在自然界中,鉿常與鋯共生,含鋯的礦物中都含鉿,鉿與鋯呈類質(zhì)同像,鉿主要賦存在鋯英石中。工業(yè)上用的鋯石中含HfO2量為0.5-2%。次生鋯礦石中的鈹鋯石含HfO2可以高達(dá)15%。還有一種變質(zhì)鋯石曲晶石,含HfO2達(dá)5%以上。后兩種礦物的儲(chǔ)量少,工業(yè)上尚未采用。鉿主要由生產(chǎn)鋯的過程中回收。
中文名稱 | 氯氧化鉿 | 性質(zhì) | 無色晶體 |
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溶解性 | 可溶于水、可溶于鹽酸溶液 | 用途 | 制取各種鉿化物 |
在自然界中,鉿常與鋯共生,含鋯的礦物中都含鉿,鉿與鋯呈類質(zhì)同像,鉿主要賦存在鋯英石中。工業(yè)上用的鋯石中含HfO2量為0.5-2%。次生鋯礦石中的鈹鋯石含HfO2可以高達(dá)15%。還有一種變質(zhì)鋯石曲晶石,含HfO2達(dá)5%以上。后兩種礦物的儲(chǔ)量少,工業(yè)上尚未采用。鉿主要由生產(chǎn)鋯的過程中回收。
鉿的冶煉與鋯基本相同,一般分五步。 第一步為礦石的分解,有三種方法:①鋯石氯化得(Zr,Hf)Cl4。②鋯石的堿熔,鋯石與NaOH在600℃左右熔融,有90%以上的(Zr,Hf)O2轉(zhuǎn)變?yōu)镹a2(Zr,Hf)O3,其中的SiO2變成Na2SiO3,用水溶除去。Na2(Zr,Hf)O3用HNO3溶解后可作鋯鉿分離的原液,但因含有SiO2膠體,給溶劑萃取分離造成困難。③用K2SiF6燒結(jié),水浸后得K2(Zr,Hf)F6溶液。溶液可以通過分步結(jié)晶分離鋯鉿。第二步為鋯鉿分離,可用鹽酸-MIBK(甲基異丁基酮)系統(tǒng)和HNO3-TBP(磷酸三丁酯)系統(tǒng)的溶劑萃取分離方法。利用高壓下(高于20大氣壓)HfCl4和ZrCl4熔體蒸氣壓的差異而進(jìn)行多級分餾的技術(shù)早有研究,可省去二次氯化過程,降低成本。但由于(Zr,Hf)Cl4和HCl的腐蝕問題,既不易找到合適的分餾柱材質(zhì),又會(huì)使ZrCl4和HfCl4質(zhì)量降低,增加提純費(fèi)用。第三步為HfO2的二次氯化以制得還原用粗HfCl4。第四步為HfCl4的提純和加鎂還原。本過程與ZrCl4的提純和還原相同,所得半成品為粗海綿鉿。第五步為真空蒸餾粗海綿鉿,以除去MgCl2和回收多余的金屬鎂,所得成品為海綿金屬鉿。如還原劑不用鎂而用鈉,則第五步改為水浸。
海綿鉿自坩堝中取出時(shí)要格外小心,以免自燃。大塊海綿鉿要破碎成一定尺寸的小塊,以便壓成自耗電極,再熔鑄成錠。破碎時(shí)也應(yīng)防止自燃。海綿鉿的進(jìn)一步提純與鈦和鋯一樣,用碘化物熱分解法??刂茥l件與鋯略有不同,在碘化罐四周的海綿鉿小塊,保持溫度為600℃,而中心的熱絲溫度為1600℃,比制取鋯的"結(jié)晶棒"時(shí)的1300℃為高。鉿的加工成型包括鍛造、擠壓、拉管等步驟,與加工鋯的方法一樣。
鉿的主要用途是制作原子核反應(yīng)堆的控制棒。純鉿具有可塑性、易加工、耐高溫抗腐蝕,是原子能工業(yè)重要材料。鉿的熱中子捕獲截面大,是較理想的中子吸收體,可作原子反應(yīng)堆的控制棒和保護(hù)裝置。鉿粉可作火箭的推進(jìn)器。在電器工業(yè)上可制造X射線管的陰極。鉿的合金可作火箭噴嘴和滑翔式重返大氣層的飛行器的前沿保護(hù)層,Hf-Ta合金可制造工具鋼及電阻材料。在耐熱合金中鉿用作添加元素,例如鎢、鉬、鉭的合金中有的添加鉿。HfC由于硬度和熔點(diǎn)高,可作硬質(zhì)合金添加劑。4TaC·HfC的熔點(diǎn)約為4215℃,為已知的熔點(diǎn)最高的化合物。
