1太陽(yáng)能電池介紹
1.1引言
1.2太陽(yáng)能電池的基本原理
1.3太陽(yáng)能電池的發(fā)展歷史及趨勢(shì)
1.4太陽(yáng)能電池的種類
參考文獻(xiàn)
2量子點(diǎn)敏化太陽(yáng)能電池的研究
2.1量子點(diǎn)敏化劑的特性
2.2量子點(diǎn)敏化太陽(yáng)能電池的結(jié)構(gòu)和組成
2.3量子點(diǎn)敏化太陽(yáng)能電池的工作機(jī)理
2.4提高量子點(diǎn)敏化太陽(yáng)能電池效率的方法
參考文獻(xiàn)
3ZnO和In2S3在太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用
3.1ZnO的性質(zhì)及其在太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用
3.2In2S3在太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
4CdSe敏化Al摻雜ZnO納米棒陣列復(fù)合薄膜的制備及其光電化學(xué)性能
4.1引言
4.2實(shí)驗(yàn)試劑和儀器設(shè)備
4.3Al摻雜ZnO納米棒陣列薄膜的制備與表征
4.4CdSe敏化Al摻雜ZnO納米棒陣列薄膜的制備及其光電化學(xué)性能研究
4.5本章小結(jié)
5大面積高能面裸露的ZnO納米片陣列薄膜的制備及其光電化學(xué)性能
5.1引言
5.2ZnO納米片陣列薄膜的制備
5.3ZnO納米片陣列薄膜的表征
5.4反應(yīng)條件對(duì)形貌演變的影響
5.5ZnO納米片陣列薄膜的性質(zhì)研究
5.6本章小結(jié)
6Ⅱ-Ⅵ族半導(dǎo)體/ZnO納米片陣列復(fù)合薄膜的制備及其光電化學(xué)性能研究
6.1引言
6.2CdS敏化ZnO納米片陣列薄膜的制備及其光電化學(xué)性能研究
6.3CdSe敏化ZnO納米片陣列薄膜的制備及其光電化學(xué)性能研究
6.4CdS/CdSe共敏化ZnO納米片陣列薄膜的制備及其光電化學(xué)性能研究
6.5本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
7片狀I(lǐng)n2S3薄膜的制備及其光電化學(xué)性質(zhì)
7.1引言
7.2實(shí)驗(yàn)過(guò)程
7.3結(jié)果與討論
7.4In2S3薄膜向In2O3薄膜的轉(zhuǎn)化
7.5本章小結(jié)
8楔形In2S3薄膜的制備及其光電化學(xué)性質(zhì)
8.1引言
8.2實(shí)驗(yàn)過(guò)程
8.3結(jié)果與討論
8.4本章小結(jié)
第2版前言第1版前言第1章 土方工程1.1 土的分類與工程性質(zhì)1.2 場(chǎng)地平整、土方量計(jì)算與土方調(diào)配1.3 基坑土方開(kāi)挖準(zhǔn)備與降排水1.4 基坑邊坡與坑壁支護(hù)1.5 土方工程的機(jī)械化施工復(fù)習(xí)思考題第2...
一個(gè)達(dá)標(biāo),一個(gè)不達(dá)標(biāo)次氧化鋅的成分有些是達(dá)不到國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的
氧化鋅 1.物質(zhì)的理化常數(shù) 國(guó)標(biāo)編號(hào) ---- CAS號(hào) 1314-13-2 中文名稱 氧化鋅 英文名稱 Zine oxide;Zine white 別 名 鋅白;鋅氧粉 分子式 ZnO 外觀與性狀 ...
