生產?；w瓷板的拋光裝置

生產玻化纖瓷板的拋光裝置，屬于陶瓷生產機械領域。包括由帶有磨片和其驅動裝置的磨頭，其特征是在所述磨片和其驅動裝置之間的驅動軸上設置減震緩沖機構；其所述的減震緩沖機構包括與驅動裝置輸出軸聯(lián)接的第一傳動齒輪、經傳動軸與磨片聯(lián)接且與第一傳動齒輪套裝嚙和的第二轉動齒輪、位于第一傳動齒輪和第二傳動齒輪之間的第一減震單元和位于第二轉動齒輪與磨片之間的第二減震單元。本實用新型滿足了對厚度在15mm以下?；w瓷板進行工業(yè)化大規(guī)模生產的需求，提高了產品的光澤度和鏡面效果，提升了產品的檔次和裝飾效果，產品的抗污能力大大提高?？蓮V泛用于板狀陶瓷燒結體、?；w瓷板之生產領域。

從1940年開始，高氧化鈰含量的稀土拋光粉開始取代氧化鐵(即鐵紅)用于玻璃拋光，成為玻璃拋光加工過程中的關鍵工藝材料之一。與傳統(tǒng)拋光粉-鐵紅粉相比，稀土拋光粉具有拋光速度快、光潔度高和使用壽命長的優(yōu)點，而且能改變拋光質量和操作環(huán)境。例如用氧化鈰拋光粉拋光透鏡，一分鐘完成的工作量，如用氧化鐵拋光粉則需要30~60分鐘。稀土拋光粉因其獨特的化學機械作用原理而帶來的高拋光效率，成為玻璃拋光材料的首選，被廣泛用于鏡片、光學元件(透鏡、棱鏡)、彩電玻殼、平板顯示器用電子玻璃、硅片、磁盤玻璃基片等產品的拋光加工。

根據(jù)鈰含量的不同，稀土拋光粉可分為高鈰(>90%)、富鈰(>70%)和低鈰(<70%)三種。根據(jù)其應用領域的不同，稀土拋光粉產品可分為微米級、亞微米級、納米級三類。

對氧化鈰拋光機理的解釋主要有以下幾種學說:

(1)化學學說，即拋光過程是水、拋光劑、拋光模材料和玻璃之間化學作用的結果;

(2)純機械作用學說，即拋光是研磨過程的繼續(xù);

(3)流變作用學說，即摩檫熱使玻璃表面產生塑性變形和流動，或者是熱軟化以致熔融而產生流動，拋光過程是玻璃表面分子重新分布而形成平整表面的過程;

(4)機械、物理化學學說，即拋光過程是一機械的、物理化學作用的綜合過程;許多專家認為，拋光是一機械的、物理化學的、化學的綜合，其中機械作用是基本的，化學作用是重要的，而流變現(xiàn)象是存在的。氧化鈰是極有效的拋光用化合物，因為它能用化學分解和機械摩擦二種形式同時拋光玻璃。在拋光過程中，氧化鈰拋光粉有兩種作用，即機械作用與膠體化學作用，這兩種作用是同時出現(xiàn)的。拋光的初始階段，是CeO2去除表面凹凸層的過程，因而呈現(xiàn)出新的拋光面，這時機械作用是主要的。同時，由于拋光混合物中有水，在拋光過程中形成H3O+ 離子，在玻璃表面H3O+離子與Na+離子相互交換而與玻璃形成水解化合物;同時由于CeO2拋光劑具有多價的性質，Ce(III)/Ce(IV)的氧化還原反應會破壞硅酸鹽晶格，并通過化學吸附作用，使玻璃表面與拋光劑接觸的物質(包括玻璃及水解化合物)被氧化或形成(…Ce-O-Si…)絡合物而被除去。

有以下三個方面:

原料選用:

生產拋光粉的原料按含鈰量分為三種:高鈰拋光粉用硝酸鈰或氯化鈰生產，硝酸鈰生產的拋光粉顆粒性能更好;富鈰拋光粉采用鑭鈰氯化物生產，所得拋光粉為白色;低鈰拋光粉采用混合碳酸稀土或氟碳鈰礦生產，顏色為棕紅色。

沉淀方式:

沉淀過程決定了拋光粉晶粒的大小和形狀，最終影響稀土拋光粉的拋光速度、耐磨性、流動性等應用性能?？刹捎貌菟岷吞妓釟滗@兩種沉淀劑生產拋光粉，草酸鹽得到的拋光粉具有單晶結構，粉體具有良好的流動性，易于沉降，便用水力方法進行分級;碳酸鹽得到的拋光粉呈片狀團聚體結構，懸浮性較好，但耐磨性、流動性不如草酸鹽生產的拋光粉，但因生產成本較低而得到廣泛采用。

分級方式:

拋光粉在應用前均需進行分級，一般有水力沉降、濕式篩分、干式篩分、水力懸流分級、氣流分級等方式。草酸鹽生產的拋光粉一般采用濕式篩分或水力懸流分級;碳酸鹽制得的拋光粉大多采用氣流分級方式實現(xiàn)。

顆粒大小:決定了拋光精度和速度，一般用目數(shù)和平均顆粒大小來表征。過篩目數(shù)反映了最大顆粒的大小，平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。

