生的地表新斷層與原來(lái)存在的斷層走向一致或完全重合。
3)在許多活動(dòng)斷層上都發(fā)現(xiàn)了古地震及其重要現(xiàn)象,重復(fù)的時(shí)間在幾百年至上萬(wàn)年。
4)大多數(shù)強(qiáng)震的極震區(qū)和等震線(xiàn)的延長(zhǎng)方向與當(dāng)?shù)財(cái)鄬幼呦蛞恢隆?
5)震源力學(xué)分析得出,震源錯(cuò)動(dòng)面產(chǎn)生狀態(tài)大部分和地表斷層一致??傊?,地震帶與活動(dòng)斷層有著成因上的密切聯(lián)系?;顒?dòng)斷層的作用又是產(chǎn)生地震和地震帶分布的根本因素。
環(huán)狀斷層發(fā)育與拱隆作用、底辟作用有關(guān),分布于穹窿、鹽丘、巖株或火山口邊緣。有些環(huán)狀斷層是隕石沖擊形成的;另一些環(huán)狀斷層則由旋卷構(gòu)造所產(chǎn)生;更有許多大小不等的環(huán)狀斷層的出現(xiàn)與熱點(diǎn)或高熱異常點(diǎn)有密切關(guān)系。
張性斷層與壓性斷層的鑒別標(biāo)志分別是典型的:地塹與地壘。
活斷層的地質(zhì)、地貌和水文地質(zhì)鑒別標(biāo)志 所屬分類(lèi):數(shù)據(jù)/知識(shí)/短文 -> 巖土工程 資料來(lái)源:筑龍巖土網(wǎng) 點(diǎn)擊:104 ①地質(zhì)方面 保留在最新沉積物中的地層錯(cuò)開(kāi),是鑒別...
影響斷裂富水性、導(dǎo)水性的主要因素包括斷裂的時(shí)間性、斷裂的規(guī)模和空間結(jié)構(gòu)、斷裂的力學(xué)性質(zhì)、斷裂兩盤(pán)的巖性等。? ? (1)斷裂的時(shí)間性? ? ????優(yōu)勢(shì)面理論把斷裂按形成年代分為“老”、“新”、“活”...
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閥門(mén)的標(biāo)志和識(shí)別 通常根據(jù)閥門(mén)上的標(biāo)牌和標(biāo)志以及閥門(mén)上涂漆,就可以直接識(shí)別閥門(mén)的類(lèi)型、結(jié)構(gòu)形式、材料、公稱(chēng)通徑、公稱(chēng)壓力(或工作壓力)、 適用介質(zhì)、溫度及關(guān)閉方向等。 一、標(biāo)牌的認(rèn)識(shí) 標(biāo)牌固定在閥體或手輪上,標(biāo)牌的數(shù)據(jù)比較全,反映了基本特性,標(biāo)牌上的生產(chǎn)廠(chǎng)家可提供閥門(mén)易損件、圖紙和資料。根據(jù)標(biāo)牌上提 供的使用條件,可以確定需更換的墊片,填料類(lèi)型和材料,以及需更換的其它零件的材料。 二、閥門(mén)的標(biāo)志 1.通用閥門(mén)的標(biāo)志 通用閥門(mén)必須使用的和可選擇使用的標(biāo)志項(xiàng)目見(jiàn)表 1-26 所示。 通用閥門(mén)的具體標(biāo)志規(guī)定如下: ⑴表 1-27 中 1~4項(xiàng)是必須使用的標(biāo)志,對(duì)于 DN≥50mm的閥門(mén),應(yīng)標(biāo)記在閥體上;對(duì)于 DN<50mm的閥門(mén),標(biāo)記在閥體上還是標(biāo)牌上, 由產(chǎn)品設(shè)計(jì)者規(guī)定。 ⑵表 1-27 中的 5和 6項(xiàng)只有當(dāng)某類(lèi)閥門(mén)標(biāo)準(zhǔn)中有此規(guī)定時(shí)才是必須使用的標(biāo)志,它們應(yīng)分別標(biāo)記在閥體及法蘭上。 ⑶如果各