性質(zhì):無色晶體??扇苡谒?在水溶液中穩(wěn)定??扇苡邴}酸溶液,有很寬的溶解度。且溶解度隨鹽酸濃度變化而變化:在8~9mol/L鹽酸溶液中溶解度最低,僅0.053~0.0668mol/L,而在稀鹽酸(0.2mol/L)時(shí)為0.167mol/L,因而用于提純鉿化合物。由四氯化鉿溶于水或氫氧化鉿溶于鹽酸中制取。為制取各種鉿化物的重要原料。
記住四個(gè)字:降氧升還 化合價(jià)降低的是氧化劑,生成還原產(chǎn)物;化合價(jià)升高的還原劑,生成氧化產(chǎn)物。 CUO+CO=CU+CO2 銅從+2變成0,降低,氧化劑,生成對應(yīng)的CU單質(zhì)就是還原產(chǎn)物。
在氧化還原反應(yīng)中,獲得電子的物質(zhì)稱作氧化劑與此對應(yīng),失去電子的物質(zhì)稱作還原劑。狹義地說,氧化劑又可以指可以使另一物質(zhì)得到氧的物質(zhì),以此類推,氟化劑是可以使物質(zhì)得到氟的物質(zhì),氯化劑、溴化劑等亦然。(注:...
一個(gè)達(dá)標(biāo),一個(gè)不達(dá)標(biāo)次氧化鋅的成分有些是達(dá)不到國家標(biāo)準(zhǔn)的
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評分: 4.3
ZnO–PbO–B2O3 glassesas gamma-ray shielding materials Harvinder Singh a, Kulwant Singh a, Leif Gerward b, * , Kanwarjit Singh c, Hari Singh Sahota d , Rohila Nathuram e a Department of Physics, Guru Nanak Dev University, Amritsar-143005, Punjab, India b Department of Physics, Technical University of Denmark, Building 307, DK-2800 Kgs. Lyngby, Denmark c Department of Applied Physics, Guru Nanak Dev
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評分: 4.6
氧化溝簡介及氧化溝的主要優(yōu)點(diǎn) 一、 氧化溝簡介 氧化溝利用循環(huán)環(huán)式反應(yīng)池( Continuous Loop Reator )作為生物反應(yīng)池,并使用一種帶 方向控制的曝氣和攪動(dòng)裝置向反應(yīng)池中液體傳遞水平速度, 從而使液體在池中循環(huán)。 氧化溝 是活性污泥法的一種變型, 在水力流態(tài)上不同于傳統(tǒng)的活性污泥法, 氧化溝是一種首尾相連 的循環(huán)流動(dòng)曝氣溝渠。最早的氧化溝渠是土溝渠,間歇進(jìn)水、間歇曝氣,從這一點(diǎn)上來說, 氧化溝最早是以序批方式處理污水的。 