磁控濺射硅靶材及綁定靶材主要技術(shù)

本標準規(guī)定了磁控濺射硅靶材的分類及牌號、原料、技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸、貯存、供貨狀態(tài)及訂貨單（或合同）內(nèi)容。

本標準適用于半導(dǎo)體等電子器件用的各種磁控濺射硅靶材。2100433B

張磊、姜大川、崔娜、李鵬廷、譚毅、顧正、石爽、康明生、朱輝、郄奕、張衛(wèi)、姚玉杰、陳良杰、李云飛、王登科。

青島藍光晶科新材料有限公司、大工(青島)新能源材料技術(shù)研究院有限公司、河北東同光電科技有限公司、大連理工大學。

本標準規(guī)定了磁控濺射硅靶材的分類及牌號、原料、技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸、貯存、供貨狀態(tài)及訂貨單（或合同）內(nèi)容。 本標準適用于半導(dǎo)體等電子器件用的各種磁控濺射硅靶材。

材質(zhì)分類

• 金屬靶材

鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cu、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶、W等。

• 陶瓷靶材

ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

• 合金靶材

鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。

適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶材，鋁靶材的價格較低，所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。