雷達(dá)吸波涂層發(fā)展歷史

早期的吸波涂層有單層介質(zhì)型和干涉型，它們的厚度和面密度均比較大。常用的吸波涂層通常由吸收劑、粘結(jié)劑和其他添加劑構(gòu)成。其中吸收劑具有吸波功能，用得最廣泛的吸收劑是鐵氧體 。

雷達(dá)吸波涂層是指以覆蓋層形式施加在目標(biāo)上的雷達(dá)隱身材料。

國(guó)內(nèi)鐵氧體吸波涂層的水平是：在8~18GHZ頻率范圍內(nèi)(3cm和2cm頻段)達(dá)到全頻段吸收率不低于10dB，其面密度為5kg/m2，厚度約2mm。正在研究的還有碳化硅、超細(xì)金屬粉和導(dǎo)電高分子材料。

吸波涂層的結(jié)構(gòu)研究日益精細(xì)，一個(gè)方向是多層化，可以通過(guò)參數(shù)梯度化改善吸波層波阻抗，并利用層界面的散射作用，大大提高吸收率。另一個(gè)方向是在宏觀電磁場(chǎng)二維周期介質(zhì)理論基礎(chǔ)上，在吸波層內(nèi)制作各種增強(qiáng)電磁波吸收的二維圖形。這些都有利于提高吸波涂層的吸收率，拓寬頻帶，減少吸波涂層的厚度和面密度 。

粘結(jié)劑的主要作用是保證涂層的機(jī)械性能和抗環(huán)境性能。有機(jī)粘結(jié)劑在這方面優(yōu)于無(wú)機(jī)粘結(jié)劑。常用的有樹(shù)脂型和橡膠型兩類(lèi)。

吸波涂層施工形式有涂敷和貼片兩類(lèi)。涂敷有氣壓噴涂和涂刷兩種。其中氣壓噴涂方法有利于在復(fù)雜形狀目標(biāo)上得到較為均勻的涂層，且易于實(shí)現(xiàn)機(jī)械化生產(chǎn)，以提高生產(chǎn)速率。但涂敷法通常要求多層涂敷，加上每層的固化，施工周期較長(zhǎng)。貼片方法是將涂層預(yù)先制成薄片狀，施工時(shí)利用粘結(jié)劑一次貼成。因而施工周期較短。但是這種方法一般僅能用在單曲率表面上，用在形狀復(fù)雜的目標(biāo)上比較困難 。2100433B

第1章 緒論

1．1 研究背景

1．2 國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀

1．2．1 電磁波吸收材料概況

1．2．2 高溫吸波材料研究現(xiàn)狀

1．2．3 吸波涂層制備技術(shù)研究現(xiàn)狀

1．2．4 存在問(wèn)題及發(fā)展趨勢(shì)

1．3 主要內(nèi)容及章節(jié)安排

1．3．1 主要內(nèi)容

1．3．2 結(jié)構(gòu)安排

第2章 微弧等離子噴涂吸波涂層構(gòu)建

2．1 引言

2．2 高溫吸波涂層構(gòu)建思想

2．2．1 等離子噴涂特點(diǎn)

2．2．2 高溫吸波涂層構(gòu)建思路

2．3 微弧等離子噴涂系統(tǒng)及噴槍電熱特性研究

2．3．1 微弧等離子噴涂系統(tǒng)

2．3．2 微弧等離子噴槍電弧特性

2．3．3 微弧等離子噴槍熱效率

2．4 等離子噴涂射流和粒子特性分析

2．4．1 射流溫度與速度

2．4．2 噴涂粒子溫度與速度

2．4．3 噴涂粒子沉積特征

2．5 本章小結(jié)

第3章 微弧等離子噴涂陶瓷粘結(jié)劑優(yōu)化與性能研究

3．1 引言

3．2 實(shí)驗(yàn)材料及方法

3．2．1 噴涂材料

3．2．2 涂層制備

3．2．3 樣品表征

3．2．4 力學(xué)性能測(cè)試

3．3 噴涂工藝參數(shù)優(yōu)化

3．3．1 噴涂電流對(duì)涂層性能的影響

3．3．2 氣體流量對(duì)涂層性能的影響

3．3．3 氣體壓力對(duì)涂層性能的影響

3．3．4 優(yōu)化結(jié)果

3．4 涂層組織結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能研究

3．4．1 組織結(jié)構(gòu)

3．4．2 物相組成

3．4．3 結(jié)合強(qiáng)度

3．4．4 顯微硬度

3．5 本章小結(jié)

第4章 CNT一SiC/AT20復(fù)合吸波涂層制備與性能研究

4．1 引言

4．2 實(shí)驗(yàn)材料及方法

4．2．1 實(shí)驗(yàn)材料

4．2．2 電磁參數(shù)測(cè)試樣品制備

4．2．3 樣品表征

4．2．4 性能測(cè)試

4．3 CNT/石蠟復(fù)合體電磁特性研究

4．3．1 CNT/石蠟復(fù)合體電磁參數(shù)