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閥門(mén)的標(biāo)志和識(shí)別 通常根據(jù)閥門(mén)上的標(biāo)牌和標(biāo)志以及閥門(mén)上涂漆,就可以直接識(shí)別閥門(mén)的類(lèi)型、結(jié)構(gòu)形式、材料、公稱(chēng)通徑、公稱(chēng)壓力(或工作壓力)、 適用介質(zhì)、溫度及關(guān)閉方向等。 一、標(biāo)牌的認(rèn)識(shí) 標(biāo)牌固定在閥體或手輪上,標(biāo)牌的數(shù)據(jù)比較全,反映了基本特性,標(biāo)牌上的生產(chǎn)廠(chǎng)家可提供閥門(mén)易損件、圖紙和資料。根據(jù)標(biāo)牌上提 供的使用條件,可以確定需更換的墊片,填料類(lèi)型和材料,以及需更換的其它零件的材料。 二、閥門(mén)的標(biāo)志 1.通用閥門(mén)的標(biāo)志 通用閥門(mén)必須使用的和可選擇使用的標(biāo)志項(xiàng)目見(jiàn)表 1-26 所示。 通用閥門(mén)的具體標(biāo)志規(guī)定如下: ⑴表 1-27 中 1~4項(xiàng)是必須使用的標(biāo)志,對(duì)于 DN≥50mm的閥門(mén),應(yīng)標(biāo)記在閥體上;對(duì)于 DN<50mm的閥門(mén),標(biāo)記在閥體上還是標(biāo)牌上, 由產(chǎn)品設(shè)計(jì)者規(guī)定。 ⑵表 1-27 中的 5和 6項(xiàng)只有當(dāng)某類(lèi)閥門(mén)標(biāo)準(zhǔn)中有此規(guī)定時(shí)才是必須使用的標(biāo)志,它們應(yīng)分別標(biāo)記在閥體及法蘭上。 ⑶如果各
能產(chǎn)生大震和具有以下至少一點(diǎn)特征的活斷層是能動(dòng)斷層:
在3.5萬(wàn)年以來(lái)至少產(chǎn)生過(guò)一次近地表或在地表發(fā)生的運(yùn)動(dòng)。
發(fā)生過(guò)地震運(yùn)動(dòng)(3.5級(jí)或者更高),并且有儀器測(cè)定的記錄其精確度能夠證明地震運(yùn)動(dòng)與斷層有直接關(guān)系。
對(duì)于能動(dòng)斷層來(lái)說(shuō),斷層一邊發(fā)生地震運(yùn)動(dòng),另一邊也會(huì)受到影響。
儀器記錄到歷史上有小震活動(dòng)產(chǎn)生,且跟斷層有關(guān)。
能動(dòng)斷層(capable fault)
可能引起地表或近地表明顯錯(cuò)動(dòng)的斷層。2100433B
巖層或巖體在構(gòu)造應(yīng)力作用下,發(fā)生破裂,并沿破裂面兩側(cè)巖塊發(fā)生明顯位移的構(gòu)造。斷層在地殼中廣泛發(fā)育,常常構(gòu)成一定地區(qū)的構(gòu)造格架,區(qū)域性的大斷層不僅控制或影響區(qū)域地質(zhì)的結(jié)構(gòu)和發(fā)展,而且以其為背景形成區(qū)域成礦帶;礦區(qū)內(nèi)的斷層,有的控制著礦床分布、礦體的形態(tài)產(chǎn)狀和礦石品位的貧富,有的則對(duì)礦體起破壞作用,使礦床開(kāi)采復(fù)雜化。對(duì)斷層的調(diào)查、觀(guān)察、測(cè)定其產(chǎn)狀要素、確定其類(lèi)型、分析它與成礦的關(guān)系,對(duì)指導(dǎo)開(kāi)采十分重要。
