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更新時間:2024.12.28
納米拋光液

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隨著半導體工業(yè)的飛速發(fā)展,化學機械拋光(CMP)漸成為集成電路制造中的一項關鍵工藝,其中拋光液是化學機械拋光過程中重要的消耗品,長期以來國內主要硅材料廠及半導體元件廠依賴進口產品,不僅價格昂貴,而且受制于人。中科院上海微系統(tǒng)所納米技術研究室CMP小組開展了“納米拋光液產業(yè)化關鍵技術”研究,

葉序結構拋光墊表面的拋光液流場分析

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為了解決在化學機械拋光過程中拋光接觸區(qū)域內拋光液的分布均勻性問題,基于生物學的葉序理論,設計葵花籽粒結構的仿生拋光墊,建立化學機械拋光拋光液流場的運動方程和邊界條件,利用流體力學軟件(Fluent)對拋光液的流動狀態(tài)進行仿真,并獲得葉序參數對拋光液流動狀態(tài)的影響規(guī)律。結果表明:拋光液在基于葵花籽粒的仿生拋光墊的流動是均勻的,拋光液沿著逆時針和順時針葉列斜線溝槽流動,有利于流體向四周發(fā)散。

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