中文名 | 等離子體表面處理儀 | 外文名 | Plasma Cleaner |
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定????義 | 電子設(shè)備 | 目????的 | 清潔、改性、光刻膠灰化等 |
用????途 | 醫(yī)用材料研究,生物芯片領(lǐng)域 | 處理對象 | 金屬,半導(dǎo)體,氧化物等 |
首先,我們來說一下什么叫做等離子體。
等離子體又叫做電漿,是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負電子組成的離子化氣體狀物質(zhì),它廣泛存在于宇宙中,常被視為是除去固、液、氣外,物質(zhì)存在的第四態(tài)。等離子體是一種很好的導(dǎo)電體,利用經(jīng)過巧妙設(shè)計的磁場可以捕捉、移動和加速等離子體。等離子體物理的發(fā)展為材料、能源、信息、環(huán)境空間,空間物理,地球物理等科學(xué)的進一步發(fā)展提新的技術(shù)和工藝。
等離子清洗機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng),不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理。
等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
(1)醫(yī)用材料研究,主要為研究和開發(fā)企業(yè)或研究所;
(2)電子領(lǐng)域,應(yīng)用較為廣泛,如電路板等;
(3)生物芯片領(lǐng)域;
(4)高分子材料研究或開發(fā)單位;
(5)高端和精密研究的清洗、除污。保證儀器的正常使用;
(6)光學(xué)材料的開發(fā)和研究;
(7)電化學(xué)單位,進行表面處理的單位;
(8)其他主要進行表面處理的單位。
等離子體表面活性儀(Plasma Cleaner)
基于表面等離子體共振技術(shù)((Surface plasmon resonance,SPR),又稱表面等離子體子共振,表面等離激元共振,是一種物理光學(xué)現(xiàn)象)...
基于表面等離子體共振技術(shù)((Surface plasmon resonance,SPR),又稱表面等離子體子共振,表面等離激元共振,是一種物理光學(xué)現(xiàn)象)的表面等離子體共振儀是已經(jīng)成為物理學(xué)、化學(xué)和生物...
你說的是等離子體清洗機吧。等離子體清洗機3549元。等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子...
等離子體清洗技術(shù)的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
等離子體清洗還具有以下幾個特點:容易采用數(shù)控技術(shù),自動化程度高;具有高精度的控制裝置,時間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
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利用微束等離子弧對灰鑄鐵表面進行掃描,使其表面形成厚度450~550μm的快速凝固薄層,研究發(fā)現(xiàn)薄層基體為細化的萊氏體組織,原灰鑄鐵基體上的片狀石墨消失,取而代之的是彌散分布的球狀石墨微粒.顯微硬度分析證實微束等離子弧表面處理增強了灰鑄鐵的表面硬度,滑動磨損試驗表明經(jīng)微束等離子弧表面處理的試樣的表面耐磨性得以顯著提高.
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研究45鋼在乙醇胺電解液中實現(xiàn)以滲碳為主的碳氮共滲,獲得以高碳馬氏體和含氮馬氏體為主的表面改性層,使其硬度達到480HV,為基體的1.5倍.結(jié)果表明:45鋼進行液相等離子體碳氮共滲依賴于原子(離子)的吸附和擴散效應(yīng).弧光放電的電離過程產(chǎn)生的大量活性碳、氮原子(離子)被吸附到工件表面,同時弧光放電等離子體對工件的不斷轟擊使工件表面迅速進入奧氏體化的高溫區(qū)間,致使吸附于工件表面的碳、氮原子(離子)通過熱擴散效應(yīng)滲入基體并向內(nèi)擴散.
