環(huán)拋機(jī)是上海中晶企業(yè)發(fā)展有限公司創(chuàng)新研制的大型平面高精度光學(xué)加工設(shè)備,產(chǎn)品定名為CM系列。環(huán)拋機(jī)是依據(jù)環(huán)形連續(xù)拋光法設(shè)計(jì)的設(shè)備。環(huán)形連續(xù)拋光,是一種復(fù)制拋光,修正盤校整瀝青膠盤,瀝青膠盤再拋光被加工零件。因此,環(huán)形連續(xù)拋光的核心就是如何獲得高精度的瀝青拋光模,在元件條件恒定的狀態(tài)下拋光,獲得高精度元件。環(huán)拋機(jī)就是基于這個(gè)目的研制的,其核心就是實(shí)現(xiàn)運(yùn)行因素的可控。
中文名稱 | 環(huán)拋機(jī) | 公司 | 上海中晶企業(yè)發(fā)展有限公司 |
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類型 | 高精度光學(xué)加工設(shè)備 | 產(chǎn)品定名 | CM系列 |
環(huán)拋機(jī)最主要的特點(diǎn)是加工精度高、效率突出,可以穩(wěn)定實(shí)現(xiàn)大口徑元件(Φ400-1000mm)面形1/6λ的精度要求。環(huán)拋機(jī)產(chǎn)品已經(jīng)投入國防、航天航空領(lǐng)域的國家重大專項(xiàng)中。
環(huán)拋機(jī)CM系列環(huán)拋機(jī)被光學(xué)專家贊譽(yù)為"代表中國新一代環(huán)拋機(jī)的發(fā)展方向"。而上海中晶企業(yè)發(fā)展有限公司作為目前國內(nèi)大型環(huán)拋機(jī)的專業(yè)制造商,引領(lǐng)著中國環(huán)拋機(jī)的發(fā)展方向。
環(huán)拋機(jī)具有工件盤、修正盤主動受控環(huán)拋功能、自動開槽功能、各盤坐標(biāo)定位功能、自動取放工件功能、機(jī)械手取放系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、自動加液系統(tǒng),還有諸多結(jié)合工藝的特殊系統(tǒng)和功能。
不再另行計(jì)算刨溝刨槽的工程量; 土建和電氣不是一個(gè)隊(duì)伍施工,土建已完工 安裝施工發(fā)生的該項(xiàng)費(fèi)用應(yīng)該辦理簽證;
上膏,將雕好的翡翠的表面涂上一層膏狀的拋光粉,綠色的為氧化鉻橙紅色的為氧化鈰。細(xì)工,開始對大工具拋不到的小地方來拋磨.用竹子,沾鉆石粉,大一點(diǎn)用竹筷子,小的地方就要用到竹牙簽了。精拋,將翡翠涂上鉆石粉...
上膏,將雕好的翡翠的表面涂上一層膏狀的拋光粉,綠色的為氧化鉻橙紅色的為氧化鈰。細(xì)工,開始對大工具拋不到的小地方來拋磨.用竹子,沾鉆石粉,大一點(diǎn)用竹筷子,小的地方就要用到竹牙簽了。精拋,將翡翠涂上鉆石粉...
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評分: 4.7
分析了一種光纖連接器端面研拋機(jī)的運(yùn)動原理。推導(dǎo)出工件相對于研磨盤的運(yùn)動軌跡S1和研磨盤相對于工件的運(yùn)動軌跡S2的表達(dá)式,得出S1、S2均為次擺線,分析了軌跡隨相關(guān)參數(shù)的變化規(guī)律。對于S1,次外和次內(nèi)擺線的分界點(diǎn)為速比I=1。研究了工件均勻研拋和砂紙均勻磨損的機(jī)理,即相對軌跡弧長S對相應(yīng)半徑R的微分dS/dR應(yīng)與R成線性關(guān)系,推導(dǎo)出相應(yīng)線性系數(shù)k的表達(dá)式,并通過單因素試驗(yàn)法求出優(yōu)化參數(shù)配置。
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評分: 4.3
針對大口徑方形超薄光學(xué)元件的拋光,提出一種新型的基于環(huán)擺拋的雙面拋光方法,該方法將環(huán)形拋光和鐘擺式拋光的運(yùn)動方式和加工機(jī)理耦合起來,使其具備同步控制大口徑方形超薄光學(xué)元件透射波前和反射面形的特點(diǎn)。從理論上介紹了該方法的拋光原理,利用研制的雙面拋光原理樣機(jī),通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了對大口徑超薄光學(xué)元件的面形修正能力,證實(shí)了這種雙面拋光方法的可行性。該方法在控制大口徑超薄光學(xué)元件的透射波前和反射面形上具有顯著的效果。