4．3．2 CNT/石蠟復(fù)合體模擬反射率

4．4 CNT-SiC/AT20電磁特性研究

4．4．1 SiC電磁特性

4．4．2 CNT-SiC/AT20電磁參數(shù)

4．4．3 CNT一SiC/AT20模擬反射率

4．5 復(fù)合吸波涂層的制備及表征

4．5．1 涂層的制備

4．5．2 組織結(jié)構(gòu)

4．5．3 X射線(xiàn)衍射分析

4．6 復(fù)合吸波涂層吸波性能研究

4．7 復(fù)合吸波涂層力學(xué)性能研究

4．8 本章小結(jié)

第5章 CNT-ITO/AT20復(fù)合吸波涂層制備與性能研究

5．1 引言

5．2 實(shí)驗(yàn)材料及方法

5．2．1 材料及設(shè)備

5．2．2 樣品制備

5．2．3 樣品的表征

5．2．4 性能測(cè)試

5．3 合成溫度對(duì)ITO粉體性能的影響

5．3．1 物相組成

5．3．2 粉末組織結(jié)構(gòu)

5．3．3 粉末電磁特性

5．4 制備工藝對(duì)CNT一ITO電磁性能的影響

5．4．1 粉末組織結(jié)構(gòu)

5．4．2 粉末電磁特性

5．4．3 第二相粒子對(duì)復(fù)合材料的電磁性能影響

5．5 CNT一ITO/AT20電磁特性研究

5．5．1 CNT含量對(duì)CNT-ITO/AT20復(fù)合粉體電磁性能的影響

5．5．2 ITO含量對(duì)CNT-ITO/AT20復(fù)合粉體電磁性能的影響

5．6 復(fù)合吸波涂層的制備及表征

5．6．1 組織結(jié)構(gòu)

5．6．2 X射線(xiàn)衍射分析

5．7 復(fù)合吸波涂層吸波性能研究

5．8 復(fù)合吸波涂層力學(xué)性能研究

5．9 本章小結(jié)

第6章 CNT-ZnOw/AT20復(fù)合吸波涂層制備與性能研究

6．1 引言

6．2 CNT-ZnOw/AT20電磁特性

6．2．1 ZnOw電磁特性

6．2．2 CNT含量對(duì)CNT-ZnOw/AT20復(fù)合粉體電磁性能的影響

6．2．3 ZnOw含量對(duì)CNT-ZnOw/AT20復(fù)合粉體電磁性能的影響

6．3 復(fù)合吸波涂層的制備及表征

6．3．1 組織結(jié)構(gòu)

6．3．2 X射線(xiàn)衍射分析

6．4 復(fù)合吸波涂層吸波性能研究

6．5 復(fù)合吸波涂層力學(xué)性能研究

6．6 本章小結(jié)

第7章 CNT基/AT20復(fù)合吸波涂層高溫性能研究

7．1 引言

7．2 高溫氧化性能研究

7．3 高溫吸波性能研究

7．3．1 溫度對(duì)介電常數(shù)影響

7．3．2 復(fù)介電常數(shù)增加對(duì)吸波性能的影響

7．3．3 高溫吸波性能分析

7．4 本章小結(jié)

第8章 總結(jié)與展望

8．1 主要工作

8．2 研究展望

參考文獻(xiàn)

《等離子噴涂CNT基高溫吸波涂層的構(gòu)建與制備》共8章，第1章緒論；第2章微弧等離子噴涂吸波涂層構(gòu)建，對(duì)微弧等離子噴涂的進(jìn)氣方式、粉末粒徑和噴涂距離進(jìn)行了優(yōu)化；第3章微弧等離子噴涂陶瓷粘結(jié)劑的性能研究，優(yōu)選出吸波涂層的粘結(jié)劑；第4章CNT—SiC/AT20復(fù)合吸波涂層制備及性能研究；第5章CNT—ITO/AT20復(fù)合吸波涂層制備及性能研究；第6章CNT—ZnOw/AT20復(fù)合吸波涂層制備及性能研究；第7章涂層的高溫氧化和高溫吸波性能研究；第8章是《等離子噴涂CNT基高溫吸波涂層的構(gòu)建與制備》的總結(jié)與展望。

《等離子噴涂CNT基高溫吸波涂層的構(gòu)建與制備》可為從事熱噴涂技術(shù)、隱身技術(shù)及表面工程工作的研究人員、工程實(shí)踐人員提供參考，同時(shí)也可作為相關(guān)專(zhuān)業(yè)高年級(jí)本科生及研究生的參考書(shū)。

叢書(shū)序

前言

第1章高溫吸波結(jié)構(gòu)材料需求及應(yīng)用

第2章高溫吸波結(jié)構(gòu)材料體系組成以及制備方法

第3章傳統(tǒng)雷達(dá)吸波材料結(jié)構(gòu)形式及其優(yōu)化設(shè)計(jì)方法

第4章超材料吸波材料結(jié)構(gòu)形式及其優(yōu)化設(shè)計(jì)方法

第5章典型高溫吸波結(jié)構(gòu)材料與構(gòu)件制備及性能