真空電鍍簡(jiǎn)介

真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。

vacuum plating

真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍.

真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高.而相對(duì)其他的鍍膜法來說，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用.

真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、ABS+PC料、PC料的產(chǎn)品.同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴.現(xiàn)對(duì)其工藝流程作簡(jiǎn)要介紹:產(chǎn)品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.

一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍.由于素材是塑料件，在注塑時(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分.另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會(huì)出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況.噴上一層底漆以后，會(huì)形成一個(gè)光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn).

一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等.

PC料耐溫130度，只有"真空電鍍+UV油光固"才可達(dá)到耐130度高溫要求。而一般的水電鍍是無法對(duì)PC料進(jìn)行電鍍的!

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。

加熱金屬的方法:有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。

在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。

置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等)，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低( 10-5Pa )。

鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90%。

1> 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形狀

2> 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴﹒

3> 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低﹒

4> 只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾﹒

5> 對(duì)鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補(bǔ)工件表面缺陷﹒

6> 真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等

UV真空電鍍涂料主要由紫外光固化樹脂、單體、光引發(fā)劑、色料、流平劑、附著力促進(jìn)劑等組成，根據(jù)應(yīng)用面分工，主要由UV真空電鍍底漆和UV真空電鍍面漆組成，為了匹配現(xiàn)代新的電鍍技術(shù)，有的還加有真空電鍍中涂層。