等離子體的工業(yè)應(yīng)用等離子體表面處理
用低氣壓等離子體處理金屬或非金屬固體表面。低氣壓等離子體中的高能電子以及與分子碰撞時產(chǎn)生的離子、自由基,激發(fā)態(tài)分子和原子都是一些活性粒子,它們能引起一些特殊的化學(xué)反應(yīng)。例如,用等離子體法形成的聚合物薄膜,具有優(yōu)良的機械、電氣、化學(xué)特性。用有機硅單體在光學(xué)透鏡表面沉積10微米的薄層,可改善透鏡的抗劃痕性和反射指數(shù)。用等離子體處理聚酯織物,可以改變表面浸潤性。對塑料表面進行處理或聚合膜層,可以改善表面粘性,改變浸潤性等。等離子體沉積薄膜可以作為反滲透膜(此種膜對通過的海水有較好的脫鹽效果)。此外,低氣壓等離子體可用于金屬固體表面加工。例如,等離子體刻蝕是利用輝光放電在氣體中產(chǎn)生反應(yīng)性氣體,并與固體表面材料化合成揮發(fā)性物質(zhì),而在表面刻蝕出圖象。這種方法在半導(dǎo)體元件生產(chǎn)中有重要用途。又如等離子體鍍膜(又稱離子鍍膜)是將難熔的鍍材或其他鍍材蒸氣在輝光放電中電離成低氣壓等離子體,并與相應(yīng)的電離氣體產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)形成所需的化合物,經(jīng)電場加速后沉積在負偏壓的基體表面上,形成耐磨,耐高溫的高強度膜層。
大功率等離子體表面處理用脈沖電源
一、等離子體電源的特殊性
用于等離子體表面處理的電源不同于其它一般電源就在于它必須滿足于氣體放電特性及表面處理的特殊工藝要求:
1.氣體放電特性與滅弧
等離子體表面處理工作在異常輝光放電區(qū)。這種狀態(tài)極易過度到弧光放電狀態(tài)?;」夥烹姷陌l(fā)展會使電流劇增,既對電源造成威脅,又可能使工件表面燒蝕,必須很快截止。
油垢、銹斑、毛刺及工件吸附氣體到一定溫度后的大量釋放,都會產(chǎn)生弧光放電。而工藝過程必須經(jīng)歷弧光清洗階段,因為,散弧有利于加快處理速度。但大能量的弧光則必須快速截止,這樣,就要求電源自動“判別”,利用散弧,截止大弧。
2.空心陰極效應(yīng)與di/dt限制
圓筒狀工件或工件的孔洞便是空心陰極??招年帢O內(nèi)的電子束彼此匯合,使負輝光并合在一起,其放電電流密度除正離子轟擊陰極所引起的次極電子發(fā)射的貢獻外,還有電子在陰極間來回振蕩以及亞原子轟擊陰極所引起次級電子發(fā)射的貢獻。隨著振蕩的延續(xù),能量不斷積累,電流密度不斷增大(di/dt>0),這樣就會引起局部超溫,這種現(xiàn)象稱為空心陰極效應(yīng),必須有效地控制。
3.巴刑(Paschen)曲線與輔助電源
巴刑曲線為一開口向上的曲線。即點燃電壓Ub隨Pd(P壓強,d極間距)變化有一極小值。
工藝處理過程中,必須克服點燃電壓與正常工作電壓可能相差很大的矛盾。
4.功率密度與節(jié)能
要保證所需滲氮表面均勻地被輝光覆蓋,獲得均勻滲氮,必須工作于異常輝光放電區(qū),而只有當離子功率密度≥0.4W/cm2,才能處在異常輝光放電區(qū)。
在連續(xù)的供電下達到異常輝光放電區(qū),必須以冷卻水增大熱輻射來帶走熱量以使得工作維持在某一溫度,這種能量損失占的比重非常大!
5.工藝要求與參量控制
連續(xù)供電產(chǎn)生輝光放電,其處理工作的溫度由放電的物理參數(shù)(氣壓、電壓、電流)來控制,某些情況下希望物理參數(shù)取較高值,必然帶來溫度無法控制。
為了解決上述矛盾,八十年代后期國際上發(fā)展了脈沖直流輝光放電技術(shù),應(yīng)用效果很好,它是等離子體表面處理的一個重大進展。但由于產(chǎn)品售價高,加上技術(shù)保密,其核心技術(shù)無從考證,至今國內(nèi)大多還采用直流電源來產(chǎn)生輝光放電激發(fā)等離子體。下面介紹我所研制的大功率等離子體表面處理用脈沖電源原理、電路特點和應(yīng)用情況。
二、脈沖輝光放電的特點
(1)脈沖電源進行離子滲氮時,一旦產(chǎn)生弧光立即通過檢測電路傳給主控,在20μs內(nèi)中斷電流弧光電流來不及發(fā)展便自然熄滅。弧光電流雖然集中一點,但能量小,不足以損傷工件。而在轟擊清洗階段,只限制可能發(fā)展成大能量的弧光,利用微弧加快清洗過程,有利提高工效。
PCVD由于常用鹵化物作原料氣,打弧現(xiàn)象更為嚴重,這時,利用脈沖電源來激發(fā)等離子體就更有重要作用了。