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柜號(hào) 序號(hào) G1 1 G1 2 G1 3 G2 4 G2 5 G2 6 G2 7 G2 8 G2 9 G1 10 G2 11 G2 12 G2 13 G2 14 G1 15 G1 16 G1 17 G2 18 G2 19 G2 20 G1 21 G3 22 G3 23 G3 24 G3 25 G3 26 G3 27 G1 28 G1 29 G3 30 G3 31 G2 32 G2 33 G2 34 G2 35 G2 36 G2 37 G2 38 下右 39 下右 40 下右 41 下右 42 下右 43 下右 44 下右 45 下右 46 下右 47 下右 48 下右 49 下右 50 下右 51 下右 52 下右 53 下左 54 下左 55 下左 56 下左 57 下左 58 下左 59 下左 60 下左 61 下左 62 下左 63 下左 64 下左 65 下左 66 下左 67 下
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1 工程常用圖書(shū)目錄(電氣、給排水、暖通、結(jié)構(gòu)、建筑) 序號(hào) 圖書(shū)編號(hào) 圖書(shū)名稱 價(jià)格(元) 備注 JTJ-工程 -24 2009JSCS-5 全國(guó)民用建筑工程設(shè)計(jì)技術(shù)措施-電氣 128 JTJ-工程 -25 2009JSCS-3 全國(guó)民用建筑工程設(shè)計(jì)技術(shù)措施-給水排水 136 JTJ-工程 -26 2009JSCS-4 全國(guó)民用建筑工程設(shè)計(jì)技術(shù)措施-暖通空調(diào) ?動(dòng)力 98 JTJ-工程 -27 2009JSCS-2 全國(guó)民用建筑工程設(shè)計(jì)技術(shù)措施-結(jié)構(gòu)(結(jié)構(gòu)體系) 48 JTJ-工程 -28 2007JSCS-KR 全國(guó)民用建筑工程設(shè)計(jì)技術(shù)措施 節(jié)能專篇-暖通空調(diào) ?動(dòng)力 54 JTJ-工程 -29 11G101-1 混凝土結(jié)構(gòu)施工圖平面整體表示方法制圖規(guī)則和構(gòu)造詳圖(現(xiàn)澆混凝土框架、剪力墻、框架 -剪力墻、框 支剪力墻結(jié)構(gòu)、現(xiàn)澆混凝土樓面與屋面板) 69 代替 00G101
IZO薄膜和TFT器件制備:在清洗干凈的玻璃上采用甩膠法旋涂IZO溶膠,前期轉(zhuǎn)速為500r/min,時(shí)間為15s;后期轉(zhuǎn)速為2000r/min,時(shí)間為1min。然后,在150℃溫度下加熱15min,使溶劑蒸發(fā),由最初的溶膠變?yōu)槟z。最后,放入加熱爐中300℃退火30min,即可形成IZO薄膜。如果要得到理想厚度的薄膜,提高轉(zhuǎn)速可以降低薄膜厚度,重復(fù)上述操作可以增加薄膜厚度。TFT器件采用底柵結(jié)構(gòu),先在CorningEXG玻璃基板上直流濺射厚度約為100nm的ITO并光刻出柵電極,然后在等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積PECVD系統(tǒng)中沉積300nm的SiO2薄膜作為柵絕緣層,接著濺射100nm的ITO并光刻定義出源漏電極,溝道的寬度和長(zhǎng)度分別為100μm和20μm。最后采用旋涂法制備IZO薄膜,光刻出溝道區(qū)域,在300℃下對(duì)器件退火處理3h。 2100433B
氧化鋅納米材料是一種多功能性的新型無(wú)機(jī)材料,其具有一系列優(yōu)異性能和十分誘人的應(yīng)用前景,因此,研發(fā)氧化鋅納米材料已成為許多科技人員關(guān)注的焦點(diǎn)。 《氧化鋅納米材料制備及應(yīng)用》圍繞多孔ZnO薄膜和納米ZnO粉體的制備、性能測(cè)試及應(yīng)用進(jìn)行了研究。全書(shū)共7章,主要研究了表面活性劑輔助電化學(xué)沉積法、絡(luò)合物溶膠凝膠法制備多孔ZnO薄膜,表面活性劑輔助直接沉淀法制備ZnO納米結(jié)構(gòu)材料以及金屬離子摻雜納米ZnO的表征及發(fā)光性能等。
本書(shū)對(duì)于從事無(wú)機(jī)非金屬材料、透明導(dǎo)電氧化物(或透明氧化物半導(dǎo)體)、染料敏化太陽(yáng)能電池、新能源材料與器件等領(lǐng)域的科研人員和技術(shù)人員,以及高等學(xué)校相關(guān)專業(yè)師生具有參考價(jià)值。
采用常壓超聲噴霧熱解法、通過(guò)氮和銦共摻雜,成功地制備出p型氧化鋅薄膜,其電學(xué)性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)國(guó)際上的最好水平(電阻率降低了2個(gè)數(shù)量級(jí),霍爾遷移率提高了2~3個(gè)數(shù)量級(jí))。在此基礎(chǔ)上,又制備出具有p-氧化鋅/n-氧化鋅雙層結(jié)構(gòu)的氧化鋅同質(zhì)p-n結(jié)。這是首次用簡(jiǎn)單易行的方法制備出性能優(yōu)異的p型氧化鋅薄膜及氧化鋅同質(zhì)p-n結(jié)。這些研究成果對(duì)于深入研究氧化鋅薄膜晶體生長(zhǎng)和摻雜機(jī)理、試制新型氧化鋅短波長(zhǎng)發(fā)光器件、拓寬氧化鋅薄膜應(yīng)用領(lǐng)域等方面具有重要意義。
同時(shí),由于氧化鋅一維納米材料具有許多特異的物理、化學(xué)特性,在構(gòu)建納米電子和光學(xué)器件方面具有巨大的應(yīng)用潛力,受到廣泛的關(guān)注。該課題組通過(guò)對(duì)汽相傳輸法制備高純度、復(fù)雜形狀一維氧化鋅納米材料的研究,自組裝成直徑小于60納米、尺度分布均勻、具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的一維氧化鋅納米棒,并且實(shí)現(xiàn)了對(duì)其同質(zhì)催化和縱向排列的定向控制。其中,四腳狀氧化鋅納米結(jié)構(gòu)的研究已達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平?實(shí)現(xiàn)了對(duì)其同質(zhì)催化控制和縱向排列的定向控制。