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摻Tm3+光纖激光器在工業(yè)、醫(yī)療、科技及軍事領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構(gòu)成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫FBG,即使采用增敏技術(shù)提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調(diào)制量也很小,尚不能滿足應(yīng)用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發(fā)展。以相位掩模法的基本原理為基礎(chǔ),從理論上分析了以飛秒激光為刻寫光源的技術(shù)要點,總結(jié)出與傳統(tǒng)紫外激光刻寫技術(shù)之間的差異及需要注意的問題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫光纖光柵的實驗系統(tǒng),利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫B(tài)ragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結(jié)構(gòu)。實驗結(jié)果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時間短的優(yōu)點。
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伴隨著國內(nèi)市場競爭的日趨激烈,常規(guī)的MPW(多項目晶圓)布局也不能滿足客戶的要求,同時也不能最大限度地降低設(shè)計公司的研發(fā)成本,也不利于國內(nèi)foundry廠市場的開拓。鑒于此,文章著重提出了利用光刻機擋板把光罩進行區(qū)域劃分,在不增加流片和滿足客戶要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客戶的流片費用。通過在15cm片上流片驗證,更加突出了此優(yōu)化光罩布局的方法在研發(fā)成本和滿足客戶要求等方面的優(yōu)越性,因而這種布局對我國集成電路的發(fā)展和新產(chǎn)品的研發(fā)工作,特別是對國內(nèi)中小企業(yè)的成長提供了有力的支持,也為foundry廠贏得市場提供了重要的手段。
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