表面光學(xué)檢測(cè)儀

JB4100型智能化α、β表面污染檢測(cè)儀，適用于低水平α、β輻射表面污染檢測(cè)。儀器采用雙閃探測(cè)器，具有較高的探測(cè)效率;同一探頭能同時(shí)測(cè)量α、β，并自動(dòng)區(qū)分α和β粒子。是環(huán)境實(shí)驗(yàn)室、核醫(yī)學(xué)、分子生物學(xué)、放射化學(xué)、核原料運(yùn)輸、儲(chǔ)存和商檢等領(lǐng)域進(jìn)行α、β輻射表面污染檢測(cè)的理想儀器，該儀器采用單片機(jī)控制，可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的連續(xù)采集。

比表面積測(cè)試方法有兩種分類標(biāo)準(zhǔn)。一是根據(jù)測(cè)定樣品吸附氣體量多少方法的不同，可分為:連續(xù)流動(dòng)法、容量法及重量法(重量法現(xiàn)在基本上很少采用);另一種是根據(jù)計(jì)算比表面積理論方法不同可分為:直接對(duì)比法比表面積分析測(cè)定、Langmuir法比表面積分析測(cè)定和BET法比表面積分析測(cè)定等。同時(shí)這兩種分類標(biāo)準(zhǔn)又有著一定的聯(lián)系，直接對(duì)比法只能采用連續(xù)流動(dòng)法來(lái)測(cè)定吸附氣體量的多少，而BET法既可以采用連續(xù)流動(dòng)法，也可以采用容量法來(lái)測(cè)定吸附氣體量。

1、光學(xué)玻璃表面燒蝕問題及成因

目前光學(xué)玻璃加工過(guò)程中最不好解決的問題是光學(xué)玻璃表面的燒蝕。那么學(xué)玻璃燒蝕是怎樣發(fā)生的呢？光學(xué)玻璃的主要成分為硅酸鹽，其遇水或水蒸汽會(huì)發(fā)生水解作用，形成燒蝕。

水解作用幾乎貫穿了光學(xué)玻璃的整個(gè)加工過(guò)程，無(wú)論是研磨、求芯等工序中或工序間，均會(huì)程度不一地發(fā)生。水解作用的表現(xiàn)形式，或者說(shuō)加劇水解程度的外在條件有很多，比如堿性腐蝕、鹽類腐蝕、溫度腐蝕（包括清洗劑溫度、烘干溫度、室內(nèi)溫度）等。

現(xiàn)以研磨工序?yàn)槔?，說(shuō)明堿性環(huán)境以及加工方法本身是如何加速水解作用的。通常，以CeO2（二氧化鈰）為主要成分的研磨粉是不會(huì)對(duì)鏡片構(gòu)成腐蝕的，但在進(jìn)行研磨加工時(shí)，研磨液是由水加研磨粉配制而成，因此新配制的研磨液的初始pH值是由水和研磨粉的酸堿性共同決定的，一般呈堿性（pH>7）。如前所述，玻璃遇水會(huì)產(chǎn)生水解反應(yīng)，如方程式（1），而生成的H2SiO3（硅酸）呈凝膠狀態(tài)，附在玻璃表層起保護(hù)作用，阻止反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行，同時(shí)一部分H2SiO3（硅酸）分解，生成的SiO2（二氧化硅）附在玻璃表面也可以減緩水解反應(yīng)，起到保護(hù)作用，化學(xué)反應(yīng)方程式如下：

H2SiO3（硅酸）→2H2O+ SiO2（二氧化硅） （5）

隨著玻璃表面的研磨拋光，表層的SiO2（二氧化硅）和大部分的H2SiO3凝膠被去除，打破了方程式（1）、（5）的平衡，使方程式（1）、（5）的反應(yīng)更深入地向右進(jìn)行，生成更多的堿性物質(zhì)，導(dǎo)致研磨液的pH值持續(xù)上升，其中的堿性液體與H2SiO3凝膠反應(yīng)，如方程式（4），如此循環(huán)加速水解反應(yīng)，導(dǎo)致玻璃表面燒蝕。

2、表現(xiàn)及清洗對(duì)策

表面燒蝕的玻璃在經(jīng)過(guò)清洗、漂洗、脫水和干燥處理以后，通常會(huì)有白色霧狀殘留，使用丙酮等擦拭溶劑可以去除，在強(qiáng)光照射下可見塊狀印痕，印痕因玻璃材質(zhì)不同呈不同顏色，一般為藍(lán)色或灰色。這是由于玻璃表面燒蝕后，相應(yīng)位置的折射率發(fā)生變化所致。

由于光學(xué)玻璃的表面精度要求極高，有燒蝕狀況的玻璃會(huì)出現(xiàn)鍍膜不良，影響使用，故必須在鍍膜前予以妥當(dāng)處理。通?？刹捎眠^(guò)堿性清洗的方式解決燒蝕問題。

過(guò)堿性清洗，顧名思義，是采用經(jīng)特殊方法配置而成的強(qiáng)堿性清洗劑，將玻璃鏡片在一定溫度下，浸泡一定的時(shí)間（視鏡片材質(zhì)而定），使玻璃表面產(chǎn)生均勻腐蝕，生成一層極薄的硅酸鹽及硅酸等，同時(shí)通過(guò)控制時(shí)間和溫度，使此種腐蝕的深度極?。ㄒ话銥槭畮字翈资{米），不會(huì)影響鏡片表面精度。通過(guò)外力（超聲波）清洗，使玻璃表面因腐蝕而松動(dòng)的表層脫落，達(dá)到去除因燒蝕產(chǎn)生的塊狀印痕的目的。

綜 述：

目前多數(shù)光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠家都會(huì)進(jìn)行研磨后和鍍膜前兩次清洗，其中研磨后主要清洗瀝青（漆片）和研磨粉，鍍膜前主要清洗求芯油（磨邊油）、指印和灰塵。所采用的清洗工藝也可分為溶劑清洗和半水基清洗兩種，兩者最大的區(qū)別在于前者對(duì)無(wú)機(jī)污染物的清洗完全依賴水基清洗劑，后者所使用的半水基清洗劑對(duì)于無(wú)機(jī)污染物的清洗效果也較好；兩者的共同點(diǎn)是對(duì)于有機(jī)污染物都具有良好的清洗效果，并采用相同的脫水及干燥方式，同時(shí)對(duì)鏡片的安全性極高。

對(duì)于光學(xué)玻璃加工過(guò)程中不可避免的表面燒蝕問題，其成因是由于光學(xué)玻璃的主要成分——金屬氧化物水解反應(yīng)導(dǎo)致的，通常可采用過(guò)堿性清洗的方法，并通過(guò)外力（超聲波）的作用消除燒蝕印痕。

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