準(zhǔn)分子光源

高功率紫外線準(zhǔn)分子激光器提供了從1 00mJ到1000mJ的能量，光子能量到達5eV、6.3eV、7.9eV，使得用于激光微加工更具彈性。事實上，準(zhǔn)分子激光器做到了每種資料的準(zhǔn)確加工，高分辨率資料切除時不須過后處置。準(zhǔn)分子光子無上轉(zhuǎn)換請求，準(zhǔn)分子激光器能夠直接輸出。數(shù)百瓦的功率輸出容易獲得，并能得到高消費率，加強了工藝才能。

更重要的是可反復(fù)的消費帶來了時間和空間上持續(xù)穩(wěn)定的脈沖和采樣能量的平均，這種特性招致了準(zhǔn)分子激光器的優(yōu)越性能，超越其他脈沖激光源，比方泵浦Nd：YAG激光器。

脈沖動搖小于1%，這個在頻率脈沖變換Nd：YAG激光系統(tǒng)中很難做到的。另外，大型平頂準(zhǔn)分子激光器的外形十分合適于高效的二維或三維微觀構(gòu)造。緊湊微加工概念合適于資料消融和外表激活，這些在報告中將被引見。?

準(zhǔn)分子紫外光源的選擇

光源由頻率為10千周、強度為25千伏/厘米的正弦波電場激勵，功耗約10瓦。介質(zhì)用二片厚度為0.22毫米的玻璃片。放電發(fā)射的真空紫外輻射的波長為125納米。譜帶半值寬度為10納米。光源輻射面積為0.3×10毫米，厚度為10毫米。光源面積正好能和光譜儀的入射狹縫相匹配。這種光源有望于用作次級真空紫外標(biāo)準(zhǔn)光源。光源輻射的最大光譜輻亮度僅為0.2千瓦/厘米2納米立體角。而在該波長處1千瓦微型壁穩(wěn)氬?。ǔＲ姶渭壸贤鈽?biāo)準(zhǔn)光源）的光譜輻亮度僅為0.2千瓦/厘米2納米立體角。

介質(zhì)阻擋放電的準(zhǔn)分子輻射機理可以理解如下。在介質(zhì)阻擋的微放電中嗎，平均能量為幾個電子伏特的電子有效地激發(fā)了氬原子。這些處于激發(fā)態(tài)的氬原子與周圍氬原子碰撞復(fù)合成被激發(fā)的氬準(zhǔn)分子。這種過程通常是發(fā)生在較高氣壓的條件下的，所以本光源要求在氣壓為1大氣壓下工作。當(dāng)被激發(fā)的準(zhǔn)分子向下躍遷到基態(tài)時會發(fā)射波長范圍較寬的紫外輻射。它會很快地分解成氬原子。因此即使在較高氣壓下，這種光源不會發(fā)生輻射的自然吸收現(xiàn)象，光效是高的。

可見介質(zhì)阻擋放電準(zhǔn)分子紫外光源結(jié)構(gòu)簡單，容易制造，而且具有形式多樣可變，輸出波長可以選擇、波長覆蓋面大、光效高、光譜純等特點。可以預(yù)見這類新的紫外光源的出現(xiàn)和發(fā)展將促使光化學(xué)、光物理過程在高技術(shù)中得越來越多的應(yīng)用。發(fā)展這種光源成為大面積照明光源也將是可能的。