中文名 | ICP刻蝕機(jī) | 產(chǎn)????地 | 中國 |
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學(xué)科領(lǐng)域 | 材料科學(xué) | 啟用日期 | 2012年3月2日 |
所屬類別 | 工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設(shè)備 > 半導(dǎo)體集成電路工藝實驗設(shè)備 |
用于Si、GaN、藍(lán)寶石等材料的干法蝕刻。
TCP刻蝕機(jī)的刻蝕分辨率:100nm;基片尺寸:2英寸、4英寸。
一般按張來算,一張多少錢加工費。
應(yīng)該是用的吧,能和玻璃的主要成分二氧化硅反應(yīng)。要能腐蝕玻璃的才行,B能與玻璃中的SiO2反應(yīng)。燒堿堿反應(yīng)很慢,而且光滑的表面還不能腐蝕。其他的不能反應(yīng)。希望我的回答對你有幫助
ICP許可證,也稱互聯(lián)網(wǎng)信息服務(wù)業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證,或者增值電信業(yè)務(wù)許可證中的互聯(lián)網(wǎng)信息服務(wù)業(yè)務(wù)。
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1 不銹鋼刻蝕 【摘要】 本文依據(jù)工業(yè)生產(chǎn)原理 ,設(shè)計了新的能處理較大面積工件的化學(xué)刻蝕裝置,研究 了實驗室條件下對不銹鋼進(jìn)行圖紋裝飾的方法和工藝。 通過上感光材料、感光、刻蝕、 上色等工藝實現(xiàn)了不銹鋼的圖案刻蝕,成功地制作出一批作品。 【關(guān)鍵詞】 圖紋裝飾,不銹鋼板,感光材料,刻蝕。 Etching on Stainless Steel Sheet Zhao Libing Chen Peixian Li Jiahang Long Jieming Wang Junxia Liu Chang Zhang Zhijun Liu Xiaofang Lu Yujing Xie Guangbin L ü Xueyi (Class 99, School of Chemistry and Chemical Engineering, Sun Yat-Sen University, Guangzh
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評分: 4.7
干法刻蝕工藝總結(jié) 離子束刻蝕機(jī)( IBE-150A) 背景 : 利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子, 氬離子經(jīng)過陽極電場的加速對樣品表面 進(jìn)行物理轟擊, 以達(dá)到刻蝕的作用。 把 Ar、Kr 或 Xe之類惰性氣體充入離子源放 電室并使其電離形成等離子體, 然后由柵極將離子呈束狀引出并加速, 具有一定 能量的離子束進(jìn)入工作室, 射向固體表面撞擊固體表面原子, 使材料原子發(fā)生濺 射,達(dá)到刻蝕目的,屬純物理過程。 技術(shù)指標(biāo): 裝片:一片六英寸襯底、或 1片四英寸,向下兼容。 抽氣速度: 30min由 ATM 到 1.0×10-3Pa 極限真空度: 2×10-4Pa 離子能量: 300eV-400eV ICP 刻蝕機(jī)( OXFORD ICP 180) 背景 : 通入反應(yīng)氣體使用電感耦合等離子體輝光放電將其分解, 產(chǎn)生的具有強(qiáng)化學(xué)活性 的等離子體在電場的加速作用下移動到樣品表面, 對樣品表面既進(jìn)行化學(xué)
ICP干法刻蝕系統(tǒng)。 2100433B
主要功能:等離子刻蝕是利用高頻輝光放電效應(yīng),使反應(yīng)氣體激活成活性粒子,如原子或游離基,這些活性粒子擴(kuò)散到需刻蝕部位,與被刻蝕材料進(jìn)行反應(yīng),形成揮發(fā)性反應(yīng)物而被去除。其優(yōu)勢在于快速的刻蝕速率同時可獲得良好的物理形貌。
通過電感耦合等離子體輝光放電分解反應(yīng)氣體,對樣品表面進(jìn)行物理轟擊及化學(xué)反應(yīng)生成揮發(fā)性氣體,達(dá)到刻蝕的目的。 2100433B