(2)離子滲氮時,工件上的小孔、深孔及溝槽部分常會出現(xiàn)空心陰極效應(yīng),脈沖電源可使載流子的集聚很快中斷,從而抑制了空心陰極放電的發(fā)展,保證工件不出現(xiàn)局部過溫而導(dǎo)致變形。這一點在實際應(yīng)用中得到證實。B.Edenhofer用1kHZ脈沖電源使Φ3×50mm的內(nèi)孔中得到了均勻的擴散層。我們在對鋁型材熱擠壓模具進行離子氮化時,使0.6×5mm的窄縫中得到了均勻的擴散層,同時解決了機車曲軸離子氮化時必須堵油孔和平衡孔問題,大大節(jié)省了輔助工時。
對PCVD而言,脈沖電源不僅可以在刃具表面上沉積硬質(zhì)膜,還能在形狀復(fù)雜的模具上獲得均勻的硬質(zhì)涂層,這是一個極有發(fā)展前途的領(lǐng)域。
(3)節(jié)能,脈沖電源取消了串聯(lián)在主電源回路中的限流電阻(離子氮化爐的供電系統(tǒng)區(qū)別于一般可控硅供電系統(tǒng)的重要一點是工作中出現(xiàn)負載打弧短路現(xiàn)象。因此,該電路中必須設(shè)有滅弧電路。而且還要設(shè)有較大的限流電阻)??梢怨?jié)約大量電能。
脈沖電源提供給工件的離子平均功率密度E=E×t/T=DE,(其中D為占空比,E為脈沖功率密度)只要E大于產(chǎn)生異常輝光放電所需的功率密度,脈沖到來就在異常輝光區(qū),工件受到均勻滲氮,而與熱輻射損失相平衡的是平均功率密度E,如果爐體內(nèi)有良好的隔熱屏,熱損失小,就可以通過減小D來與熱輻射相補償,從而減少能耗,國外資料介紹脈沖電源比直流電源節(jié)約30%-50%的能源。
脈沖電源在D較小的情況下,并不影響滲氮時間。這被大量的實驗所證實。理論上,氮氣中脈沖放電單元子氮的產(chǎn)額大于直流放電的產(chǎn)額,具有更高的活性氮原子濃度。
(4)用脈沖電源進行離子滲氮時,工件升溫、保溫,所需的平均功率由D來控制,使得放電的物理參數(shù)(P、V、I)與控溫參數(shù)D分開,使于工藝參數(shù)獨立調(diào)節(jié)。
三、采用IGBT器件的脈沖電源電路結(jié)構(gòu)及特點
等離子體表面處理用脈沖電源有以下幾個特點:
1.斬波頻率較高(對離子滲氮為1kHZ)。
2.工作電壓高(1kV)。
3.負載為輝光放電,負載阻抗在劇烈變化,發(fā)生輝光放電到弧光放電轉(zhuǎn)變時,呈負阻特性。
4.要求放電電壓、電流近似方波。
脈沖電源的核心部分是直流斬波器。電路框圖(略)圖二是實際拍攝的電流、電壓波形當D從15%到85%時(頻率為1kHZ)電流、電壓都近似為矩形波。電壓幅度可以在1kV內(nèi)任意調(diào)節(jié),最大輸出脈沖峰值電流可達240A。此外,在電路設(shè)計上著重解決了以下兩個問題:
1.串聯(lián)問題 斬波器主開關(guān)器件IGBT是一種新型電力電子器件,由于目前市場上IGBT單個器件的耐壓在1200-1600V,必須使用兩個IGBT串聯(lián)工作。如果兩只IGBT不同時開或不同時關(guān),它們各自承受的電壓就不均等,這種不均衡經(jīng)常發(fā)生或某一瞬間嚴重失衡,將導(dǎo)致其中一只IGBT損壞,如果電路中沒有有效的保護措施,另一只IGBT也會緊接著損壞,我們采用了一種特殊的串接方法,并在控制電路中對兩個IGBT的工作均衡狀態(tài)進行實時監(jiān)測,一旦失衡到不允許值即暫中止工作,恢復(fù)平衡后自動重新啟動。這種設(shè)計可使串接的大功率器件能可靠地工作。我們還在驅(qū)動電路上進行了細致的設(shè)計,以盡量減小驅(qū)動帶來的不平衡。
2.保護測控 對弧光、空心陰極效應(yīng),陰陽極短路等引起的過流,檢測電路能迅速傳遞信號,使IGBT在10-20μs內(nèi)截止,既保護了電源主功率器件,又防止了工件燒蝕和部分過溫變形;運用脈沖電源處理工件時,D和峰值電流對工藝影響較大,本電源將二者準確顯示出來;處理工件時,溫度是非常重要的工藝參量,本電源對溫度采取PID控制。
脈沖電源在離子滲氮方面已表現(xiàn)出許多優(yōu)點;如何充分發(fā)揮其易于調(diào)節(jié)工藝參數(shù)的優(yōu)點有待進一步研究。
脈沖電源用于PCVD更具優(yōu)越性。K.-T.Rie等人運用脈沖電源沉積TiN,在較低的脈沖電壓、適當?shù)恼伎毡认?,獲得了高硬度(HV2500)、致密的TiN涂層。
電感耦合等離子體發(fā)光光譜分析(ICP)