(1) 輸出特性:是UGE一定時集電極電流Ic與集電極-發(fā)射極電壓UCE的函數(shù)關(guān)系,即Ic=f(UCE)。 圖1示出IGBT的輸出特性。UGE=0的曲線對應(yīng)于IGBT處于斷態(tài)。在線性導電區(qū)I,UCE增大,Ic增大。在恒流飽和區(qū)Ⅱ,對于一定的UGE,UCE增大,IC不再隨UCE而增大。{{分頁}} 在UCE為負值的反壓下,其特性曲線類似于三極管的反向阻斷特性。 為了使IGBT安全運行,它承受的外加壓、反向電壓應(yīng)小于圖1(c)中的正、反向折轉(zhuǎn)擊穿電壓。 (2) 轉(zhuǎn)移特性:是圖1(d)所示的集電極電流Ic與柵極電壓UGE的函數(shù)關(guān)系,即Ic=f(UGE)。 當UGE小于開啟閾值電壓UGE th時,等效MOSFET中不能形成導電溝道;因此IGBT處于斷態(tài)。當UGE>UGE th后,隨著UGE的增大,Ic明顯上升。實際運行中,外加電壓UGE的最大值UGEM一般不超過15V,以限制Ic 不超過IGBT管的答應(yīng)值ICM。IGBT在額定電流時的通態(tài)壓降一般為1.5~3V。其通態(tài)壓降常在其電流較大(接近額定值)時具有正的溫度系數(shù)(Ic增大時,管壓降大);因此在幾個IGBT并聯(lián)使用時IGBT器件具有電流自動調(diào)節(jié)均流的能力,這就使多個IGBT易于并聯(lián)使用。
圖2示出了IGBT的開通和關(guān)斷過程。開通過程的特性類似于MOSFET;由于在這個區(qū)間,IGBT大部分時間作為MOSFET運行。開通時間由4個部分組成。開通延遲時間td是外施柵極脈沖從負到正跳變開始,到柵-射電壓充電到UGE th的時間。這以后集電極電流從0開始上升,到90%穩(wěn)態(tài)值的時間為電流上升時間tri。在這兩個時間內(nèi),集-射極間電壓UCE基本不變。此后,UCE開始下降。下降時間tfu1是MOSFET工作時漏-源電壓下降時間tfu2是MOSFET和PNP晶體管同時工作時漏-源電壓下降時間;因此,IGBT開通時間為 ton=td+tr+tfu1+tfu2。 開通過程中,在td、tr時間內(nèi),柵-射極間電容在外施正電壓作用下充電,且按指數(shù)規(guī)律上升,在tfu1、tfu2這一時間段內(nèi)MOSFET開通,流過對GTR的驅(qū)動電流,柵-射極電壓基本維持IGBT完全導通后驅(qū)動過程結(jié)束。柵-射極電壓再次按指數(shù)規(guī)律上升到外施柵極電壓值。 IGBT關(guān)斷時,在外施柵極反向電壓作用下,MOSFET輸進電容放電,內(nèi)部PNP晶體管仍然導通,在最初階段里,關(guān)斷的延遲時間td和電壓UCE的上升時間tr,由IGBT中的MOSFET決定。關(guān)斷時IGBT和MOSFET的主要差別是電流波形分為tfi1和tfi2兩部分,其中,tfi1由MOSFET決定,對應(yīng)于MOSFET的關(guān)斷過程;tfi2由PNP晶體管中存儲電荷所決定。由于在tfi1末尾MOSFET已關(guān)斷,IGBT又無反向電壓,體內(nèi)的存儲電荷難以被迅速消除;所以漏極電流有較長的下降時間。由于此時漏源電壓已建立,過長的下降時間會產(chǎn)生較大的功耗,使結(jié)溫增高;所以??聪陆禃r間越短越好。
由圖1(b)電路可以看到IGBT內(nèi)部的寄生三極管T2與輸出三極管T1等效于一個晶閘管。內(nèi)部體區(qū)電阻Rbr上的電壓降為一個正向偏壓加在寄生三極管T2的基極和發(fā)射極之間。當IGBT處于截止狀態(tài)和處于正常穩(wěn)定通態(tài)時(ic不超過答應(yīng)值時),Rbr上的壓降都很小,不足以產(chǎn)生T2的基極電流,T2不起作用。但假如ic瞬時過大,Rbr上壓降過大,則可能使T2導通,而一旦T2導通,即使撤除門極電壓UGE,IGBT仍然會像晶閘管一樣處于通態(tài),使門極G失往控制作用,這種現(xiàn)象稱為擎住效應(yīng)。