抽氣機(jī)

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為空氣抽氣機(jī)之一種，是用來抽出密閉容器內(nèi)氣體的機(jī)器。一般有手搖和電動(dòng)兩種，主要構(gòu)造與吸取式抽水機(jī)相似。其動(dòng)作原理與抽水機(jī)相似，只不過被抽出的物質(zhì)為空氣。

抽氣機(jī)是用來抽出密閉容器內(nèi)氣體的機(jī)器。一般有手搖和電動(dòng)兩種，主要構(gòu)造與抽水機(jī)相似。其工作原理與抽水機(jī)相似，只不過被抽出的物質(zhì)為空氣。而預(yù)壓抽氣機(jī)重要用于二次抽氣時(shí)的預(yù)壓、定位，防止抽氣后電芯表皮起皺。2100433B

如圖所示，在每個(gè)陽極筒內(nèi)發(fā)生的物理過程，可分解成六個(gè)步驟展開說明。

1)圖中A表示在低壓下，當(dāng)陰極和陽極間加上高壓時(shí)，引起場致發(fā)射。

2)圖中B表示在電、磁場作用下電子作螺旋運(yùn)動(dòng)。

3)圖中C表示電子與氣體分子碰撞產(chǎn)生正離子和二次電子，引起雪崩效應(yīng)。

4)圖中D表示正離子轟擊鈦陰極，濺散出鈦原子落在陽極筒上，形成新鮮鈦膜，也有的落在陰板外圍區(qū)(β區(qū))。

5)圖中E表示活性氣體與新鮮鈦膜反應(yīng)形成化合物，化學(xué)吸附在陽極筒內(nèi)壁。隋性氣體被電離，離子在電場作用下轟擊陰極過程中被排出。其排除方式為：(1)離子直接打入陰極表面內(nèi)或β區(qū)(如圖中a)；斜射的離子切入陰極表面，離子和鈦一起被掀掉，埋葬在β區(qū)(圖中b)；(2)離子沒打入陰極內(nèi)，從陰極得一電子恢復(fù)為中性原子或分子，反射到陽極內(nèi)表面被埋掉(圖中c)，這叫“荷能中性粒子反射”。

6)圖中F表示對于氫，由于其質(zhì)量小，氫離子轟擊鈦板的濺射產(chǎn)額甚低，氫離子 H2 或 H 打到鈦板上與電子復(fù)合變成H原子，然后擴(kuò)散入鈦的晶格內(nèi)，形成TIH固溶體而被排出。常溫下這種固溶體中H2的濃度為0.05%，當(dāng)溫度高于250oC以上時(shí)，便又開始分解放出氫。鈦大量吸氫后。由于放熱反應(yīng)鈦板溫度上升，達(dá)到250oC以后，除重新釋放氫之外并導(dǎo)致鈦板晶格膨脹造成龜裂。通常需加大鈦板的散熱能力來改善濺射離子泵對氫的排除能力。要提高對氫的抽速，需保持鈦板表面清潔，選用晶格常數(shù)較大的β-Ti或鈦合金作為陰極板，或引入與氫可比擬的氬含量。因氬的濺散產(chǎn)額高，可提高對氫的抽速。

1 真空系統(tǒng)的組成與設(shè)計(jì)概述

1.1 真空系統(tǒng)的形式與組成

1.1.1 真空系統(tǒng)的形式

1.1.2 真空系統(tǒng)的組成

1.2 真空機(jī)組

1.2.1 低真空抽氣機(jī)組

1.2.2 中真空抽氣機(jī)組

1.2.3 高真空抽氣機(jī)組

1.2.4 超高真空抽氣機(jī)組

1.3 典型真空系統(tǒng)

1.3.1 粗真空系統(tǒng)

1.3.2 低真空系統(tǒng)

1.3.3 中真空系統(tǒng)

1.3.4 高真空系統(tǒng)

1.3.5 超高真空系統(tǒng)

1.4 真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)概述

1.4.1 真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)的已知條件

1.4.2 真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)計(jì)算的一般程序

1.4.3 真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)的基本原則及注意事項(xiàng)

2 真空系統(tǒng)組成元件

3 真空密封連接

4 真空中氣體的流動(dòng)狀態(tài)及判別

5 真空管路的流導(dǎo)計(jì)算

6 真空系統(tǒng)抽氣時(shí)間與壓力計(jì)算

10 真空系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與清潔衛(wèi)生

11 真空系統(tǒng)的安裝調(diào)試與操作維修2100433B