EDI純水機EDI工藝說明

主要是用TOC脫出燈去除RO水中可能存在的有機碳，避免EDI膜因此形成的結(jié)垢，堵塞膜。

EDI裝置受純水箱液位，及EDI流量開關(guān)控制。

進一步把EDI產(chǎn)水中殘余的鹽份再次去除。使最終產(chǎn)水符合貴司用水要求。

1、預(yù)處理流量≥2.5T/H;

2、一級反滲透產(chǎn)水≥1.5T/H;

3、二級反滲透產(chǎn)水≥1T/H;

4、一級反滲透電導(dǎo)率≤15μs/cm;

5、二級反滲透電導(dǎo)率≤10μs/cm;

6、EDI產(chǎn)水電阻率≥14MΩ·CM;

7、拋光混床產(chǎn)水電阻率≥17MΩ·CM(采用核子級樹脂)(內(nèi)裝25L，每升可產(chǎn)水35-50噸);

8、EDI產(chǎn)水流量≥1000L/H;

9、一級反滲透水利用率≥65%;

10、二級反滲透水利用率≥85%;

11、EDI水利用率≥90%;

12、EDI使用壽命:3-5年(當水質(zhì)、水量不符合標準時需要對膜塊進行清洗)。

市政自來水→原水箱→原水泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→保安過濾器→一級增壓泵→一級RO反滲透→中間水箱→二級增壓泵→二級RO反滲透→純水箱→純水泵→0.45μ精密過濾器→TOC脫除器→EDI裝置→電阻率儀→拋光混床→0.22μ精密過濾器→電阻率儀→清洗機

電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導(dǎo)率在10uS/cm以下純水來清洗，電鍍行業(yè)水處理系統(tǒng)包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統(tǒng)、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環(huán)利用廢水零排放系統(tǒng)。通常系統(tǒng)由超濾裝置，反滲透裝置，離子交換裝置，EDI裝置等組合而成，以滿足電鍍行業(yè)對水質(zhì)的要求。