在IGBT的設(shè)計制造時已盡可能地降低體區(qū)電阻Rbr,使IGBT的集電極電流在最大答應(yīng)值ICM時,Rbr上的壓降仍小于T2管的起始導電所必須的正偏壓。但在實際工作中ic一旦過大,則可能出現(xiàn)擎住效應(yīng)。假如外電路不能限制ic的增長,則可能損壞器件。{{分頁}} 除過大的ic可能產(chǎn)生擎住效應(yīng)外,當IGBT處于截止狀態(tài)時,假如集電極電源電壓過高,使T1管漏電流過大,也可能在Rbr上產(chǎn)生過高的壓降,使T2導通而出現(xiàn)擎住效應(yīng)。 可能出現(xiàn)擎住效應(yīng)的第三個情況是:在關(guān)斷過程中,MOSFET的關(guān)斷十分迅速,MOSFET關(guān)斷后圖1(b)中三極管T2的J2結(jié)反偏電壓UBA增大,MOSFET關(guān)斷得越快,集電極電流ic減小得越快,則UCA=Es-R
電力MOSFET器件是單極型(N溝道MOSFET中僅電子導電、P溝道MOSFET中僅空穴導電)、電壓控制型開關(guān)器件;因此其通、斷驅(qū)動控制功率很小,開關(guān)速度快;但通態(tài)降壓大,難于制成高壓大電流開關(guān)器件。電力三極晶體管是雙極型(其中,電子、空穴兩種多數(shù)載流子都參與導電)、電流控制型開關(guān)器件;因此其通-斷控制驅(qū)動功率大,開關(guān)速度不夠快;但通態(tài)壓降低,可制成較高電壓和較大電流的開關(guān)器件。為了兼有這兩種器件的優(yōu)點,棄其缺點,20世紀80年代中期出現(xiàn)了將它們的通、斷機制相結(jié)合的新一代半導體電力開關(guān)器件--盡緣柵極雙極型晶體管(insulated gate bipolar transistor,IGBT)。它是一種復合器件,其輸進控制部分為MOSFET,輸出級為雙級結(jié)型三極晶體管;因此兼有MOSFET和電力晶體管的優(yōu)點,即高輸進阻抗,電壓控制,驅(qū)動功率小,開關(guān)速度快,工作頻率可達到10~40kHz(比電力三極管高),飽和壓降低(比MOSFET 小得多,與電力三極管相當),電壓、電流容量較大,安全工作區(qū)域?qū)?。目?500~3000V、800~1800A的IGBT器件已有產(chǎn)品,可供幾千kVA以下的高頻電力電子裝置選用。 圖1為IGBT的符號、內(nèi)部結(jié)構(gòu)等值電路及靜態(tài)特性。IGBT也有3個電極:柵極G、發(fā)射極E和集電極C。輸進部分是一個MOSFET管,圖1中Rdr表示MOSFET的等效調(diào)制電阻(即漏極-源極之間的等效電阻RDS)。輸出部分為一個PNP三極管T1,此外還有一個內(nèi)部寄生的三極管T2(NPN管),在NPN晶體管T2的基極與發(fā)射極之間有一個體區(qū)電阻rbr。 當柵極G與發(fā)射極E之間的外加電壓UGE=0時,MOSFET管內(nèi)無導電溝道,其調(diào)制電阻Rdr可視為無窮大,Ic=0,MOSFET處于斷態(tài)。在柵極G與發(fā)射極E之間的外加控制電壓UGE,可以改變MOSFET管導電溝道的寬度,從而改變調(diào)制電阻Rdr,這就改變了輸出晶體管T1(PNP管)的基極電流,控制了IGBT管的集電極電流Ic。當UGE足夠大時(例如15V),則T1飽和導電,IGBT進進通態(tài)。一旦撤除UGE,即UGE=0,則MOSFET從通態(tài)轉(zhuǎn)進斷態(tài),T1截止,IGBT器件從通態(tài)轉(zhuǎn)進斷態(tài)。
優(yōu)點是工作速度快,噪聲?。蝗秉c是不易集成,還有功耗太大。
一、單極型晶體管在目前使用的pnp或npn面結(jié)型晶體管的工作中,包括金屬-氧化物-半導體晶體管在內(nèi)的場效應(yīng)晶體管,只需要一種載流子,這種晶體管就叫做單極晶體管。單極晶體管即場效應(yīng)晶體管,因為場效應(yīng)晶體...