1954年荷蘭建成了世界上第一座氧化溝污水處理廠, 為一個(gè)環(huán)形跑道,斜坡式池壁反應(yīng)池,采用間歇運(yùn)行方式,白天做曝氣池用,晚上做沉淀池 用,結(jié)構(gòu)簡單,處理效果好。 氧化溝處理污水的整個(gè)過程如進(jìn)水、 曝氣、沉淀、污泥穩(wěn)定和出水全部集中在氧化溝內(nèi)完 成,最早的氧化溝不需要設(shè)初次沉淀池、 二沉池和污泥回流設(shè)備, 采用延時(shí)曝氣、 連續(xù)進(jìn)出 水,所產(chǎn)生的污泥在污水凈
(純度:99.9%-99.9999%)
1. 高純氧化物:
一氧化硅、SiO,二氧化鉿、HfO2,二硼化鉿,氯氧化鉿,二氧化鋯、ZrO2,二氧化鈦、TiO2,一氧化鈦、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二鈦、Ti2O3,五氧化三鈦、Ti3O5,五氧化二鉭、Ta2O5,五氧化二鈮、Nb2O5,三氧化二鋁、Al2O3,三氧化二鈧、Sc2O3,三氧化二銦、In2O3,二鈦酸鐠、Pr(TiO3)2,二氧化鈰、CeO2,氧化鎂、MgO,三氧化鎢、WO3,氧化釤、Sm2O3,氧化釹、Nd2O3,氧化鉍、Bi2O3,氧化鐠、Pr6O11,氧化銻、Sb2O3,氧化釩、V2O5,氧化鎳、NiO,氧化鋅、ZnO,氧化鐵、Fe2O3,氧化鉻、Cr2O3,氧化銅、CuO等。
2. 高純氟化物:
氟化鎂、MgF2,氟化鐿、YbF3,氟化釔、LaF3,氟化鏑、DyF3,氟化釹、NdF3,氟化鉺、ErF3,氟化鉀、KF,氟化鍶、SrF3,氟化釤、SmF3,氟化鈉、NaF,氟化鋇、BaF2,氟化鈰、CeF3,氟化鉛等。
4. 混合料:
氧化鋯氧化鈦混合料,氧化鋯氧化鉭混合料,氧化鈦氧化鉭混合料,氧化鋯氧化釔混合料,氧化鈦氧化鈮混合料,氧化鋯氧化鋁混合料,氧化鎂氧化鋁混合料,氧化銦氧化錫混合料,氧化錫氧化銦混合料,氟化鈰氟化鈣混合料等混合料
3. 高純金屬類:
高純鋁,高純鋁絲,高純鋁粒,高純鋁片,高純鋁柱,高純鉻粒,高純鉻粉,鉻條,高純金絲,高純金片,高純金,高純金粒,高純銀絲,高純銀粒,高純銀,高純銀片,高純鉑絲,高純鉿粉,高純鉿絲,高純鉿粒,高純鎢粒,高純鉬粒,高純單晶硅,高純多晶硅,高純鍺粒,,高純錳粒,高純鈷,高純鈷粒,高純鉬,高純鉬片,高純鈮,高純錫粒,高純錫絲,高純鎢粒,高純鋅粒,高純釩粒,高純鐵粒,高純鐵粉,海面鈦,高純鋯絲,高純鋯,海綿鋯,碘化鋯,高純鋯粒,高純鋯塊,高純碲粒,高純鍺粒, 高純鈦片,高純鈦粒,高純鎳,高純鎳絲,高純鎳片,高純鎳柱,高純鉭片,高純鉭,高純鉭絲,高純鉭粒,高純鎳鉻絲,高純鎳鉻粒,高純鑭,高純鐠,高純釓,高純鈰,高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩,高純錸,高純銠,高純鈀,高純銥等.
5. 其他化合物:
鈦酸鋇,BaTiO3,鈦酸鐠,PrTiO3,鈦酸鍶,SrTiO3,鈦酸鑭,LaTiO3,硫化鋅,ZnS,冰晶石,Na3AlF6,硒化鋅,ZnSe,硫化鎘。
6. 輔料:
鉬片,鉬舟、鉭片、鎢片、鎢舟、鎢絞絲。
(純度:99.9%-99.999%)
1.金屬靶材:
1. 金屬靶材:
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。