斷層要素:指斷層的幾何要素,包括斷層面、斷層線(xiàn)、斷盤(pán)、滑距、斷距等。(1)斷層面:即巖層或巖體的破裂和錯(cuò)位面,其產(chǎn)出狀態(tài)由該面的走向、傾向、傾角確定。(2)斷層線(xiàn):指斷層面與地面的交線(xiàn),即斷層在地表的出露線(xiàn)。(3)斷盤(pán):指斷層面兩側(cè)的巖塊。斷層面傾斜時(shí),面的上側(cè)巖塊叫上盤(pán);下側(cè)巖塊稱(chēng)下盤(pán);斷層面垂直時(shí),則兩盤(pán)以方位命名,如東盤(pán)、西盤(pán)、南盤(pán)、北盤(pán)等。(4)滑距:指斷層面上同一地質(zhì)現(xiàn)象點(diǎn)錯(cuò)斷后的實(shí)際距離稱(chēng)總滑距;總滑距在斷層面走向線(xiàn)上的分量叫走向滑距;總滑距在斷層面傾斜線(xiàn)上的分量為傾斜滑距;總滑距在水平面上的投影長(zhǎng)度稱(chēng)水平滑距。(5)斷距:斷層面上對(duì)應(yīng)層之間的垂直斷距;對(duì)應(yīng)層間的水平距離稱(chēng)水平斷距。
斷層的工程地質(zhì)性質(zhì):①逆斷層面呈舒緩波狀,有時(shí)有鏡面,擠壓面常集中出現(xiàn)構(gòu)成擠壓帶,斷層面礦物定向排列,抗剪強(qiáng)度低,常具有隔水性能。②正斷層面粗糙,有時(shí)呈鋸齒狀,抗剪強(qiáng)度較逆斷層高,透水排水性能好,常為地下水的通道,在石灰?guī)r地區(qū)容易沿其形成喀斯特洞穴。③平移斷層面平直光滑,有鏡面,產(chǎn)狀穩(wěn)定,傾角一般較陡,延伸長(zhǎng),在平面上常成X形分布,抗剪強(qiáng)度亦較低。
斷層發(fā)育的 3 個(gè)階段:
階段1:初始發(fā)育階段。斷距較小,沉積和成巖作用控制的垂直各向異性產(chǎn)生順層間斷面, 斷層垂向具分段特點(diǎn),泥巖層中發(fā)育大量的向下變形的張性緩沖區(qū)(Releasing dip relay),泥巖層厚度越大,緩沖區(qū)越寬。
階段2:過(guò)渡形變階段。斷層沿間斷面剪切,產(chǎn)生次生裂縫或與順斷層滑動(dòng)的斜裂紋。斷層形成時(shí)伴生的微小裂縫具有定向性, 其方位與 Riedel 剪切一致,在富泥地層中,斷距增大形成泥巖涂抹的概率很高 。
階段3:斷層形成階段。隨著斷距的進(jìn)一步增大,斷層下降盤(pán)的泥巖源層變形,可能使涂抹的泥巖層厚度變薄,從而失去連續(xù)性。巖石塊狀發(fā)生破裂、旋轉(zhuǎn),破碎的塊體沿?cái)鄬酉蛳禄祀s。斷裂帶由構(gòu)造變形拉長(zhǎng)的斷層核和兩側(cè)的破壞區(qū)域復(fù)合組成。斷層發(fā)育階段的識(shí)別是研究斷層封閉性評(píng)價(jià)的基礎(chǔ),通常用泥質(zhì)源巖層厚度和斷距的比值來(lái)區(qū)分不同階段:斷層在初始—過(guò)渡階段,斷距為60~80 m時(shí), 泥巖層厚度與斷距比值0.007;在斷層形成階段,斷距為 600 m 時(shí) 這一比值約為0.0009。泥巖涂抹層在斷層發(fā)育時(shí)已形成,后期厚度不再增加。在斷層位移較小時(shí),涂抹的泥巖能保持連續(xù),隨著斷距的增大,泥質(zhì)沿?cái)鄬臃植甲兎稚?、涂抹厚度逐漸減少,至這一距離約為泥質(zhì)源巖層厚度的6~8 倍時(shí),單個(gè)或互層的涂抹層將存在缺口,出現(xiàn)封閉上的泄漏點(diǎn),可以推測(cè),泄漏點(diǎn)與SGR、SSF等比值上的臨界值具有對(duì)應(yīng)關(guān)系。2100433B