晶體管(transistor)是一種固體半導體器件,可以用于檢波、整流、放大、開關(guān)、穩(wěn)壓、信號調(diào)制和許多其它功能。晶體管作為一種可變開關(guān),基于輸入的電壓,控制流出的電流,開關(guān)速度可以非常之快,在實驗室...
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評分: 4.4
介紹了絕緣柵雙極晶體管(IGBT)的基本結(jié)構(gòu)和工作原理;討論了IGBT各關(guān)鍵參數(shù)和結(jié)構(gòu)設(shè)計中需要考慮的主要問題;分析了IGBT設(shè)計中需要協(xié)調(diào)的幾對矛盾參數(shù)的關(guān)系以及影響IGBT可靠性的關(guān)鍵因素。
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評分: 4.3
采用8只IXLF19N250A絕緣柵雙極型晶體管串聯(lián)研制成功了10kV固體開關(guān)。試驗表明:該固體開關(guān)最高輸出電壓為14kV,最高輸出脈沖電流為20A、輸出脈沖寬度可在2112μs之間以1μs步長變化,脈沖重復頻率范圍為1Hz4kHz,短時間可以工作到8.6kHz。
圖1(a)所示為一個N 溝道增強型絕緣柵雙極晶體管結(jié)構(gòu), N 區(qū)稱為源區(qū),附于其上的電極稱為源極。N 區(qū)稱為漏區(qū)。器件的控制區(qū)為柵區(qū),附于其上的電極稱為柵極。溝道在緊靠柵區(qū)邊界形成。在漏、源之間的P 型區(qū)(包括P 和P 一區(qū))(溝道在該區(qū)域形成),稱為亞溝道區(qū)( Subchannel region )。而在漏區(qū)另一側(cè)的P 區(qū)稱為漏注入?yún)^(qū)( Drain injector ),它是IGBT 特有的功能區(qū),與漏區(qū)和亞溝道區(qū)一起形成PNP 雙極晶體管,起發(fā)射極的作用,向漏極注入空穴,進行導電調(diào)制,以降低器件的通態(tài)電壓。附于漏注入?yún)^(qū)上的電極稱為漏極。
IGBT 的開關(guān)作用是通過加正向柵極電壓形成溝道,給PNP 晶體管提供基極電流,使IGBT 導通。反之,加反向門極電壓消除溝道,流過反向基極電流,使IGBT 關(guān)斷。IGBT 的驅(qū)動方法和MOSFET 基本相同,只需控制輸入極N一溝道MOSFET ,所以具有高輸入阻抗特性。當MOSFET 的溝道形成后,從P 基極注入到N 一層的空穴(少子),對N 一層進行電導調(diào)制,減小N 一層的電阻,使IGBT 在高電壓時,也具有低的通態(tài)電壓。
絕緣柵雙極晶體管(Insulate-Gate Bipolar Transistor-IGBT)綜合了電力晶體管(Giant Transistor-GTR)和電力場效應(yīng)晶體管(Power MOSFET)的優(yōu)點,具有良好的特性,應(yīng)用領(lǐng)域很廣泛;IGBT也是三端器件:柵極,集電極和發(fā)射極。 IGBT(InsulatedGateBipolarTransistor)是MOS結(jié)構(gòu)雙極器件,屬于具有功率MOSFET的高速性能與雙極的低電阻性能的功率器件。IGBT的應(yīng)用范圍一般都在耐壓600V以上、電流10A以上、頻率為1kHz以上的區(qū)域。