硬度:硬度大的顆粒具有較快的切削率，加入助磨劑也可以提高切削率。

懸浮性:高速拋光要求拋光粉具有較好的懸浮性，顆粒形狀和大小對懸浮性有較大影響，片狀的拋光粉以及小顆粒的拋光粉的懸浮性較好。懸浮性的提高也可以通過加入懸浮劑來實現(xiàn)。

顆粒結構:顆粒結構是團聚體顆粒還是單晶顆粒決定了拋光粉的耐磨性和流動性。團聚體顆粒在拋光過程中會破碎，從而導致耐磨性下降，單晶顆粒具有好的耐磨性和流動性。

顏色:與原料中的鐠含量和溫度有關，鐠含量越高，拋光粉越顯棕紅色。低鈰拋光粉中含有大量的鐠，因而顯棕紅色。對純氧化鈰拋光粉，焙燒溫度高，拋光粉的顏色偏白紅，溫度低，顏色偏淺黃。

全球的稀土拋光粉生產總量約為2萬噸，生產廠家主要有四種類型:光學輔料公司、磨料磨具公司、稀土冶金公司、化工材料公司。其中，光學輔料公司的生產量最小，在2000噸以下，磨料磨具行業(yè)最大，在7000噸左右，稀土行業(yè)和化工行業(yè)各生產5000噸。我國的稀土拋光粉的生產量和應用量大抵相等，每年生產 1萬噸左右，其中國內自用8000噸，出口2000噸。

稀土拋光粉具有拋光速度快、光潔度高和使用壽命長的優(yōu)點，與傳統(tǒng)拋光粉-鐵紅粉相比，不污染環(huán)境，易于從沾著物上除去等優(yōu)點。用氧化鈰拋光粉拋光透鏡，一分鐘完成的工作量，如用氧化鐵拋光粉則需要30~60分鐘。所以，稀土拋光粉具有用量少、拋光速度快以及拋光效率高的優(yōu)點。而且能改變拋光質量和操作環(huán)境。一般稀土玻璃拋光粉主要用富鈰氧化物。氧化鈰之所以是極有效的拋光用化合物，是因為它能用化學分解和機械摩擦二種形式同時拋光玻璃。稀土鈰拋光粉廣泛用于照相機、攝影機鏡頭、電視顯像管、眼鏡片等的拋光。目前我國有稀土拋光粉廠幾十家，生產規(guī)模上百噸的十余家。中外合資包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司是我國目前最大的稀土拋光粉廠之一，年生產能力1200噸，產品銷往國內外。

在稀土拋光粉的消費中，日本是最大的消費者，每年約生產3550~4000噸拋光粉，產值35~40億日元，還從法國、美國和中國進口部分拋光粉，其中最大的拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。

90年代中期，日本陰極射線管的生產轉向海外，而平面顯示產品產量迅速增加，對鈰基拋光粉的需求量也迅速增加，估計日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的50%。90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術和設備向海外轉移，如:日本清美化學從1989年開始在海外生產陰極射線管用鈰基拋光粉，1989年在臺灣建立了一家獨資企業(yè)，1990年投入生產，生產能力為每年1000噸，1997年又與我國包頭鋼鐵公司合資在包頭建立了一家專門生產彩電陰極射線管、電子管和平板玻璃拋光粉的企業(yè)，設計能力為每年1200噸，所用原料為高品位氟碳鈰礦和富鈰碳酸稀土，因此，新日本金屬化學公司的陰極射線管用拋光粉因受來自中國大陸和臺灣大量低價拋光粉的沖擊，也有意從事用于液晶顯示用高性能拋光粉的生產。東北金屬化學公司計劃專門從事光學鏡頭和液晶顯示屏用拋光粉的生產，據(jù)悉，昭和電工計劃投資5億日元擴大其鈰基拋光粉的生產能力，以滿足電器設備和半導體裝置等市場的需求，其獨資公司東北金屬化工公司將投資2.5億日元以擴大鈰基研磨劑的生產能力，其產品牌號為ROX，用于PC的液晶顯示屏和硬盤的玻璃基體拋光，可望使其月產量達200噸，成為日本同行中的大戶，其銷售目標是2002年達20億日元，昭和電工還將長野縣投資2.5億日元建一新廠，生產用于半導體的化學機械拋光粉，產品牌號為GPL，月產能力為200噸，2002年的銷售額將達30億日元。

磁射流拋光的發(fā)生裝置由磁場發(fā)生裝置、回收裝置、攪拌裝置、泵、冷卻裝置和機床本體等組成。在磁場發(fā)生裝置中, 需要磁流變液在攪拌裝置中得到充分攪拌以后, 由吸入泵按照限定的流量升壓以后, 再經過處于磁場中的噴嘴高速碰射到工件表面, 進行確定性加工, 然后用收集器把使用過的磁流變液收集并進行過濾冷卻, 從而進行下一輪的拋光。裝置里的磁場發(fā)生裝置是由螺線圈和充當鐵芯的噴嘴組成的, 噴嘴是用鐵磁性材料制成的錐形噴嘴, 錐形噴嘴有利于射流束速度的提高和磁場強度的集中。另外, 在螺線圈周圍添加一個用高磁導率材料做成的磁屏蔽體, 可以使噴嘴處的磁場強度提高兩倍以上, 有利于磁場強度的集中, 同時也可以使加工對象不受磁場的干擾, 使加工材料從光學材料擴展到導磁性材料, 很大程度上提高了磁射流拋光技術的應用范圍。