小型臺(tái)式激光直寫系統(tǒng)

該設(shè)備由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫出所設(shè)計(jì)的任意圖形，從而把設(shè)計(jì)圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。激光直寫系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)如圖所示，主要由He-Cd激光器、聲光調(diào)制器、投影光刻物鏡、CCD攝像機(jī)、顯示器、照明光源、工作臺(tái)、調(diào)焦裝置、He-Ne激光干涉儀和控制計(jì)算機(jī)等部分構(gòu)成。激光直寫的基本工作流程是：用計(jì)算機(jī)產(chǎn)生設(shè)計(jì)的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩摸結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)；將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成直寫系統(tǒng)控制數(shù)據(jù)，由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光；經(jīng)顯影和刻蝕將設(shè)計(jì)圖形傳遞到基片上。 2100433B

目鏡放大倍數(shù)：10*、15*；物鏡放大倍數(shù)：4*、10*、20*；曝光波長(zhǎng)：365nm、436nm；X軸量程范圍：-24mm~ 24mm；Y軸量程范圍：-24mm~ 24mm；Z軸量程范圍：0~ 3mm；支持導(dǎo)入圖形格式：JPEG、DWG、DXF；線寬精度：1um。

小型臺(tái)式無掩膜光刻機(jī)Microwriter ML3，通過激光直寫在光刻膠上直接曝光制作所需要的圖案，而無需掩膜版，專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā)，適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦

Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。

直寫前預(yù)檢查

軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫準(zhǔn)確。

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別

點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。

光學(xué)輪廓儀

Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。

簡(jiǎn)單的直寫軟件

MicroWriter ML3由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。

Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件

可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF, CIF, GDSII, 等）

可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

書寫范圍只由基片尺寸決定

1. 1微米分辨率 2. 150mm*150mm有效直寫面積 3. 1微米對(duì)準(zhǔn)精度 4. 200nm自動(dòng)對(duì)焦精度。