多使用在工業(yè)用電機、民用小容量電機、變換器(逆變器)、照相機的頻閃觀測器、感應(yīng)加熱(InductionHeating)電飯鍋等領(lǐng)域。根據(jù)封裝的不同,IGBT大致分為兩種類型,一種是模壓樹脂密封的三端單體封裝型,從TO-3P到小型表面貼裝都已形成系列。另一種是把IGBT與FWD (FleeWheelDiode)成對地(2或6組)封裝起來的模塊型,主要應(yīng)用在工業(yè)上。模塊的類型根據(jù)用途的不同,分為多種形狀及封裝方式,都已形成系列化。
IGBT是強電流、高壓應(yīng)用和快速終端設(shè)備用垂直功率MOSFET的自然進化。MOSFET由于實現(xiàn)一個較高的擊穿電壓BVDSS需要一個源漏通道,而這個通道卻具有很高的電阻率,因而造成功率MOSFET具有RDS(on)數(shù)值高的特征,IGBT消除了現(xiàn)有功率MOSFET的這些主要缺點。雖然最新一代功率MOSFET器件大幅度改進了RDS(on)特性,但是在高電平時,功率導通損耗仍然要比IGBT 高出很多。IGBT較低的壓降,轉(zhuǎn)換成一個低VCE(sat)的能力,以及IGBT的結(jié)構(gòu),與同一個標準雙極器件相比,可支持更高電流密度,并簡化 IGBT驅(qū)動器的原理圖。
絕緣柵雙極晶體管(Insulate-Gate Bipolar Transistor—IGBT)綜合了電力晶體管(Giant Transistor—GTR)和電力場效應(yīng)晶體管(Power MOSFET)的優(yōu)點,具有良好的特性,應(yīng)用領(lǐng)域很廣泛;IGBT也是三端器件:柵極,集電極和發(fā)射極。 IGBT(InsulatedGateBipolarTransistor)是MOS結(jié)構(gòu)雙極器件,屬于具有功率MOSFET的高速性能與雙極的低電阻性能的功率器件。IGBT的應(yīng)用范圍一般都在耐壓600V以上、電流10A以上、頻率為1kHz以上的區(qū)域。多使用在工業(yè)用電機、民用小容量電機、變換器(逆變器)、照相機的頻閃觀測器、感應(yīng)加熱(InductionHeating)電飯鍋等領(lǐng)域。根據(jù)封裝的不同,IGBT大致分為兩種類型,一種是模壓樹脂密封的三端單體封裝型,從TO-3P到小型表面貼裝都已形成系列。另一種是把IGBT與FWD (FleeWheelDiode)成對地(2或6組)封裝起來的模塊型,主要應(yīng)用在工業(yè)上。模塊的類型根據(jù)用途的不同,分為多種形狀及封裝方式,都已形成系列化。
IGBT是強電流、高壓應(yīng)用和快速終端設(shè)備用垂直功率MOSFET的自然進化。MOSFET由于實現(xiàn)一個較高的擊穿電壓BVDSS需要一個源漏通道,而這個通道卻具有很高的電阻率,因而造成功率MOSFET具有RDS(on)數(shù)值高的特征,IGBT消除了現(xiàn)有功率MOSFET的這些主要缺點。雖然最新一代功率MOSFET器件大幅度改進了RDS(on)特性,但是在高電平時,功率導通損耗仍然要比IGBT 高出很多。IGBT較低的壓降,轉(zhuǎn)換成一個低VCE(sat)的能力,以及IGBT的結(jié)構(gòu),與同一個標準雙極器件相比,可支持更高電流密度,并簡化 IGBT驅(qū)動器的原理圖。